「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(92ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an elevator control system for stopping the setting of the parking floor to a passenger pattern preferable for not performing parking operation in the specific floor since the alighting floor of a certain passenger and the boarding floor of the next passenger are the same such as reciprocating behavior between the specific floors of a passenger and patrolling behavior for respectively moving by one story floor.例文帳に追加

乗客の特定階間の往復行動や、１階床づつ移動する巡回行動など、ある乗客の降車階と次の乗客の乗車階が同じであり、特定の階にパーク動作を行なわない方がよい乗客パターンに対してパーク階設定を中止するエレベータ制御装置を提供する。 - 特許庁

Although character lack is conventionally generated at the edge part of the anode 1 in the lower part of the grid 2 by adjoined two negative potential anodes, since an area enlarged part 3 allowing for a display lack part is formed in the same position, emission is performed in a pattern needed for actual display and unnecessary black lines do not produced on a screen.例文帳に追加

隣接する−電位のアノード１等により、従来はグリッド２の下方のアノード１の縁部に字カケが発生したが、本発明は同位置に表示欠けの部分を見込んだ面積拡大部３があるので実際に表示に必要なパターンで発光し、表示面に不要な黒線は生じない。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material of a multilayer resist film used in lithography, for forming a resist underlayer film capable of reducing reflectance, having high etching resistance, high heat resistance and solvent resistance, and free of the occurrence of twist particularly in the etching of a substrate; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The Pachinko game machine 100 includes multiple kinds of advance notice performances, executes the multiple kinds of advance notice performances at the same time, and regulates one of the plurality of advance notice performances when predetermined conditions are satisfied during pattern variation display.例文帳に追加

パチンコ機１００は、複数種類の先読み予告報知演出を備えるとともに、当該複数種類の先読み予告報知演出を同時期に実行可能とされており、図柄変動表示中における所定条件の成立を契機にいずれかの先読み予告報知演出を規制するようになっている。 - 特許庁

That same year, the following statement by a radical political activist appeared in the "Tokyo Nichinichi Shinbun" (the 'Tokyo Daily Newspaper'): "if you see the emerging pattern, that the target of the parties' pro-democracy political activists must not be limited to Inoue, and the current situation demands that all the mayor conservatives in the Diet deserve violent treatment, you should perceive that riot and strife of any imaginable scale could occur at any moment, and so on." 例文帳に追加

この年の『東京日日新聞』に「民党壮士が目指すものは独り井上に止まらず、温派議員の錚々たる者には総て乱暴を仕掛くべしとの模様も見ゆれば、今程は何れにても如何なる騒動の起り居るならんも知らずと云々」と過激な壮士の発言が掲載された。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The PWM converter 24 creates the PWM signals which are the PWM pattern signals of the section of 1/2^n phase representing the potential and are not at least the same in all relating to each potential 2^(n-1) times, thereby creating the respective PWM signals of the segment lines and the common lines.例文帳に追加

ＰＷＭ変換器２４は、各電位について、当該電位を表す１／２^ｎフェーズの区間のＰＷＭパターン信号であって、少なくとも全てが同一とはならないＰＷＭパターン信号を２^（ｎ−１）回生成することにより、セグメント線およびコモン線のそれぞれのＰＷＭ信号を生成する。 - 特許庁

This optical information recording is provided with a recording optical system which irradiates an information recording layer from the same surface side with object light and recording reference light so that the information is recorded on the information recording layer with an interference pattern formed by the interference of the object light and the recording reference light.例文帳に追加

本発明による光情報記録装置は、情報記録層に物体光と記録用参照光との干渉による干渉パターンによって情報が記録されるように、物体光と記録用参照光とを、情報記録層に対して同一面側より照射する記録光学系を備える。 - 特許庁

The pachinko machine 1 also has a special information display means for displaying special information in time series, interrelating the game state just before the game state is switched to the bonus state with the kind of combination of same symbols stopped and displayed in the pattern display device 5 just before the game state is switched to the bonus state.例文帳に追加

このパチンコ機１は、特賞状態に切換えられる直前の遊技状態と、当該特賞状態に切換えられる直前に図柄表示装置５に停止表示されたゾロ目の種類とを対応づけた特別情報を時系列的に表示する特別情報表示手段を備える。 - 特許庁

A representative constitution of the panel for the exterior forms the same surface shape as that of an exterior wall panel 4 by using a mold 14 molding the surface design from the exterior wall panel 4 of a building 2 to which the surface design such as a facing groove and an unevenness pattern or the like by unevenness working is applied.例文帳に追加

