「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(93ページ目) - Weblio英語例文検索

To reduce calculation costs required for distinguishing between markers having the same topology information, position estimation in a three-dimensional space and marker detection by using a marker recognition technique using existent topology information, in marker recognition in a computer input image, together with a marker recognition technique using an existent pattern matching technique, a technique using feature points of the image, and the like.例文帳に追加

コンピュータ入力画像中のマーカ認識において、既存のトポロジー情報を用いるマーカ認識手法、および既存のパターン・マッチング手法や画像の特徴点を用いる手法を用いるマーカ認識手法を併用し、同じトポロジー情報を持つマーカ間の区別、３次元空間内での位置推定、マーカ検出にかかる計算コストの低減を行う。 - 特許庁

To provide a molding method for a composite molding material molding effectively a molding with smooth exhaustion, and preventing as much as possible a pinhole from being formed in the molding, and a molding method for the composite molding material eliminating a decoration process after molded, by imparting a decorative pattern on a surface of the molding at the same time of molding.例文帳に追加

排気がスムーズで成形品を効果よく成形し、且つ、成形品にピンホールがなるべく形成されない、複合材成形品の成形方法の提供、並びに、成形と同時に成形品の表面に装飾模様をつけることで、成形後の装飾工程を省くことができる、複合材成形品の成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing medium for CMP capable of suppressing the occurrence of dishing, thinning and polishing flaws in copper or copper alloy wiring, achieving high speed polishing for a barrier layer of tantalum, tantalum alloy, tantalum compound or the like in low concentration of abrasive particles, and forming an embedded pattern of a metal film having high reliability, and a method for polishing a substrate by using the same.例文帳に追加

銅又は銅合金配線におけるディシング、シニング及び研磨キズの発生を抑制し、低砥粒濃度においてタンタル、タンタル合金又はタンタル化合物等のバリア層の高速研磨を実現し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターンを形成することができるＣＭＰ用研磨剤と、それを用いる基板の研磨方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a device and method for power-saving driving of a same-load pattern device which can minimize the amount of loss in consideration of loss characteristics of all components, without obtaining loss characteristics data by conducting preliminary tests on the electrical characteristics of wiring, presence/absence of an electromagnetic noise eliminating element, loss characteristics and temperature change of each motor, etc.例文帳に追加

配線の電気的特性、電磁ノイズ除去用素子の有無、モータごとの損失特性及び温度変化、等を予め実験して損失特性のデータを取得することなく、すべての構成要素の損失特性を考慮して損失量を最小化することができる同一負荷パターン装置の省電力駆動装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical imprint method that measures a remaining film thickness of a dummy pattern so as to recognize a remaining film amount after imprint without cutting an effective region, to allow the same substrate, whose remaining film thickness is actually measured, to advance to etching being the next process, to feedback the remaining film amount to the etching conditions, and consequently, to reliably achieve stable processing.例文帳に追加

本発明は、ダミーパターンの残膜厚さを測定することで、有効領域を切断することなくインプリント後の残膜量を把握することができ、残膜厚さを実際に測定した同一基板を次工程であるエッチングに進めることができ、残膜量をエッチング条件にフィードバックさせることが可能であり、確実に安定した加工を実現できる。 - 特許庁

To provide an evaporation source which is used in a vapor-deposition apparatus that selectively deposits a deposition material emitted from the evaporation source onto a substrate, by using a mask assembly having a plurality of slits formed so as to become a predetermined pattern, and changes a nozzle structure of the evaporation source to minimize a shadow effect, and to provide a vapor-deposition apparatus using the same.例文帳に追加

所定パターンに形成された複数のスリットを含むマスク組立体を用いて蒸発源から放射される蒸発物質を選択的に基板に蒸着する蒸着装置において、上記蒸発源のノズル構造を変更してシャドー効果を最小化する蒸発源及びそれを用いた蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a card having a magnetic stripe and a method for manufacturing the same which prevent a pattern from becoming distorted due to a heat press mark in heat molding, during manufacturing of the card with a magnetic stripe, preventing a mounted contact type IC module from being observed through, and minimizing thickness and variation in thickness for preventing separation between layers.例文帳に追加

