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same patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4750件
PROTECTIVE FILM FORMING MATERIAL AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
保護膜形成用材料およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING PROTECTIVE FILM, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
保護膜形成用材料およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
To eliminate the necessity of developing a different resist for each mask by using the photoresist of the same kind for both a photomask having a punched pattern and another photomask having a solid pattern, and by obtaining a resist pattern having a rectangular shape even when the photomask having any pattern, either a punched pattern or a solid pattern, is used when the resist pattern is formed.例文帳に追加
レジストパターンの形成において、フォトマスクが抜きパターンの場合と残しパターンの場合に同一種類のフォトレジストを使い、かつ両方のパターンで矩形形状が得られるようにすることで、マスク毎に異なったレジストを開発する必要性を無くすことを目的とする。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE, PRODUCTION METHOD OF PATTERN FOR THE SAME, MANUFACTURING METHOD FOR THE SAME, AND PRODUCTION APPARATUS OF PATTERN FOR THE SAME例文帳に追加
半導体集積回路装置、半導体集積回路装置用パターンの生成方法、半導体集積回路装置の製造方法、および半導体集積回路装置用パターン生成装置 - 特許庁
Pixels adopting the value from the latent image threshold pattern are then included in the latent image portion, pixels adopting the value from the background threshold pattern are included in the background portion and for pixels belonging to the inside of the same latent image threshold pattern, the value is adopted from the same pattern.例文帳に追加
そして、潜像閾値パターンから値が採用された画素は、潜像部に含まれ、背景閾値パターンから値が採用された画素は、背景部に含まれ、同一の潜像閾値パターン内部に属する画素では同じパターンから値を採用する。 - 特許庁
Then, a center pattern is tentatively stop-displayed at the pattern of the kind shifted for one frame from the pattern of the same kind as the stop-displayed right and left patterns (S1303, S1305, S1308 and S1310).例文帳に追加
そして、停止表示された左右図柄と同種の図柄から一コマ分ずれた種類の図柄をもって中図柄を一旦停止表示させる(S1303,S1305,S1308,S1310)。 - 特許庁
Further, preferably the conductor pattern in the dummy circuit regions has the same shape as the conductor pattern forming the circuit pattern 2 in the component mounting region.例文帳に追加
また、ダミー回路領域における導体パターンを、部品実装領域内の回路パターン2をなす導体パターンに等しい形状とすることが好ましい。 - 特許庁
A test pattern generating means 40 generates a test pattern T with the same data value as the code pattern data based on the set range and the initial value I.例文帳に追加
試験パターン生成手段40は、設定された範囲及び初期値Iにもとづいて、符号パターンデータと同一のデータ値を持つ試験パターンTを生成する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AS WELL AS PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID STATE IMAGING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - 特許庁
When the stopped and displayed decoration pattern and a reach pattern satisfy the prescribed relation of the same pattern or the like, the possibility of imparting a privilege is announced in advance [S102].例文帳に追加
停止して表示された装飾図柄とリーチ図柄が同一図柄等の所定の関係を満たすと、特典付与の可能性を予告する〔ステップS102〕。 - 特許庁
The paring decorative object includes a base body with the convex lens-like prongs by the continuously distributed pattern formed thereon and a mounting body representing the pattern points in the same continuously distributed pattern.例文帳に追加
連続分布パターンで凸レンズ状の突起を形成したベース体と、同じ連続分布パターンで模様点を表現した載置体からなる組物装飾体。 - 特許庁
A second exposure device, comprising a reticle comprising the same exposure pattern as the reticle, is used to form a second pattern on a resist film comprising the first pattern (S20).例文帳に追加
上記レチクルと同じ露光パターンを有するレチクルを含む第2露光装置を用いて、第1パターンを有するレジスト膜に第2パターンを形成する(S20)。 - 特許庁
To provide a magnetized pattern forming device for efficiently forming a magnetized pattern in a magnetic recording medium and a magnetized pattern forming method using the same device.例文帳に追加
