「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE TYPE RESIST COATING LIQUID AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジスト塗布液及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

An electrode pattern 39 is formed in the same layer as a signal line 8 on a glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板上に信号線８と同層で電極パターン３９を形成する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING METAL WIRE PATTERN, BACKLIGHT SYSTEM AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY USING THE SAME例文帳に追加

メタルワイヤーパタンの製造方法、バックライトシステム及びそれらを用いた液晶ディスプレイ - 特許庁

DECORATIVE ARTICLE HAVING MONOCHROMATIC COLOR PATTERN FORMED FROM SOUND AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

音から作られた単色系の色柄を有する装飾物と、その作成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

SURFACE ANTIREFLECTION FILM FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

表面反射防止膜形成用組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

REFLECTIVE PHOTOMASK BLANK, REFLECTIVE PHOTO MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE SAME例文帳に追加

反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク、ならびにこれを用いたパターン転写方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION AND IN-PLANE PRINTING PROCESS METHOD USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

レジスト保護膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

INSULATING PASTE COMPOSITION FOR FORMING RIB AND RIB PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

リブ形成用絶縁性ペースト組成物及びそれを用いたリブパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING COPPER PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING IMAGE FORMING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

銅パターンの形成方法及びそれを用いた画像表示装置の製造方法 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

現像液組成物およびその製造方法、ならびにレジストパターンの形成方法 - 特許庁

INTERMEDIATE LAYER COMPOSITION FOR MULTILAYER RESIST PROCESS AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

多層レジストプロセス用中間層組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR WAFER EVALUATION PATTERN AND SEMICONDUCTOR WAFER EVALUATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

半導体ウエハ用評価パターン及びそれを用いた半導体ウエハの評価方法 - 特許庁

The first and second line groups have the same layout pattern.例文帳に追加

そして、第１配線体のレイアウトパターンと、第２配線体のレイアウトパターンとを同じとする。 - 特許庁

COMPOSITION FOR PHOTORESIST OVERCOATING AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

フォトレジストオーバーコーティング用組成物、及びこれを利用したフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTORESIST FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストフィルム、レジストパターン形成方法 - 特許庁

FULLERENE-CONTAINING SENSITIVE MATERIAL, RESIST AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

フラーレン含有感光材料およびレジスト並びにそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

OVERCOATING COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD UTILIZING THE SAME例文帳に追加

フォトレジスト用オーバーコーティング組成物及びこれを利用したフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

FORMATION METHOD OF ELECTRODE PATTERN AND PLASMA DISPLAY PANEL HAVING THE SAME FORMED THEREUPON例文帳に追加

電極パターンの形成方法および該電極パターンを形成したプラズマディスプレイパネル - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN USING THE SAME AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性ポリイミド前駆体組成物、これを用いたパターン製造法及び電子部品 - 特許庁

ORGANIC REFLECTION PREVENTION FILM COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN IN PHOTORESIST USING THE SAME例文帳に追加

有機反射防止膜組成物及びこれを用いたフォトレジストのパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING SAME例文帳に追加

ネガ型感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法 - 特許庁

PATTERN LAYOUT SYSTEM CONTROL METHOD, ITS DEVICE, ITS PROGRAM, AND MEDIUM RECORDING THE SAME例文帳に追加

パターンレイアウトシステム制御方法、その装置、そのプログラム、および、これを記録した媒体 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING POLYIMIDE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性ポリイミド組成物及びそれを用いたポリイミドパターンの形成方法 - 特許庁

A width W of a chrome pattern 51 is the same as the clearance between the electrodes 3A, 3B.例文帳に追加

クロムパターン５１の幅Ｗは、電極３Ａ，３Ｂ間の隙間と同じである。 - 特許庁

SULFONIUM SALT COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

スルホニウム塩化合物及びレジスト組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

For example, cell patterns (A) having the same pattern are extracted from layout data.例文帳に追加

レイアウトデータの中から、例えば、同一のパターンを有するセルパターンＡを抽出する。 - 特許庁

TRANSMISSION TYPE PHASE SHIFTING MASK AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

透過型位相シフトマスク及び該透過型位相シフトマスクを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD OF TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND TRANSPARENT CONDUCTIVE PATTERN FILM OBTAINED BY THE SAME METHOD例文帳に追加

透明導電膜のパターニング方法及び該方法による透明導電パターン膜 - 特許庁

WATER-SOLUBLE MATERIAL, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

水溶性材料、化学増幅型レジスト及びそれらを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSETTING GLASS PASTE COMPOSITION AND FIRED MATERIAL PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

光硬化性ガラスペ—スト組成物及びそれを用いた焼成物パタ—ン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

To provide a test pattern of a semiconductor device, and to provide a test method using the same.例文帳に追加

半導体素子のテストパターン及びこれを用いたテスト方法が提供される。 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

ENAMEL PARTICLE DISPERSION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND MULTI-COLORED PATTERN COATING COMPOSITION例文帳に追加

エナメル粒子分散液及びその製造方法ならびに多彩模様塗料組成物 - 特許庁

PATTERN IDENTIFICATION DEVICE AND LEARNING METHOD FOR THE SAME AND COMPUTER PROGRAM例文帳に追加

パターン識別装置及びパターン識別装置の学習方法ならびにコンピュータプログラム - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD OF PRODUCING RESIN PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた樹脂パターンの製造方法 - 特許庁

MULTILAYER WIRING BOARD, AND METHOD FOR SENSING POSITIONAL DEVIATION OF CONDUCTOR WIRING PATTERN OF INNER-LAYER PORTION OF SAME例文帳に追加

多層配線基板とその内層部導体配線パターン位置ずれ検出方法 - 特許庁

After a specified period of time has passed, the variations for both of the right and left pattern rows 11 and 13 are stopped at the same time on the same pattern 14 with each other, and an a ready-to-winning state is generated.例文帳に追加

所定期間を経た後、左右両図柄列１１，１３の変動を互いに同一の図柄１４で同時に停止させ、リーチ遊技状態を発生させる。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME, AND CHEMICAL COMPOUND例文帳に追加

感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び化合物 - 特許庁

This picture pattern becomes the same one as the image data 40A stored in the stored part.例文帳に追加

この図柄は、記憶部に記憶された画像データ４０Ａと同様のものとなる。 - 特許庁