磁気ストライプ付カードの製造において、熱成形時の熱プレス跡により絵柄が歪まないようにし、接触型ＩＣモジュールを配置しても透けずに、かつできる限り薄くし、厚みばらつきを小さくし、層間剥離を起こさないような磁気ストライプを有するカード及びその製造方法を提供する事を目的とするものである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask, for reducing the mask price without significantly increasing a load of electron beam drawing on the mask, and ensuring dimensional uniformity of a device pattern under the same conditions of manufacturing a full-chip mask, in a method for manufacturing a mask in which the number of chips in an effective exposure area of the mask is reduced and a vacant area is formed.例文帳に追加

マスクの有効露光領域内のチップ数を削減し、空き領域が形成される場合のマスクの製造方法において、マスクの電子線描画負荷を著しく上げずにマスク価格の低減を図り、フルチップの時と同一の製造条件で、デバイスパターンの寸法均一性が保証されたマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, satisfactory line width roughness and satisfactory density distribution dependency in microfabrication of a semiconductor element using actinic rays or radiation, particularly KrF excimer laser light, electron beams or EUV light, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインウィズスラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

One layer is formed by plural times of exposure including high- resolution exposure using plural fine patterns (gate finger parts) and plural phase shift patterns (shifters) which are respectively arranged on both sides in the fine line width direction of the fine patterns and negate the interference of light by the phase difference of the light passing the same and ordinary exposure exclusive of the fine pattern points.例文帳に追加

複数の微細パターン（ゲートフィンガ部）と、当該微細パターンの微細線幅方向両側にそれぞれ配置され、透過する光の位相差により光の干渉を打ち消す複数の位相シフトパターン（シフタ）と用いた高解像度露光と、微細パターン箇所以外の通常露光とを含む複数回露光により一つの層を形成する。 - 特許庁

Moreover, as the recessed part is formed at a part other than terminal parts with terminal connection holes 3, cross-section areas of the terminal parts without the recessed part formed is relatively large to have electric resistance smaller and prevent heat generation, so that the heater as a whole including the terminal parts can be formed nearly in the same width, enabling free designing of a heater pattern.例文帳に追加

さらに、端子接続穴３を有する端子部以外の部分に凹部が形成されることで、凹部が形成されない端子部の断面積が相対的に大きくなり、電気抵抗が小さくなって発熱が防止されるので、端子部を含めてヒータ全体を略同幅に形成することができ、ヒータパターンを自在に設計することが可能となる。 - 特許庁

To provide a chemically amplified resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to more specifically provide a chemically amplified resist composition excellent in sensitivity and dissolution contrast when using a light source of 157 nm and improved in development defects and density distribution dependency, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適な化学増幅型レジスト組成物、より具体的には１５７ｎｍの光源使用時の感度、溶解コントラストに優れており、尚且つ、現像欠陥、疎密依存性が改良された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the electronic equipment in which a plurality of electronic parts (121 and 126) in each of which surge resistance is required are mounted, the plurality of electronic parts (121 and 126) are mounted adjacently on one and the same circuit board (111), and the circuit board has a ground pattern (141) made to be common with the plurality of electronic parts (121 and 126).例文帳に追加

本発明は、耐サージが要求される複数の電子部品（１２１、１２６）が搭載される電子機器において、複数の電子部品（１２１、１２６）を同じ回路基板（１１１）上に隣接して搭載し、回路基板（１１１）に複数の電子部品（１２１、１２６）で共通化されたグランドパターン（１４１）を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

A 1st likeness picture is generated by combining a plurality of partial pictures stored in montage RAMs 39, 40 by key operations, displayed on a display section and a transmission reception section 27 transmits designation data (parts pattern Nos.) of the partial images being components of the 1st likeness to an external electronic device of the same configuration to generate a 2nd likeness picture.例文帳に追加

