| 例文 |
same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4750件
When someone has rights to copy a printed matter (Step S15/YES), a background pattern generating part generates image data of the same background pattern as a missing background pattern based on information to specify a background pattern (Step S16).例文帳に追加
印刷物を複写する権限がある場合(ステップS15/YES)、背景パターン生成部は、背景パターンを特定する情報に基づき、欠落した背景パターンと同一の背景パターンの画像データを生成する(ステップS16)。 - 特許庁
Further, development video moving image data for starting variable display from the pattern of the same kind as the tentatively stop-displayed center pattern and performing stop display at the kind of the pattern specified by (information relating to) the final stop pattern are displayed (S1304, S1306, S1309, S1311).例文帳に追加
さらに、一旦停止表示された中図柄と同種の図柄から変動表示を開始し最終停止図柄(に関する情報)で指定された図柄の種類で停止表示を行う発展映像動画データを表示させる(S1304,S1306,S1309,S1311)。 - 特許庁
When a same gradation pattern in which the same gradation value appears continuously both in horizontal and vertical directions, appears, only gradation values of a part of the pixels forming the same gradation pattern are changed into a smaller gradation value.例文帳に追加
同階調値が水平方向にも垂直方向にも連続して現れる同階調パターンの出現時に、当該同階調パターンを構成する一部画素の階調値だけを元の階調値より小さい階調値に変換する。 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物、当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、及び電子部品 - 特許庁
COATING MATERIAL EXHIBITING DIAMOND GLOSS AND METHOD FOR DRAWING PICTURE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
金剛光沢を呈する塗装材料及びこの塗装材料を使用した絵模様の描出方法 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING ACCELERATION SENSOR AND ANGULAR VELOCITY SENSOR USING THE SAME例文帳に追加
マスクパターンの補正方法およびそれを用いた加速度センサと角速度センサの製造方法 - 特許庁
HIGH-RESOLUTION POSITIVE TYPE CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加
感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RING-OPENING METATHESIS POLYMER HYDROGENATED PRODUCT, RESIST MATERIAL CONTAINING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
開環メタセシス重合体水素添加物、それを含有するレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE PASTE, METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME, METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY例文帳に追加
ポジ型感光性ペースト、それを用いたパターンの形成方法およびプラズマディスプレイの製造方法 - 特許庁
RECORD CARRIER COMPRISING ADDITIONAL SYNC-COLOR PATTERN, AND METHOD AND DEVICE FOR USING THE SAME例文帳に追加
付加的同期カラーパターンを有する記録担体およびその記録担体を使用する方法と装置 - 特許庁
RESIN, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION EMPLOYING IT, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
樹脂およびその製造方法、それを用いたポジ型感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING INTERMEDIATE LAYER CONTAINING SILYLPHENYLENE POLYMER AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
シリルフェニレン系ポリマー含有中間層形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS USING THE SAME例文帳に追加
感光性重合体組成物、並びにレリーフパターンの製造法及びそれを用いた電子部品 - 特許庁
PATTERN FORMING COMPOSITION, IMAGE RECORDING MATERIAL USING SAME AND PRODUCTION OF RECORDING MATERIAL例文帳に追加
パターン形成用組成物、それを用いた画像記録材料、および記録材料の製造方法 - 特許庁
ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線または感放射線性樹脂組成物、およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK USING SAME例文帳に追加
感放射線組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
To provide a roll with pattern which solves the problem of side etching and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
サイドエッチングの問題を解消したパターン付ロール及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
MASTER RECORDING MEDIUM FOR MAGNETICALLY TRANSFERRING SERVO PATTERN TO MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
サーボパターンを磁気記録媒体に磁気転写するためのマスター記録媒体及びその製造方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COATING LIQUID FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM FORMATION, TRANSPARENT CONDUCTIVE PATTERN FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加