本発明に係る外構用パネルの代表的な構成は、凹凸加工により化粧溝や凹凸模様等の表面デザインが施された建物２の外壁パネル４から表面デザインを型取りした型14を用いて、外壁パネル４と同一の表面形状を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

In this elevator control system for controlling an elevator where plural cars are commissioned in one shaft, plural deceleration patterns are prepared, so that the car can be decelerated and landed in accordance with the deceleration pattern selected in consideration of positions of the other cars in the same shaft, when one of plural cars travels and stops at a destination floor.例文帳に追加

１本のシャフト内に複数のかごが就役するエレベータを制御するエレベータ制御システムにおいて、複数の減速パターンを有し、複数のかごの一つが目的階へ走行して停止しようとするとき、同一シャフト内の他のかごの位置に応じて選択した減速パターンに従って減速し着床させる。 - 特許庁

In the conductive member 310, when a total area of a region facing the detection electrodes of the same type becomes maximum, a maximum area Smax being a maximum value of the total area is substantially equal to a facing area SG where the ground facing portion 311 of the conductive member 310 faces the ground pattern 308.例文帳に追加

導電部材３１０のうち、同一種類の検出電極に対して対向する領域の総面積が最大となるとき、その総面積の最大値である最大面積Ｓｍａｘは、導電部材３１０のグランド対向部３１１がグランドパターン３０８と対向する対向面積ＳＧと略等しい。 - 特許庁

Assuming the number of nozzle group is 'N' and the number of scanning times of a recording head to the same scanning region on a recording sheet is 'M', a mask pattern is set with a pixel region on the recording sheet consisting of 'M' pixels in the main scanning direction of an ink jet head 1 and 'M×N' pixels in the subscanning direction as a control unit for imaging.例文帳に追加

ノズル群の数を「Ｎ」とし、記録用紙上の同一走査領域に対する記録ヘッドの走査回数を「Ｍ」としたとき、インクジェットヘッド１の主走査方向に「Ｍ」個の画素、副走査方向に「Ｍ×Ｎ」個の画素で成る記録用紙上の画素領域を、画像形成のための制御単位としてマスクパターンを設定する。 - 特許庁

In forming a multilayer interconnect structure, a first insulating film 6, 6a is formed on a lower interconnect layer 1, 1a, the first layer having the same interconnect pattern as the lower interconnect layer; and etching speed of the first insulating film is set faster than that of a second insulating film 7 which becomes an interconnect insulating film between 1 and 1a of the lower interconnect layer.例文帳に追加

多層配線構造の形成において、下層配線１．１ａ上に下層配線と同一パターンの第１の絶縁膜６．６ａを形成し、第１の絶縁膜のエッチング速度が、下層配線１．１ａの配線間絶縁膜となる第２の絶縁膜７のエッチング速度より大きくなるようにする。 - 特許庁

To provide a display device for a game machine capable of a light emitting display form full of diversity and game properties without increasing the number of substrates for light emitting elements or complicating a structure at the time of diversifying and varying pattern display forms while utilizing the clarity of the light emitting elements, and the game machine using the same.例文帳に追加

発光素子の明瞭性を活かしつつ図柄表示態様の多様化・多彩化を図る際に、発光素子用の基板数を増加させたり構造を複雑化させたりすることなく多様性・ゲーム性に富んだ発光表示形態を可能とした遊技機用表示装置とそれを用いた遊技機を提供する。 - 特許庁

In this moving amount arithmetic unit, matching inspection areas of a prescribed shape is cut out from frames imaged by the camera to be pattern-matched between the frames, the position of a subjected point, corresponding to the same feature point, is calculated at each of the frames, a displacement amount between the calculated positions of the subjected points is found to serve as the moving amount between the frames.例文帳に追加

カメラで撮像したフレームから所定形状のマッチング検査領域を切り出してフレーム間でパターンマッチングを行い、同一の特徴点に対応する被写点の位置をフレーム毎に算出し、算出した両被写点位置間の変位量を求めて両フレーム間での移動量とする移動量演算装置。 - 特許庁

A display controlling means changes patterns for an auxiliary display being displayed on a pattern display device, and at the same time, performs a display-control in such a manner that variation configurations of the patterns for the auxiliary display may be differed depending on the winning/missing by a lottery means (A43 to A44, and A43 to A47).例文帳に追加