モンタージュＲＡＭ３９，４０に記憶された複数の部分画像をキー操作で組み合わせて第１の似顔絵画像を作成し表示部に表示させ、この第１の似顔絵画像を構成している部分画像それぞれの指定データ（パーツパターンＮｏ．）を、第２の似顔絵画像を作成する外部の同一電子機器に向けて送受信部２７から送信する。 - 特許庁

In adjacent light-emitting units 160, each color element 92 of the light-emitting element 90, and a frequency 170 of a vibration added for formation of the ruggedness on the interface of a hole transport layer 54 are arranged in a given alignment pattern so that frequencies 170 of the vibration given at least one or more color elements of the same color are to be different.例文帳に追加

隣接する発光単位１６０において、少なくとも１つ以上の同一色の色要素９２に与える振動の周波数１７０を異なるようにすべく、発光層９０の各色要素９２と、正孔輸送層５４の界面に凸凹を形成すべく付加する振動の周波数１７０とを所定の配置パターンに従い配置する。 - 特許庁

With use of this specified pattern information, an output data generater 20 detects difference information between the data read out from the register 50 and the data read out at the last time, and speeds up a clock signal for writing generated from a frequency control circuit 11 in a section in which it is determined that the difference information is the same with each other.例文帳に追加

この特定したパターン情報を用いて、データ保持レジスタ５０から読み出されるデータについて、出力データ生成部２０において、直前に読み出されたデータとの差分情報を検出し、差分情報が同じであると判別した区間において、周波数制御回路１１において生成する書き込みのためのクロック信号を高速化する。 - 特許庁

Buffer Patterns 206 and 208 are formed of the same material as a lower metal wiring 202, corresponding to crossing portions of the metal wirings that mutually intersect while being configured on different layers; especially, while extending from the lower metal wiring 202 and formed of an alternative pattern that is located so as to come close to/separate from the lower metal wiring 202.例文帳に追加

本発明におけるバッファパターン２０６、２０８は、相互に異なる層に構成され交差するメタル配線の交差部に対応して下部のメタル配線２０２と同一な物質で形成されて、特に、下部のメタル配線２０２から延長して形成したり、下部のメタル配線２０２と近接離隔して位置する別途のパターンで形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a metal polishing solution which is capable of quickly polishing tantalum, tantalum alloys, tantalum nitrides, and other tantalum compounds used as a barrier layer of copper or a copper alloy and has a low abrasive concentration to be free of polishing flaws and is capable of forming a buried metal film pattern of less thinning and high reliability, and to provide a polishing method using the same.例文帳に追加

銅または銅合金のバリア層として用いられるタンタル、タンタル合金、窒化タンタル、その他のタンタル化合物の高速研磨を可能にし、低砥粒濃度で研磨キズがなく、シニングの少ない信頼性の高い金属膜の埋め込みパターン形成を可能とする金属用研磨液およびそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold used for imprint by dry etching a substrate 10 made of quartz by using a dry etching apparatus includes the mask forming step of forming an etching mask 20 having a concave and convex pattern on the substrate 10, and the etching step of forming a protective film 30 on a side of the etching mask 20 and for etching the substrate 10 at the same time.例文帳に追加

ドライエッチング装置を用いて石英製の基板１０をドライエッチングすることにより、インプリントに用いるモールドの製造方法において、基板１０に凹凸パターンを有したエッチングマスク２０を形成するマスク形成ステップと、エッチングマスク２０の側壁への保護膜３０の形成と基板１０のエッチングとを同時に行うエッチングステップとを含む。 - 特許庁

In the case of generating the simulation test bench of a digital LSI circuit with plural input signal lines, test patterns are generated for every input signal line (a step 10), the test patterns with the same input timing are connected by bit connection for at least two or more input lines and the test pattern file to which the data compression is performed is generated (a step 11).例文帳に追加