透明導電膜形成用感光性塗布液及び透明導電パターン膜とその製造方法 - 特許庁
PATTERN GENERATING CIRCUIT, CIRCUIT AND METHOD FOR DETECTING MULTI-PATH WHILE USING THE SAME例文帳に追加
パターン生成回路及びそれを用いたマルチパス検出回路並びにそのマルチパス検出方法 - 特許庁
ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING CATHODE RAY TUBE例文帳に追加
感光性組成物、それを用いたパターン形成方法及び陰極線管の製造方法 - 特許庁
TWO LIQUID TYPE ACRYLIC ADHESIVE FOR MANUFACTURING PATTERN OF CASTING MOLD, AND BONDING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
鋳型模型製作用2液アクリル系接着剤、および該接着剤を用いた接着工法 - 特許庁
HALFTONE PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR TRANSFERRING MASK PATTERN BY USING SAME例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法及びそれを用いたマスクパターン転写方法 - 特許庁
MOS FIELD-EFFECT TRANSISTOR HAVING THICK EDGE GATE INSULATING LAYER PATTERN AND METHOD FOR FABRICATING SAME例文帳に追加
厚いエッジゲート絶縁膜パターンを有するMOS電界効果トランジスタ及びその製造方法 - 特許庁
CIRCUIT PATTERN FORMING METHOD AND CIRCUIT FORMING METHOD OF BOARD USING THE SAME例文帳に追加
回路パタ—ン形成方法及びこの回路パタ—ン形成方法を利用した基板の回路形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING RESIST LOWER-LAYER FILM, METHOD OF FORMING THE RESIST LOWER-LAYER FILM, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜の形成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁
TOP ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME例文帳に追加
上部反射防止膜の組成物、およびこれを用いた半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁
COPOLYMER FOR RESIST AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
レジスト用共重合体およびその製造方法、レジスト組成物、ならびにパターン形成方法 - 特許庁
To provide a slot machine configured so that stop control can be variously performed even when the same winning pattern is won.例文帳に追加
同一役の当選時であっても、異なる停止制御が行われる場合があるようにする。 - 特許庁
MANAGEMENT PATTERN OF ELEMENT ISOLATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANAGEMENT OF ELEMENT ISOLATION USING THE SAME例文帳に追加
半導体装置の素子分離の管理パターンおよびそれを用いた素子分離の管理方法 - 特許庁
EXPOSURE METHOD AND CIRCUIT PATTERN ELEMENT MANUFACTURING METHOD USING THE SAME, AND ALIGNER例文帳に追加
露光方法及びその露光方法を用いた回路パターン素子製造方法、並びに露光装置 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM FORMING METHOD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
PHENOLIC RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING CURED RELIEF PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
フェノール樹脂組成物並びにこれを用いた硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 - 特許庁
METHOD OF FORMING THIN-FILM PATTERN, ELECTROOPTIC DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
薄膜パターンの形成方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁
COLORING CURABLE COMPOSITION, COLORED PATTERN, COLOR FILTER AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加
着色硬化性組成物、着色パターン、カラーフィルタ、その製造方法、及び液晶表示素子 - 特許庁
OFFSET PRINTER, METHOD FOR OFFSET PRINTING AND HIGHLY DEFINITE PATTERN BASE PLATE OBTAINED BY USING THE SAME例文帳に追加
オフセット印刷装置、オフセット印刷方法、およびそれを用いて得られる高精細パターン基板 - 特許庁
PROCESS FOR CASTING STEEL GRADE WHICH CANNOT BE CAST BY EVAPORATIVE PATTERN DEPRESSURIZATION CASTING PROCESS WITH USE OF SAME PROCESS例文帳に追加
消失模型減圧鋳造法で鋳造できない鋼種を、同工法で鋳造する方法。 - 特許庁
ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
A normal circuit 1 and a circuit 2 to be inspected are controlled so that they output the same inspection pattern.例文帳に追加
正常回路1と被検査回路2が同じ検査パターン出力を出すように制御する。 - 特許庁
METHOD OF FORMING THIN FILM PATTERN, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加
薄膜パターンの形成方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 - 特許庁
To provide an antenna pattern frame and a mold for manufacturing an electronic device case including the same.例文帳に追加
本発明はアンテナパターンフレーム及びこれを含む電子装置のケースの製造金型に関する。 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
電子線、X線又はEUV用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
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