表示制御手段は、操作入力手段による操作入力に応じて、図柄表示装置に表示される補助表示用図柄を変化させると共に、抽選手段の当り外れの別に応じて、補助表示用図柄の変化態様を異ならせるように表示制御する（Ａ４３〜Ａ４４、Ａ４３〜Ａ４７）。 - 特許庁

Thereafter, a wiring groove is formed in the second organic film 605A by etching the film 605A by using the mask pattern 608 as a mask and the first organic film 603 by using the silicon oxide film 604 as a mask and, at the same time, a contact hole is formed in the first organic film 603.例文帳に追加

第２の有機膜６０５Ａに対してマスクパターン６０８をマスクとしてエッチングを行なうと共に、第１の有機膜６０３に対してシリコン酸化膜をマスクとしてエッチングを行なって、第２の有機膜６０５Ａに配線溝を形成すると共に、第１の有機膜６０３にコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has excellent sensitivity, and can suppress undercut occurred in a pattern after development even in such a situation that the photosensitive resin composition contains a light shielding agent or has insufficient exposure; and a color filter and a display device using the same.例文帳に追加

良好な感度を有し、かつ、感光性樹脂組成物が遮光剤を含んだり、露光量が不足したりするような状況にあっても、現像後のパターンにアンダーカットが生じることを抑制することのできる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置を提供すること。 - 特許庁

This solid preparation is covered with a continuous film coating layer having two or more colors or having a pattern having two or more colors and obtained by irradiating a part of a film coating layer containing one or more color pigments with light, a method for producing the same, and a film- coating agent are provided.例文帳に追加

本発明は、１色以上の色素を含むフィルムコーティング層の一部に光を照射することにより得られる２色以上の色彩又は２色以上の色彩の図柄を有する連続したフィルムコーティング層で被覆された固形製剤、その製造方法及びフィルムコーティング剤を提供することを目的とする。 - 特許庁

To realize a high heat releasing resin substrate excellent in heat releasing property with its significantly simple structure, capable of reliably performing electrical connection between a wiring pattern on a lead frame of the high heat releasing resin substrate and a base plate, and also excellent in workability, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、非常に簡単な構成により、放熱性に非常に優れ、高放熱樹脂基板のリードフレーム上に設けられた配線パターンとベースプレートとの電気的な接続を確実に行うことができるとともに、作業性にも非常に優れた高放熱樹脂基板およびその製造方法を実現することを目的とする。 - 特許庁

An in-pulse phase separating circuit 51 detects the pulse trains having the same phase characteristic through pattern recognition by detecting the phase characteristic peculiar to a radio wave emitting device caused by the component of the device and a PRF measuring circuit 52 calculates PRFs from the detected pulse trains.例文帳に追加

この抽出したパルス列ごとにパルス内位相分離回路５１で、電波発射装置の構成部品に起因する電波発射装置固有の位相特性を検出してパタン認識により同一の位相特性を有するパルス列を検出し、この検出したパルス列からＰＲＦ計測回路５２でＰＲＦを算出する。 - 特許庁

To provide an excellent photosensitive adhesive composition which enables pattern formation and further which not only has both excellent followability and high adhesivity to fine unevenness but also causes no bedewing in a hollow part when applied to a hollow member, and to provide the hollow member obtained by using the same.例文帳に追加

パターン形成が可能で、しかも微細な凹凸に対する優れた追従性と高い接着力を兼ね備えているだけでなく、中空部材に適用した場合に、その中空部に結露を生じることのない、優れた感光性接着剤組成物と、それを用いて得られる中空部材を提供する。 - 特許庁

Besides, by switching a pattern for generating a hologram displayed on the modulator 5 and repeating the same operation, plural three- dimensional pictures with different incidet angles are multiply recorded on the medium 12.例文帳に追加

空間光変調器をホログラム用物体光発生源として用いた三次元ホログラム表示装置において、空間光変調器で作製した複数の物体光をフォトリフラクティブ効果を有する記録媒体に逐次蓄積する手段と、該蓄積された複数の物体光を一括再生する手段を具備する装置である。 - 特許庁

An area D2 for manufacturing the photo mask having the shading pattern formed of the organic film and areas D3-D9 for manufacturing the semiconductor integrated circuit device are arranged in the same clean room D1, and the manufacturing devices and inspection devices are shared when the photo mask and the semiconductor integrated circuit device are manufactured.例文帳に追加