複数の入力信号線を持つデジタルＬＳＩ回路のシミュレーションテストベンチを生成する場合において、各入力信号線ごとにテストパターンを作成し（ステップ１０）、それらを少なくとも２本以上の入力信号線について、入力するタイミングが同じものをビット連接により接合し、データ圧縮したテストパターンファイルを生成する（ステップ１１）。 - 特許庁

In recording information on the optical information recording medium, an information recording layer of the optical information recording medium is irradiated with an information light and a recording reference light from the same side by an objective lens 133, and information is recorded on the information recording layer by an interference pattern by the interference between the information light and the recording reference light.例文帳に追加

光情報記録媒体に対する情報の記録時には、対物レンズ１２３によって、情報光と記録用参照光とが、光情報記録媒体の情報記録層に対して同一面側より照射され、情報記録層に情報光と記録用参照光との干渉による干渉パターンによって情報が記録される。 - 特許庁

To provide an interactive game device, a method for controlling the same and a recording medium in which its program is recorded, wherein a mental state of an answerer included in voices expressed by the answerer is analyzed and his true intention is disclosed by controlling a question pattern so as not to be constant and amusement obtained by a player is able to be increased.例文帳に追加

回答者の発する音声に含まれた回答者の心理状態を分析し、質問のパターンが一定にならないように制御することで回答者の本音を明らかにし、遊技者の得られる面白みを増すことができる対話型遊技装置、対話型遊技装置の制御方法、及びそのプログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine metallic pattern of a semiconductor element, based on a damascene technique which can ensure broad width of a metallic layer for improving the operational speed of the element and can easily control steps by etching only the metal layer without etching the metallic layer, anti-diffusion layer and bonding layer at the same time.例文帳に追加

金属膜の幅を広く確保可能として素子の動作速度を向上させることができ、従来のように金属膜，拡散防止膜及び接着膜を同時に蝕刻せずに、金属膜のみを蝕刻することにより工程を容易に制御可能である象嵌技法を利用した半導体素子の微細金属パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A presentation command analysis part 402 receives a presentation command including one or two or more first lottery results, which are first lottery results suspended in a main control board and already output by a first lottery means, and not variably displayed based upon the first lottery result in the pattern display means, and analyzes the same.例文帳に追加

演出コマンド解析部４０２は、メイン制御基板において保留している第１の抽選手段が出力済みの第１の抽選結果であって、図柄表示手段において当該第１の抽選結果に応じた可変表示が行われていない１つ又は複数の第１の抽選結果を含む演出コマンドを受信して、解析する。 - 特許庁

A plurality of dielectric filters 1 are brought close on the same plane, so that the pad forming parts on the sides area adjacent; the respective pad-forming parts are irradiated with laser beams, and outer conductors 7 are cut by a prescribed engraved pattern; and thus a plurality of input/output pads 6 are formed simultaneously and partitioned, in a series of the engraved patterns.例文帳に追加

複数の誘電体フィルタ１を、その側面の各パッド形成部位相互が隣接するように同一平面上で密接させ、各パッド形成部位に跨って、レーザ光を照射して所定削成パターンで外導体７を削ることにより、一連の削成パターンの中で、複数の入出力パッド６を同時的に区画形成することとした。 - 特許庁

The radio base station controller 1 utilizes an HFN being used in secret in order to continues the compressed mode and calculates a position of a gap (CNF) at a present time in accordance with a difference from the start time of the compressed mode and indicates the same gap pattern as a radio base station device 2 to the radio base station device 3.例文帳に追加

無線基地局制御装置１ではＣｏｍｐｒｅｓｓｅｄ Ｍｏｄｅを継続するために、秘匿で使用しているＨＦＮを活用し、Ｃｏｍｐｒｅｓｓｅｄ Ｍｏｄｅ開始時からの差分より現時点でのギャップの位置（ＣＦＮ）を計算し、無線基地局装置３に対して無線基地局装置２と同じギャップパターンを指示する。 - 特許庁