磁気記録媒体に磁化パターンを効率良く形成することができる磁化パターン形成装置と、この装置を用いた磁化パターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide: an antenna pattern frame having an antenna pattern part formed of a conductive wire; an electronic device comprising the antenna pattern frame; and a method of manufacturing the same.例文帳に追加
本発明は、導電性ワイヤで形成されたアンテナパターン部を有するアンテナパターンフレーム、アンテナパターンフレームを備える電子装置及びその製造方法に関する。 - 特許庁
A threshold being the same as that of a pixel to be painted after a visual pattern is set in the visual pattern so as not to reproduce the visual pattern (step S2).例文帳に追加
視覚的なパターンに対して、これが再現されないように該当パターンの次に塗られるべきピクセルと同じしきい値を設定する(ステップS2)。 - 特許庁
To form a fine isolated pattern at almost the same degree as dense patterns in exposure for transferring a circuit pattern in which the isolated pattern and the dense patterns are mixed.例文帳に追加
孤立パターンと密集パターンとが混在する回路パターンを転写する露光において、密集パターンと同程度に微細な孤立パターンを形成する。 - 特許庁
From a plurality of same patterns existing in a screen a mean pattern shape is calculated, and pattern information at each position and the mean pattern information are compared.例文帳に追加
画面内に存在する複数の同一パターンから平均のパターン形状を算出し、各測定位置でのパターン情報と平均パターン情報を比較する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID IMAGING ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加
感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - 特許庁
A pattern 401 and a pattern 402 being the same gray scale pattern are arranged on a space 400 so as to be point-symmetrical to a central point 403 on the space.例文帳に追加
紙面400上に同一の階調パターンであるパターン401とパターン402を紙面の中心点403に対して点対称に配置する。 - 特許庁
To provide a pattern display implement, a manufacturing method of the same and a pattern display apparatus using the same capable of displaying a different pattern from a different viewing direction with a simple configuration.例文帳に追加
簡単な構造で見る方向によって異なる図柄を表出することができる図柄表示具およびその製造方法並びにそれを用いた図柄表示装置を提供することである。 - 特許庁
CONDUCTIVE SUBSTRATE FOR PLATING, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, CONDUCTIVE LAYER PATTERN USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE WITH CONDUCTIVE LAYER PATTERN, SUBSTRATE WITH CONDUCTIVE LAYER PATTERN, AND TRANSLUCENT ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING MEMBER例文帳に追加
めっき用導電性基材、その製造方法及びそれを用いた導体層パターン若しくは導体層パターン付き基材の製造方法、導体層パターン付き基材および透光性電磁波遮蔽部材 - 特許庁
For a jackpot display, a given mole pattern line is stopped in position and the picture rows 37a to 37c are stopped so that the ones of the hammer patterns 35A to 35E that have the same color as the stopped mole pattern line are over the same mole pattern line.例文帳に追加
大当たりとする場合には所定のモグラ図柄列を停止させこのモグラ図柄列と同じ色のハンマー図柄35A〜35Eが配置されるように図柄列37a〜37cを停止させる。 - 特許庁
Optical axes of the pattern projectors 10, 11, the imaging system 12 are aligned on the same plane in parallel with the stripe pattern direction.例文帳に追加
パターン投影装置10,11,撮像装置12の光軸はストライプパターン方向に平行な同一平面に揃えられる。 - 特許庁
IRREGULAR PATTERN FORMATION SHEET, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, PROCESS SHEET ORIGINAL PLATE FOR DUPLICATING THE IRREGULAR PATTERN FORMATION SHEET AND OPTICAL ELEMENT例文帳に追加
凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、凹凸パターン形成シート複製用工程シート原版、光学素子 - 特許庁
In an approximate pattern calculation step, a lithographic target having the same corresponding relationship as an approximate value of the above corresponding relationship is calculated as an approximate pattern.例文帳に追加
前記対応関係の近似値と同じ対応関係を有したリソグラフィターゲットを近似パターンとして算出する。 - 特許庁
MANUFACTURE OF PHOSPHOR PATTERN, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, AND BACK PLATE FOR PHOSPHOR PATTERN AND PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加
蛍光体パターンの製造法、これに用いられる感光性エレメント、蛍光体パターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板 - 特許庁
FINE PATTERN FORMING MATERIAL AND FINE PLATING PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