同一のクリーンルームＤ１内に、有機膜からなる遮光パターンを有するフォトマスクを製造するエリアＤ２と、半導体集積回路装置を製造するエリアＤ３〜Ｄ９とを設け、そのフォトマスクの製造と、半導体集積回路装置の製造に際して、製造装置および検査装置を共用するようにした。 - 特許庁

The identification marks (for three manufacturers 23a, 23b, and 23c of a Pachinko game machine which uses this main control board 20) of the same kind for specifying a main control board 20 is displayed in an area of the surface of a base board 21, except a wiring pattern formation area, and the main control board 20 is stored in this condition.例文帳に追加

ベース基板２１上における配線パターンの形成領域以外の領域に、メイン制御基板２０を特定するための同種類の識別標識を複数表示（このメイン制御基板２０を使用する弾球遊技機の３つの製造業者２３ａ，２３ｂ，２３ｃ）し、この状態で保管しておく。 - 特許庁

The shape of the ink pattern is kept when the ink 22 is printed to the substrate 25 to be printed by an offset printing method and all the ink is printed onto the substrate 25 to be printed and contamination is not transferred to the substrate 25 to be printed by arranging the ink repellent material on the surface of the blanket 21 in the state securing the same by chemical bond.例文帳に追加

ブランケット２１表面に撥インキ材料を化学結合で固定した状態で設けることにより、オフセット印刷法によりインキ２２を被印刷基板上２５に印刷する際に、インキパターンの形状を維持し、且つ、被印刷基板２５に対してインキが全て印刷され、被印刷基板２５に対してコンタミが転移しない。 - 特許庁

A conductor layer in the same shape as the pattern of the bias circuit formed on a surface conductor is formed between the surface conductor and ground conductor of a microstrip line, and the conductor layer and surface conductor are electrically connected to each other through a via hole to reduce the inductance of the bias circuit, thereby reducing the impedance.例文帳に追加

マイクロストリップラインの表面導体とグランド導体の間に、表面導体に形成するバイアス回路のパターンと同形状の導体層を形成し、更にその導体層と、表面導体とをビアホールを通じて電気的に接続することでバイアス回路のインダクタンスを低減し、インピーダンスを低減する。 - 特許庁

To obtain a polymer useful as a resist material, or the like, especially the polymer as the resist material suitable for a fine processing using an ArF excimer laser or an electron beam, to provide a method for producing the same, to obtain a resist composition by using the same, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

レジスト材料等の構成成分樹脂として有用な有機溶剤への溶解性に優れた重合体、このような重合体の製造方法、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィー、中でも波長２５０ｎｍ以下の光、特にＡｒＦエキシマレーザー光、および電子線リソグラフィー等に対して高感度でドライエッチング耐性に優れる好適なレジスト組成物、ならびに、このレジスト組成物を用いた高精度で微細なパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The first and second flip-flop cells have a plurality of transistors arranged in regions of the same size in a common transistor arrangement pattern, and also have wiring in mutually different wiring patterns which interconnect the plurality of transistors to constitute flip-flop circuits, thereby constituting the flip-flop circuits which use at least single transistors of the same size, arranged at identical positions in the respective regions, at different positions of the circuits.例文帳に追加

第１および第２のフリップフロップセルは、同一の寸法のそれぞれの領域内に共通のトランジスタ配置パターンで配置された複数のトランジスタを有するとともに、複数のトランジスタを相互に接続してフリップフロップ回路を構成する互いに異なる配線パターンの配線を有し、それぞれの領域内の同一の位置に配置された同一の寸法の少なくとも１個のトランジスタを、回路的に異なる位置に使用したフリップフロップ回路を構成するセルである。 - 特許庁

To provide a semiconductor chip being mounted in layers on a substrate and a semiconductor integrated circuit device comprising it in which a specific chip can be selected by an external chip select signal even if the semiconductor chips are laid in a plurality of layers in the same wiring pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に積層されて実装される半導体チップ及びそれを用いた半導体集積回路装置に関し、同一の配線パターンで複数積層されても、外部からのチップ選択信号で所定のチップ選択が可能になる半導体チップ及びそれを用いた半導体集積回路装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the case a user uses caller information sent from a line to make a callback, when edit of the telephone number is required, the telephone system of this invention stores its area code and an edit pattern so that the telephone system can automatically edit the telephone number having the same area code thereby allowing the user to easily make a callback.例文帳に追加