If there are a plurality of images which are of the same pattern but different in the image scale, the server automatically selects the image which is of the smallest image scale but larger than the inputted image scale (namely, the image which doesn't cause deterioration of image when printed) and transmits the automatically selected image to the client terminal PC1 or the like.例文帳に追加

この場合、同じ絵柄で画像規模の異なる複数の画像がある場合には、これらの複数の画像のうち、前記入力した画像規模以上の画像（即ち、印画時に画質劣化を発生させない画像）で、且つ最小の画像規模の画像を自動選択し、その自動選択した画像をクライアント端末ＰＣ１等に送信する。 - 特許庁

In this case, a plurality of different product codes are constituted in one ECC block in the recording information storage area, and, when outer code parities for correcting errors are made to be POs and identification information is made to be PID, the POs are arranged at the same intervals for every two sectors, and the PID succeeds the specific pattern information.例文帳に追加

ここで、前記記録情報の格納領域内において１ＥＣＣブロック内で異なる複数の積符号を構成し、エラー訂正用のアウターコードパリティをＰＯとし識別情報をＰＩＤとしたときに前記ＰＯを２セクタ毎に等間隔配置するとともに前記ＰＩＤが前記特定パターン情報に後続するように構成される。 - 特許庁

When the baking sheet 3 is brought right below the injector 5 by a belt conveyor 2, a proximity sensor 4 detects the same and a controller 1 sends a drive signal to an actuator 5c of the edible oil injector 5 in response with this detection signal, thereby injecting the edible oil and applying the edible oil only to the pattern positions for loading the dough onto the baking sheet.例文帳に追加

天板３がベルトコンベアー２によって上記装置５の直下に来ると、近接センサー４がこれを検出し、その検出信号に応答してコントローラー１が駆動信号を食用油噴射装置５のアクチュエーター５ｃに送って、食用油を噴射させ天板上のパン生地を載置するためのパターン位置のみに塗布する。 - 特許庁

A sine-wave or sine-wave half-wave type resist pattern corresponding to grating grooves is formed on a substrate 10 by a holographic exposure method, and then the substrate 10 and resist 21 are etched until the resist reaches an approximately 1/3 height through a 1st etching stage of irradiating them with an ion beam obliquely at the same angle as a blaze angle while using CF_4 as etching gas.例文帳に追加

ホログラフィック露光法により基板１０上に格子溝に対応した正弦波状又は正弦半波状のレジストパターン２１を作製し、その後、ＣＦ_4をエッチングガスとしてブレーズ角と同じ角度で斜めからイオンビームを照射する第１エッチング工程によりレジストが約１／３の高さになるまで基板１０とレジスト２１とを削る。 - 特許庁

To provide a semiconductor chip being mounted in layers on a substrate and a semiconductor integrated circuit device comprising it in which a specific chip can be selected by an external chip select signal even if the semiconductor chips are laid in a plurality of layers in the same wiring pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に積層されて実装される半導体チップ及びそれを用いた半導体集積回路装置に関し、同一の配線パターンで複数積層されても、外部からのチップ選択信号で所定のチップ選択が可能になる半導体チップ及びそれを用いた半導体集積回路装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To enable high-speed processing regardless of resolution and whether it is a pattern image or not in an image data processor adapted to fetch raster data required for plotting an image from a storage device storing the raster data and delivering the same to a vector data processor when the vector data processor for analyzing vector data plots an image in a buffer memory.例文帳に追加

ベクタデータを解析するベクタデータ処理装置がバッファメモリ内に画像を描画する際に、その画像描画に必要となるラスタデータを、これを格納した記憶装置から取り出して前記ベクタデータ処理装置に受け渡す画像データ処理装置において、解像度の相違やパターン画像であるか否か等に拘わらず、高速処理を可能にする。 - 特許庁

