「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

Even when the length of the re-drawing period is different, respective operation patterns in a variation pattern are the same.例文帳に追加

再抽選期間の長さが異なっても、変動パターン中の各動作パターンは同じである。 - 特許庁

MOS FIELD-EFFECT TRANSISTOR HAVING THICK EDGE GATE INSULATING LAYER PATTERN AND METHOD FOR FABRICATING SAME例文帳に追加

厚いエッジゲート絶縁膜パターンを有するＭＯＳ電界効果トランジスタ及びその製造方法 - 特許庁

ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

SEAL DISPENSER OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL AND METHOD FOR DETECTING DISCONNECTION OF SEAL PATTERN UTILIZING THE SAME例文帳に追加

液晶表示パネルのシールディスペンサ及びこれを利用したシールパターンの断線検出方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PATTERN OF PHASE INVERSION MASK AND PHASE INVERSION MASK CORRECTED BY USING THE SAME例文帳に追加

位相反転マスクのパターン校正方法及びこれを利用して校正された位相反転マスク - 特許庁

On the surface of the undercoating layer 15, a masking member having the same shape as a N-shape pattern 13 is pasted.例文帳に追加

アンダーコート層１５の表面にＮ字模様１３と同じ形状のマスク部材を貼り付ける。 - 特許庁

EXPOSURE METHOD AND CIRCUIT PATTERN ELEMENT MANUFACTURING METHOD USING THE SAME, AND ALIGNER例文帳に追加

露光方法及びその露光方法を用いた回路パターン素子製造方法、並びに露光装置 - 特許庁

MANAGEMENT PATTERN OF ELEMENT ISOLATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANAGEMENT OF ELEMENT ISOLATION USING THE SAME例文帳に追加

半導体装置の素子分離の管理パターンおよびそれを用いた素子分離の管理方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM FORMING METHOD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHENOLIC RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING CURED RELIEF PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

フェノール樹脂組成物並びにこれを用いた硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 - 特許庁

To provide an antenna pattern frame and a mold for manufacturing an electronic device case including the same.例文帳に追加

本発明はアンテナパターンフレーム及びこれを含む電子装置のケースの製造金型に関する。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線または感放射線性樹脂組成物、およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK USING SAME例文帳に追加

感放射線組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

To provide a roll with pattern which solves the problem of side etching and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

サイドエッチングの問題を解消したパターン付ロール及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

MASTER RECORDING MEDIUM FOR MAGNETICALLY TRANSFERRING SERVO PATTERN TO MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

サーボパターンを磁気記録媒体に磁気転写するためのマスター記録媒体及びその製造方法 - 特許庁

ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING COMPOSITION, IMAGE RECORDING MATERIAL USING SAME AND PRODUCTION OF RECORDING MATERIAL例文帳に追加

パターン形成用組成物、それを用いた画像記録材料、および記録材料の製造方法 - 特許庁

RESIN, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION EMPLOYING IT, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

樹脂およびその製造方法、それを用いたポジ型感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COATING LIQUID FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM FORMATION, TRANSPARENT CONDUCTIVE PATTERN FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

透明導電膜形成用感光性塗布液及び透明導電パターン膜とその製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE FILM, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性フィルム、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

RESIST UNDERCOAT FILM MATERIAL, AND RESIST UNDERCOAT FILM SUBSTRATE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト下層膜材料並びにそれを用いたレジスト下層膜基板およびパターン形成方法 - 特許庁

WIRING STRUCTURE, METHOD OF FORMING CONDUCTIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

配線構造、導電パターンの形成方法、半導体装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁

A symbol pattern serving as an identification mark is formed in the same layer as the device patterns.例文帳に追加

デバイスパターンと同一の層内に、識別標識として使用される記号パターンが形成されている。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING INTERNAL ELECTRODE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING LAMINATED CERAMIC ELECTRONIC COMPONENT USING THE SAME例文帳に追加

内部電極パターンの形成方法とこれを用いた積層セラミック電子部品の製造方法 - 特許庁

COPOLYMER FOR RESIST AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

レジスト用共重合体およびその製造方法、レジスト組成物、ならびにパターン形成方法 - 特許庁

To provide a slot machine configured so that stop control can be variously performed even when the same winning pattern is won.例文帳に追加

同一役の当選時であっても、異なる停止制御が行われる場合があるようにする。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST LOWER-LAYER FILM, METHOD OF FORMING THE RESIST LOWER-LAYER FILM, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜の形成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁

MATERIAL FOR PROTECTIVE FILM FORMATION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE PROCESS, AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光プロセス用保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND INSPECTION METHOD AND PREPARING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、パターン形成方法、ネガ型レジスト組成物の検査方法及び調製方法 - 特許庁

TOP ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME例文帳に追加

上部反射防止膜の組成物、およびこれを用いた半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁

To provide a plated substrate in which a fine pattern is formed with good precision and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

微細パターンを精度良く形成するめっき基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A second placement pattern II uses the LEDs of approximately the same color to illuminate the dial 6 and the pointer 7.例文帳に追加

第２の配置パターンIIは文字板６と指針７とを略同系色のＬＥＤで照明する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND AND RESIN USABLE THEREFOR, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物、それに用いる化合物および樹脂、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

HIGH-POLYMER COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION USING THE SAME, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

高分子化合物、これを用いた感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

COATING COMPOSITION FOR PROTECTIVE LAYER OF PHOTORESIST FILM FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光フォトレジスト膜の保護層用塗布組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PIEZOELECTRIC PATTERN, METHOD OF FORMING SAME, PIEZOELECTRIC ELEMENT, DROPLET DISCHARGING HEAD, SENSOR, AND DEVICE例文帳に追加

圧電体パターンの形成方法、圧電体パターン、圧電体素子、液滴吐出ヘッド、センサ、及びデバイス - 特許庁

METHOD OF FORMING WIRING PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, CIRCUIT SUBSTRATE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

配線パターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器 - 特許庁

The up-control channel is mapped in the same hopping pattern even with or without a user data channel.例文帳に追加

上り制御チャネルは、ユーザデータチャネルに同伴してもしなくても同じホッピングパターンでマッピングされる。 - 特許庁

RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME METHOD FOR PATTERNING THIN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRODEVICE例文帳に追加

レジストパターン、レジストパターンの作製方法、薄膜のパターニング方法、及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

The material of the heat radiation pattern 4 is same as the material for forming an array of the liquid crystal panel 1.例文帳に追加

放熱パターン４の材料を液晶パネル１のアレーを形成する材料と同一とする。 - 特許庁

ETCHANT, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

エッチング液及びこれを用いたパターン形成方法並びに液晶表示装置の製造方法 - 特許庁