ユーザーが回線から送られてくる発呼者情報を使用してコールバックを行う際に、電話番号を編集する必要があった場合には、そのエリアコードと編集パターンを記憶していくことにより、以後同じエリアコードを持つ電話番号は電話装置が自動的に編集できるようにとたもので、これにより、ユーザーは簡単にコールバックできることとなる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, satisfactory line width roughness and satisfactory density distribution dependency in microfabrication of a semiconductor element using actinic rays or radiation, particularly KrF excimer laser light, electron beams or EUV light, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインウィズスラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

A 1st likeness picture is generated by combining a plurality of partial pictures stored in montage RAMs 39, 40 by key operations, displayed on a display section and a transmission reception section 27 transmits designation data (parts pattern Nos.) of the partial images being components of the 1st likeness to an external electronic device of the same configuration to generate a 2nd likeness picture.例文帳に追加

モンタージュＲＡＭ３９，４０に記憶された複数の部分画像をキー操作で組み合わせて第１の似顔絵画像を作成し表示部に表示させ、この第１の似顔絵画像を構成している部分画像それぞれの指定データ（パーツパターンＮｏ．）を、第２の似顔絵画像を作成する外部の同一電子機器に向けて送受信部２７から送信する。 - 特許庁

In adjacent light-emitting units 160, each color element 92 of the light-emitting element 90, and a frequency 170 of a vibration added for formation of the ruggedness on the interface of a hole transport layer 54 are arranged in a given alignment pattern so that frequencies 170 of the vibration given at least one or more color elements of the same color are to be different.例文帳に追加

隣接する発光単位１６０において、少なくとも１つ以上の同一色の色要素９２に与える振動の周波数１７０を異なるようにすべく、発光層９０の各色要素９２と、正孔輸送層５４の界面に凸凹を形成すべく付加する振動の周波数１７０とを所定の配置パターンに従い配置する。 - 特許庁

With use of this specified pattern information, an output data generater 20 detects difference information between the data read out from the register 50 and the data read out at the last time, and speeds up a clock signal for writing generated from a frequency control circuit 11 in a section in which it is determined that the difference information is the same with each other.例文帳に追加

この特定したパターン情報を用いて、データ保持レジスタ５０から読み出されるデータについて、出力データ生成部２０において、直前に読み出されたデータとの差分情報を検出し、差分情報が同じであると判別した区間において、周波数制御回路１１において生成する書き込みのためのクロック信号を高速化する。 - 特許庁

One layer is formed by plural times of exposure including high- resolution exposure using plural fine patterns (gate finger parts) and plural phase shift patterns (shifters) which are respectively arranged on both sides in the fine line width direction of the fine patterns and negate the interference of light by the phase difference of the light passing the same and ordinary exposure exclusive of the fine pattern points.例文帳に追加

複数の微細パターン（ゲートフィンガ部）と、当該微細パターンの微細線幅方向両側にそれぞれ配置され、透過する光の位相差により光の干渉を打ち消す複数の位相シフトパターン（シフタ）と用いた高解像度露光と、微細パターン箇所以外の通常露光とを含む複数回露光により一つの層を形成する。 - 特許庁

Moreover, as the recessed part is formed at a part other than terminal parts with terminal connection holes 3, cross-section areas of the terminal parts without the recessed part formed is relatively large to have electric resistance smaller and prevent heat generation, so that the heater as a whole including the terminal parts can be formed nearly in the same width, enabling free designing of a heater pattern.例文帳に追加

さらに、端子接続穴３を有する端子部以外の部分に凹部が形成されることで、凹部が形成されない端子部の断面積が相対的に大きくなり、電気抵抗が小さくなって発熱が防止されるので、端子部を含めてヒータ全体を略同幅に形成することができ、ヒータパターンを自在に設計することが可能となる。 - 特許庁

To provide a chemically amplified resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to more specifically provide a chemically amplified resist composition excellent in sensitivity and dissolution contrast when using a light source of 157 nm and improved in development defects and density distribution dependency, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適な化学増幅型レジスト組成物、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時の感度、溶解コントラストに優れており、尚且つ、現像欠陥、疎密依存性が改良された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the electronic equipment in which a plurality of electronic parts (121 and 126) in each of which surge resistance is required are mounted, the plurality of electronic parts (121 and 126) are mounted adjacently on one and the same circuit board (111), and the circuit board has a ground pattern (141) made to be common with the plurality of electronic parts (121 and 126).例文帳に追加