Concerning the producing method for a multilayer printed wiring board constituted by laminating and molding through a prepreg outer layer metal foil and an inner layer circuit board having mutually separated circuit groups on the same face, a dummy printed circuit board with which a similar pattern is formed in the area with no circuit on the inner layer circuit board is placed at the stage internal position of a press, heated and pressed.例文帳に追加

外層金属箔と、互いに隔てられた回路群を同一面上に有する内層回路板とをプリプレグを介して積層成形することからなる多層プリント配線板の製造方法において、内層回路板の回路のない領域に相似するパターンを形成したダミープリント基板をプレスの段内位置に入れて加熱加圧する。 - 特許庁

On a TFT array substrate 10 of the reflection type electrooptic device 100, an unevenness formation layer 6g in the same layer the a data line 6a is formed in a specified pattern below a light reflecting film 8a and a photosensitive resin layer 7a is formed of photosensitive resin 7 above it by half-exposure through an exposure mask 200, development, and heating.例文帳に追加

反射型電気光学装置１００のＴＦＴアレイ基板１０において、光反射膜８ａの下層側には、データ線６ａと同層の凹凸形成層６ｇが所定のパターンで形成され、その上層には、感光性樹脂７に対して、露光マスク２００を介してのハーフ露光、現像、および加熱を行って感光性樹脂層７ａを形成してある。 - 特許庁

Since the marks are placed at the center of field of view of the alignment sensor to observe and since the same component of both the distortion of optical system of the alignment sensor or the fixed pattern noise and the like of the imaging device are superimposed at each time, degradation of reproducibility of measurement caused by them can be prevented to implement the stable reticle alignment.例文帳に追加

マークを、必ずアライメントセンサの視野中心において観察していることとなり、アライメントセンサの光学系のディストーション、あるいは、撮像素子の固定パターンノイズ等については、毎回同じ成分が重畳されることとなるので、これらに起因する計測再現性の悪化を防ぐことができ、安定したレチクルアライメントを行なうことができる。 - 特許庁

To provide a production method of a froth method rigid polyurethane foam, using carbon dioxide as the foaming agent, easy in keeping and adjusting blow pattern by spray at the same level as the case using a conventional flon, stable since the time soon after construction beginning, and excellent in workability, and to provide a construction method of a rigid polyurethane foam insulating layer.例文帳に追加

二酸化炭素を発泡剤として使用し、スプレーによる吹き付けのパターンの維持並びに調整が従来のフロンを使用した場合と同程度に容易であって施工開始直後から安定しており、施工性が良好なフロス法硬質ポリウレタンフォームの製造方法並びに硬質ポリウレタンフォーム断熱層の施工方法を提供する。 - 特許庁

Also, in the case of constitution for the purpose of band widening for instance, by turning the substrate of the dielectric to the same size as the power feeding patch and making the dielectric forming a non power feeding patch individual for each antenna element, the generation of the surface wave mode which is the problem in a conventional technique is suppressed and the structure forming the excellent radiation pattern is attained.例文帳に追加

また、例えば広帯域化を目的とした構成の場合では、誘電体の基板を給電パッチと同じ大きさとし、無給電パッチを形成する誘電体を各アンテナ素子毎に個別にすることで、従来の技術で課題となっていた表面波モードの発生をおさえ、良好な放射パターンを形成する構造としている。 - 特許庁

In order to know the characteristic of this device, a reference toner adhering pattern is produced by an image writing and developing means 4 under the same condition where a default value is obtained according to the LD light quantity table having the default value, the image density is detected by a condition amount detecting means 5 or the image reading means 3 of a copying machine, and measured as the toner adhering amount.例文帳に追加

本装置の特性を知るために、デフォルト値を持つＬＤ光量テーブルに従い、デフォルト値を得たと同条件で画像書き込み・現像手段４で基準のトナー付着パターンを生成し、その画像濃度を状態量検出手段５又は複写機の画像読み込み手段３により検出、トナー付着量として測定する。 - 特許庁

