「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

ELECTRONIC APPARATUS WITH CASE EMBEDDED WITH TRANSMISSION LINE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

伝送線路パターンがケースに埋め込まれる電子装置及びその製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND PANEL HAVING PATTERN CALCINED BY USING SAME例文帳に追加

感光性ペースト組成物及びそれを用いて焼成物パターンを形成したパネル - 特許庁

OPTICAL FILM WITH RUGGED PATTERN AND PLANAR LIGHT SOURCE ELEMENT MEMBER USING THE SAME例文帳に追加

凹凸パターンを備えた光学フィルムおよびそれを用いた面光源素子部材 - 特許庁

MASK FORMING METHOD, MATERIAL FOR MASK, AND PATTERN FILM FORMING SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

マスク形成方法と、マスク用材料と、これを用いたパターン膜形成システム - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR DIPPING EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING REFLECTION PREVENTION FILM AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

微細パターン形成材料及びこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

MATERIAL FOR FORMING PROTECTIVE FILM, AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

保護膜形成用材料、およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE POSITIVE COMPOSITION AND MANUFACTURE OF RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性フィルム及びその製造方法、並びに、永久パターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN PRODUCING METHOD USING THE SAME AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの製造方法、電子部品 - 特許庁

Two fluorescent arc tubes have the same arrangement pattern of luminous dots 6.例文帳に追加

２つの蛍光発光管１，２は、発光ドット６の配置パターンが同一である。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いたパターン製造方法及び電子部品 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND MANUFACTURE OF RESIST PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁

Also the upper layer 32B of the bank pattern 32 is formed with the same material and in the same step as those of a blue color filter.例文帳に追加

また、土手パターン３２の上層３２Ｂは青色カラーフィルタと同じ材料により同じ工程で形成する。 - 特許庁

ENERGY LINE-SENSITIVE POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE RESIST USING THE SAME AND PICTORIAL PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感エネルギー線重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, RESIST PROTECTIVE FILM COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

含フッ素ポリマーとその製造方法、及びそれを含むレジスト保護膜組成物ならびにレジストパターン形成方法 - 特許庁

TOPCOAT COMPOSITION, ALKALI DEVELOPER-SOLUBLE TOPCOAT FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

トップコート組成物、それを用いたアルカリ現像液可溶性トップコート膜及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

DOT PATTERN DISPLAY MEDIUM AS WELL AS METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AUTHENTICITY DISCRIMINATION METHOD AND COPYING PREVENTION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ドットパターン表示媒体並びにこの作製方法、これを用いた真偽判定方法及び複写防止方法 - 特許庁

To provide: a method for forming a conductive pattern; a thin film transistor using the same; and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

導電パターンの形成方法とそれを利用した薄膜トランジスタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, only a 'common jackpot pattern' and an 'unlucky jackpot pattern' are once to be displayed and at the same time, when the common jackpot pattern or the unlucky jackpot pattern is once displayed, the display of the unlucky jackpot pattern as the confirmed pattern is to be refrained.例文帳に追加

さらに、「普通大当たり図柄」および「アンラッキー大当たり図柄」のみが一旦表示されるとともに、「普通大当たり図柄」あるいは「アンラッキー大当たり図柄」が一旦表示された場合には、「アンラッキー大当たり図柄」が確定表示されないようになっている。 - 特許庁

A gate electrode pattern 13a is formed, a CVD oxide film pattern is deposited, then a thermal oxide film pattern 11a and a CVD oxide pattern 17c are formed on the resistor pattern 7 by etching, and a spacer 17a is formed at the same time.例文帳に追加

ゲート電極パターン１３ａを形成し、ＣＶＤ酸化膜を堆積した後、エッチングにより、抵抗体パターン７上に熱酸化膜パターン１１ａ及びＣＶＤ酸化膜パターン１７ｃを形成し、同時にスペーサ１７ａを形成する。 - 特許庁

In the transmission method where a data signal and an information signal are exchanged between devices by means of communication adopting the full duplex system, when the information signal is a signal consecutively repeating the same pattern and the same patterns are transmitted, other pattern different from the same pattern is inserted between the same patterns.例文帳に追加

複数機器間でデータ信号及び情報信号の授受を全二重方式の通信によって行う伝送方法において、前記情報信号が、同一パターンを連続的に繰り返す信号であるとき、該同一パターンを送信する際に、このパターンとは異なる他のパターンを挿入する。 - 特許庁

In the case of selecting the fluctuation display pattern of a same group, no matter what kind it is, a same special pattern game command is transmitted from a game control board to a performance control board and a special pattern game is started on the basis of the special pattern game command.例文帳に追加