本発明は、耐サージが要求される複数の電子部品（１２１、１２６）が搭載される電子機器において、複数の電子部品（１２１、１２６）を同じ回路基板（１１１）上に隣接して搭載し、回路基板（１１１）に複数の電子部品（１２１、１２６）で共通化されたグランドパターン（１４１）を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

Buffer Patterns 206 and 208 are formed of the same material as a lower metal wiring 202, corresponding to crossing portions of the metal wirings that mutually intersect while being configured on different layers; especially, while extending from the lower metal wiring 202 and formed of an alternative pattern that is located so as to come close to/separate from the lower metal wiring 202.例文帳に追加

本発明におけるバッファパターン２０６、２０８は、相互に異なる層に構成され交差するメタル配線の交差部に対応して下部のメタル配線２０２と同一な物質で形成されて、特に、下部のメタル配線２０２から延長して形成したり、下部のメタル配線２０２と近接離隔して位置する別途のパターンで形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a metal polishing solution which is capable of quickly polishing tantalum, tantalum alloys, tantalum nitrides, and other tantalum compounds used as a barrier layer of copper or a copper alloy and has a low abrasive concentration to be free of polishing flaws and is capable of forming a buried metal film pattern of less thinning and high reliability, and to provide a polishing method using the same.例文帳に追加

銅または銅合金のバリア層として用いられるタンタル、タンタル合金、窒化タンタル、その他のタンタル化合物の高速研磨を可能にし、低砥粒濃度で研磨キズがなく、シニングの少ない信頼性の高い金属膜の埋め込みパターン形成を可能とする金属用研磨液およびそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold used for imprint by dry etching a substrate 10 made of quartz by using a dry etching apparatus includes the mask forming step of forming an etching mask 20 having a concave and convex pattern on the substrate 10, and the etching step of forming a protective film 30 on a side of the etching mask 20 and for etching the substrate 10 at the same time.例文帳に追加

ドライエッチング装置を用いて石英製の基板１０をドライエッチングすることにより、インプリントに用いるモールドの製造方法において、基板１０に凹凸パターンを有したエッチングマスク２０を形成するマスク形成ステップと、エッチングマスク２０の側壁への保護膜３０の形成と基板１０のエッチングとを同時に行うエッチングステップとを含む。 - 特許庁

In the case of generating the simulation test bench of a digital LSI circuit with plural input signal lines, test patterns are generated for every input signal line (a step 10), the test patterns with the same input timing are connected by bit connection for at least two or more input lines and the test pattern file to which the data compression is performed is generated (a step 11).例文帳に追加

複数の入力信号線を持つデジタルＬＳＩ回路のシミュレーションテストベンチを生成する場合において、各入力信号線ごとにテストパターンを作成し（ステップ１０）、それらを少なくとも２本以上の入力信号線について、入力するタイミングが同じものをビット連接により接合し、データ圧縮したテストパターンファイルを生成する（ステップ１１）。 - 特許庁

At a bar code marking position on the surface of an object to be worked, loop-shaped marking is formed in the area of a square frame part 10a on each of segmenting symbols 10, eddy-shaped marking is formed in a square paint-out part 10b, and eddy-shaped marking of the same plotting pattern is formed in all black cells CEB inside a data area 12.例文帳に追加

被加工物表面のバーコードマーキング位置にて、各切出しシンボル１０の正方形枠部１０ａの領域にループ状のマーキングが形成され、正方形塗り潰し部１０ｂには渦巻き状のマーキングが形成され、データ領域１２内の全ての黒セルＣＥＢ内には同一の描画パターンで渦巻き状のマーキングが形成される。 - 特許庁

A sine-wave or sine-wave half-wave type resist pattern corresponding to grating grooves is formed on a substrate 10 by a holographic exposure method, and then the substrate 10 and resist 21 are etched until the resist reaches an approximately 1/3 height through a 1st etching stage of irradiating them with an ion beam obliquely at the same angle as a blaze angle while using CF_4 as etching gas.例文帳に追加

ホログラフィック露光法により基板１０上に格子溝に対応した正弦波状又は正弦半波状のレジストパターン２１を作製し、その後、ＣＦ_4をエッチングガスとしてブレーズ角と同じ角度で斜めからイオンビームを照射する第１エッチング工程によりレジストが約１／３の高さになるまで基板１０とレジスト２１とを削る。 - 特許庁