微細パターン形成材料並びにこれを用いた微細めっきパターン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
After that, the same test pattern as the test pattern described above is sequentially recorded using the second and the subsequent line recording heads 203-205.例文帳に追加
ついで、第2以降のライン記録ヘッド203〜205の各々により、順次、前記テストパターンと同じテストパターンを記録する。 - 特許庁
CHARACTER PATTERN RECOGNITION PROCESSING METHOD AND ITS DEVICE, AND CHARACTER PATTERN RECOGNITION PROCESSING PROGRAM AND RECORDING MEDIUM RECORDING SAME PROGRAM例文帳に追加
文字パターン認識処理方法及びその装置、並びに文字パターン認識処理プログラム及び該プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁
The width and the arrangement period of the pattern parts 11Sa are constituted in nearly the same way as a dummy pattern 11D-1.例文帳に追加
そして、そのパターン部11Saの幅及び配列周期はダミーパターン11D−1とほぼ同様に構成されている。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加
レジストパターンの形成方法ならびにこれを用いた微細パターンの形成方法および液晶表示素子の製造方法 - 特許庁
The stepped pattern 11 is composed of a plurality of recesses 13 and equipped with an edge 15 on the same level with the pattern region 41.例文帳に追加
段差状パターン11は、複数の凹部13で、パターン領域41と同じ高さ位置にあるエッジ15を有する。 - 特許庁
To provide a cylindrical fabric with a novel shape or pattern and to provide a method for knitting the same capable of designing the novel shape or pattern.例文帳に追加
新規な形状や柄を表現することなどが可能な、筒状編地およびその編成方法を提供する。 - 特許庁
To efficiently carry out detection by transferring a pattern for detection of color deviation and a pattern for density detection on a same page.例文帳に追加
同一ページ内に色ずれ検出用のパターンと濃度検出用のパターンを転写し、効率良く検出を行う。 - 特許庁
The method for evaluating the semiconductor device comprises a step of previously disposing a measuring pattern of the same configuration as that of the circuit pattern of a chip at an arbitrary place of the semiconductor wafer.例文帳に追加
予め、半導体ウェーハの任意の場所にチップの回路パターンと同じ構成の測定パターンを配置する。 - 特許庁
On the second surface 32, a thick film virtual pattern section 40 of the same pattern as the pattern of the texture pattern section 11 in which transmission identification of color printing is possible is formed by printing at the same position as the position where the texture pattern section 11 is formed across the base material sheet 30.例文帳に追加
第2の面32に、基材シート30を挟んで、地柄模様部分11が形成されている位置と同位置に、地柄模様部分11と同じ模様の、有色印刷を透過識別可能な厚膜の仮想模様部分40が印刷によって形成されている。 - 特許庁
FINE PATTERN FORMING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
微細パターン形成材料及びこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURED USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法および装置並びにそれを用いて製造した電子デバイス - 特許庁
PHOTOSENSITIVE FILM, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME AND PROCESS FOR FORMING PERMANENT PATTERN例文帳に追加
感光性フィルム及びその製造方法、並びに永久パターンの形成方法 - 特許庁
LIQUID FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESS, AND RESIST-PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
液浸露光プロセス用液体および該液体を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING CONDUCTIVE PATTERN, WIRING CIRCUIT BOARD, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
導電性パターンの形成方法、配線板の製造方法及び配線板 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND PANEL HAVING PATTERN CALCINED BY USING SAME例文帳に追加
感光性ペースト組成物及びそれを用いて焼成物パターンを形成したパネル - 特許庁
A a-Si:H film 30 and a gate SlN film 22 are formed into the same pattern.例文帳に追加
a−Si:H膜30とゲートSiN膜22とを同一のパターンに加工する。 - 特許庁
ANTI-REFLECTIVE FILM FORMING MATERIAL AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
反射防止膜形成材料、およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PATTERN FORMING USING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING CAPACITOR例文帳に追加
樹脂組成物、これを利用したパターン形成方法、及びキャパシタ形成方法 - 特許庁
MATERIAL FOR FORMING RESIST PROTECTIVE FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
レジスト保護膜形成用材料およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN PRODUCING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
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