To provide a dielectric element of a structure, where voids and seams will not to generated, a Pt electrode having superior electrical characteristics can be formed simply and at the same time, the problems of contamination or the like a processing chamber are not generated and the formation of a microscopic pattern is possible in the dielectric element using a Pt layer as an electrode material, and the manufacturing method of the element.例文帳に追加

電極材料としてＰｔを用いた誘電体素子において、ボイドやシームが生じることがなく、電気特性に優れたＰｔ電極を簡便に形成することができるとともに、処理室内汚染等の問題がなく、かつ、微細パターンの形成が可能な誘電体素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a base board for pattern coating, which can prevent supplied ink from being mixed with each other outside an area in which barrier ribs are formed, and at the same time, can prevent ink supplied outside the area in which the barrier ribs are formed from flowing into an area in which barrier ribs are formed, in selectively supplying ink by a coating method.例文帳に追加

塗布法によってインキを選択的に供給する際に、供給されたインキが、隔壁が形成される領域外で混ざり合うことを防ぐとともに、隔壁が形成される領域外に供給されたインキが、隔壁の形成された領域に流れ込むことを防ぐことができるパターン塗布用基板を提供することである。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition free of any safety problem, excellent in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a good development margin that a good pattern profile can be formed in a developing step even after the lapse of the optimum developing time, and to provide an interlayer dielectric and microlenses formed of the same.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること - 特許庁

Same number of table pointers in a pattern control board 32b, a lamp control board 34, and a sound control board 35 correspond to basic fluctuation patterns 1 to 9 transmitted from the main control board 30, and a plurality of display patterns, lighting patterns and sound patterns are stored according to respective point numbers by matching with one another.例文帳に追加

主制御基板３０から送信されてくる基本変動パターン１〜９のそれぞれに対して、図柄制御基板３２ｂ、ランプ制御基板３４及び音制御基板３５において、それぞれ、同数のテーブルポインタが対応し、各ポイント値に対応して、複数の表示パターン、点灯パターン、音パターンがそれぞれ整合を取りながら記憶されている。 - 特許庁

To provide a reflective mask, capable of obtaining a reflection signal having sufficient contrast even for a reflective mask for EUV exposure, when detecting an alignment mark using a laser drawing device, thus forming a resist pattern for forming a light-shielding region with good position accuracy, and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

本発明は、ＥＵＶ露光用の反射型マスクにおいても、レーザ描画装置を用いてアライメントマークを検出する際に、十分なコントラストを有する反射信号を得ることができ、それゆえ、位置精度良く、遮光領域形成用レジストパターンを形成することができる反射型マスク、およびその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

A mask oxidation film 318a is formed at a point at which the opening and the active region 302 intersect and at the same time, a buffer oxidation film 318b is formed on the element separation film 304 adjacent to the mask oxide film 318a by selectively oxidizing the buffer film exposed from the opening and the upper region of the conductive film pattern 310.例文帳に追加

開口部により露出されている緩衝膜および導電膜パターン３１０の上部領域を選択的に酸化させて開口部および活性領域３０２の交わる地点にマスク酸化膜３１８ａを形成すると共に、マスク酸化膜３１８ａに隣接した素子分離膜３０４上に緩衝酸化膜３１８ｂを形成する。 - 特許庁

The defective memory cell is detected by continuing dummy read operation on the same memory cell immediately after write operation on the memory cell with an internal clock signal having a frequency increased with respect to a test mode clock signal responsive to each write access request issued according to a test pattern, and surely simulating the worst case.例文帳に追加

テスト・パターンにより発行される各ライト・アクセス要求に応答して、テスト・モード・クロック信号に対して増加された周波数を有する内部クロック信号を使用して、メモリ・セルに対してライト動作直後に、同一のメモリ・セルに対してダミー・リード動作を続け、最悪の場合の状況を確実にシミュレートして、欠陥メモリ・セルを検出する。 - 特許庁