「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

COMPOSITION FOR FORMING RESIST PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

レジスト保護膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

現像液組成物およびその製造方法、ならびにレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR USE IN LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ELECTROSTATIC CHARGE IMAGE DEVELOPER AND ELECTRICALLY CONDUCTIVE WIRING PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

静電荷像現像剤及びそれを用いた導電性配線パターンの形成方法 - 特許庁

FIVE-GRADATION PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

５階調フォトマスクの製造方法及び５階調フォトマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

The device for power-saving driving of a same-load pattern device 23 is driven by a motor 21, supplied with power from an inverter 19 and is repeatedly operated in the same load pattern.例文帳に追加

インバータ１９から電力供給されるモータ２１で駆動され、同一負荷パターンで繰り返し運転される同一負荷パターン装置２３の省電力駆動装置。 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

HIGHLY STRETCHABLE NONWOVEN FABRIC HAVING CLEAR EMBOSSING PATTERN FORMED THEREIN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

鮮明なエンボス模様が施された高伸縮性不織布、及びその製造方法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR COMPUTING DEGREE OF COINCIDENCE IN PATTERN MATCHING, AND IMAGE RECOGNITION DEVICE FOR PERFORMING THE SAME例文帳に追加

パターンマッチングの一致度演算方法およびそれを実施する画像認識装置 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING METAL WIRE PATTERN, BACKLIGHT SYSTEM AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY USING THE SAME例文帳に追加

メタルワイヤーパタンの製造方法、バックライトシステム及びそれらを用いた液晶ディスプレイ - 特許庁

The first and second line groups have the same layout pattern.例文帳に追加

そして、第１配線体のレイアウトパターンと、第２配線体のレイアウトパターンとを同じとする。 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE TYPE RESIST COATING LIQUID AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジスト塗布液及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION AND IN-PLANE PRINTING PROCESS METHOD USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法 - 特許庁

REFLECTIVE PHOTOMASK BLANK, REFLECTIVE PHOTO MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE SAME例文帳に追加

反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、ならびにこれを用いたパターン転写方法 - 特許庁

DECORATIVE ARTICLE HAVING MONOCHROMATIC COLOR PATTERN FORMED FROM SOUND AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

音から作られた単色系の色柄を有する装飾物と、その作成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

An electrode pattern 39 is formed in the same layer as a signal line 8 on a glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板上に信号線８と同層で電極パターン３９を形成する。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING POLYIMIDE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性ポリイミド組成物及びそれを用いたポリイミドパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME, AND MICROSTRUCTURE例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法及び微細構造体 - 特許庁

COATING COMPOSITION, COATING METHOD USING THE SAME, AND COATED PRODUCT HAVING IRREGULARITY PATTERN例文帳に追加

塗料組成物、それを用いた塗装方法、および凹凸模様を有する塗装品 - 特許庁

TRANSMISSION TYPE PHASE SHIFTING MASK AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

透過型位相シフトマスク及び該透過型位相シフトマスクを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD OF TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND TRANSPARENT CONDUCTIVE PATTERN FILM OBTAINED BY THE SAME METHOD例文帳に追加

透明導電膜のパターニング方法及び該方法による透明導電パターン膜 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

To provide a test pattern of a semiconductor device, and to provide a test method using the same.例文帳に追加

半導体素子のテストパターン及びこれを用いたテスト方法が提供される。 - 特許庁

This picture pattern becomes the same one as the image data 40A stored in the stored part.例文帳に追加

この図柄は、記憶部に記憶された画像データ４０Ａと同様のものとなる。 - 特許庁

PATTERN IDENTIFICATION DEVICE AND LEARNING METHOD FOR THE SAME AND COMPUTER PROGRAM例文帳に追加

パターン識別装置及びパターン識別装置の学習方法ならびにコンピュータプログラム - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING ANTI-REFLECTION COATING, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST MATERIAL, BARRIER FILM FORMING MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

レジスト材料、バリア膜形成用材料及びそれらを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED TYPE NEGATIVE RESIST CONTAINING THE SAME AND FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

重合体、これを含有する化学増幅型ネガレジスト及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT USING SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD OF PRODUCING RESIN PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた樹脂パターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

INSULATING PASTE COMPOSITION FOR FORMING RIB AND RIB PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

リブ形成用絶縁性ペースト組成物及びそれを用いたリブパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING COPPER PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING IMAGE FORMING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

銅パターンの形成方法及びそれを用いた画像表示装置の製造方法 - 特許庁

DEVELOPER COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

現像液組成物およびその製造方法、ならびにレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ELECTROCONDUCTIVE RESIN COMPOSITION AND SUBSTRATE HAVING ELECTROCONDUCTIVE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

導電性樹脂組成物、それを用いて得られる導電性パターンを有する基板 - 特許庁

BLANK FOR PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスク用ブランク及び位相シフトマスク及びそれを用いたパターン転写法 - 特許庁

To obtain a pattern learning model having scale expandability and a generalization characteristic at the same time.例文帳に追加

規模拡張性があり、同時に、汎化特性を有するパターン学習モデルを得る。 - 特許庁

FULLERENE-CONTAINING SENSITIVE MATERIAL, RESIST AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

フラーレン含有感光材料およびレジスト並びにそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