同じグループの変動表示パターンを選択した場合には、いずれの種類のものであっても同じ特図ゲームコマンドを遊技制御基板から演出制御基板に送信されて、該特図ゲームコマンドに基づいて特図ゲームが開始される。 - 特許庁

On a photomask substrate, a comparison pattern on a mask whole or a part of which is substantially the same as a circuit pattern on the mask, and an inspection pattern on the mask whole or a part of which is substantially the same as a measurement pattern on the mask are adjacently provided.例文帳に追加

フォトマスク基板上にマスク上回路パターンと全体もしくは一部が実質的に同一のマスク上比較パターンおよびマスク上測定パターンと全体もしくは一部が実質的に同一のマスク上検査パターンを近接して設ける。 - 特許庁

When determining whether a value is adopted from a latent image threshold pattern or from a background threshold pattern as a pixel value for each pixel in a tint block image for pixels belonging to the inside of the same latent image threshold pattern, the value is determined to be adopted from the same pattern.例文帳に追加

地紋画像における各画素の画素値として、潜像閾値パターンから値を採用するか、背景閾値パターンから値を採用するかを決定する際に、同一の潜像閾値パターン内部に属する画素では同じパターンから値を採用すると決定する。 - 特許庁

Furthermore, an auxiliary pattern 2 formed adjacently to the plane antenna 1 is made not as a linear pattern but as a plane pattern having the same area as one antenna pattern of the plane antenna, thereby suppressing antenna impedance low.例文帳に追加

さらに、平面アンテナ１に隣接して形成する補助パターン２を、線状ではなく、平面アンテナの１つのアンテナパターンと同じ面積を有する面パターンとして、アンテナインピーダンスを低く抑える。 - 特許庁

To provide: a negative radiation-sensitive composition capable of forming a cured pattern having a low relative dielectric constant; a cured pattern forming method using the same; and a cured pattern obtained by the cured pattern forming method.例文帳に追加

低比誘電率の硬化パターンを形成できるネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法および該硬化パターン形成方法により得られる硬化パターンの提供。 - 特許庁

Based on the data replacement information, a receiving device 3-1 replaces the bit pattern at the predetermined position of the data slot with a bit pattern computed by using the same spread code to restore the pattern to the initial bit pattern.例文帳に追加

受信装置３−１は、データ置き換え情報により、データスロットの所定位置のビットパターンを、同じ拡散符号を用いて演算したビットパターンに置き換えて、元のビットパターンに復元する。 - 特許庁

The expectation value of the large winning state generation in the case of selecting one reach pattern in a reach pattern group is made equal to the expectation value in the case of selecting the other reach pattern in the same reach pattern group.例文帳に追加

リーチパターン群の中の一のリーチパターンが選択された場合の大当たり状態発生の期待値を、同リーチパターン群の中の他のリーチパターンが選択された場合の期待値と等しくした。 - 特許庁

Finally, 0≤x≤2n-1 and 0≤y≤2n-1 are extracted as pattern images from pattern image areas 0≤x≤2n and 0≤y≤2n (S10) and a pattern is generated by repeatedly arranging the pattern images in the same direction or the like.例文帳に追加

最後に、模様画像領域の０≦ｘ≦２^n，０≦ｙ≦２^nから０≦ｘ≦２^n−１，０≦ｙ≦２^n−１を模様画像として抜き出し（Ｓ１０）、同一の向き等で繰り返し並べて模様を生成する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING ANTI-REFLECTION COATING, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED TYPE NEGATIVE RESIST CONTAINING THE SAME AND FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

重合体、これを含有する化学増幅型ネガレジスト及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST MATERIAL, BARRIER FILM FORMING MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

レジスト材料、バリア膜形成用材料及びそれらを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT USING SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁

RESIN STAMPER FOR PATTERN TRANSFER AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

パターン転写用樹脂スタンパ、及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING POLYSILICON PATTERN, THIN FILM TRANSISTOR AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ポリシリコンパターンの形成方法、薄膜トランジスタの製造方法及び薄膜トランジスタ - 特許庁

ELECTROCONDUCTIVE RESIN COMPOSITION AND SUBSTRATE HAVING ELECTROCONDUCTIVE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

導電性樹脂組成物、それを用いて得られる導電性パターンを有する基板 - 特許庁

BLANK FOR PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスク用ブランク及び位相シフトマスク及びそれを用いたパターン転写法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To change displayed sew pattern data to move or copy the same as well as to display the content of the sew pattern data corresponding to a plurality of sewing machines at the same time.例文帳に追加

複数台のミシンに対応する縫製模様データの内容を同時に表示するのみならず、これら表示した縫製模様データを移動又は複写するように変更する。 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトマスク、その製造方法およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