「same pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

Pattern projectors 10, 11 are arranged so that two projectors are overlapped in the stripe pattern direction, so called a stack system and the same pattern is projected.例文帳に追加

パターン投影装置１０，１１をストライプパターン方向にいわゆるスタック方式で二台重ねるように配置し，同じパターンを投影する。 - 特許庁

The gate insulating layer pattern is patterned at the same time with any one of the polycrystalline silicon layer pattern or the first conductive layer pattern.例文帳に追加

ゲート絶縁膜パターンは、多結晶シリコン層パターンおよび第１導電膜パターンのうちのいずれか１つと共にパターニングされる。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING METAL PATTERN AND BASE MATERIAL WITH CONDUCTOR LAYER PATTERN, BASE MATERIAL WITH CONDUCTOR LAYER PATTERN, AND ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING MEMBER USING THE SAME例文帳に追加

金属パターン及び導体層パターン付き基材の製造法、導体層パターン付き基材並びにそれを用いた電磁波遮蔽部材 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PREPARING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物、その調製方法及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

METAL NANOCOLLOIDAL COMPOSITION, INK COMPRISING THE SAME AND METHOD FOR FORMING METAL PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

金属ナノコロイド系組成物、それを含むインクおよびそれを用いた金属模様の形成方法 - 特許庁

RESIN, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

樹脂およびその製造方法、それを用いたポジ型感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN, PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂、それを含むフォトレジスト組成物及びそれを用いたフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

SOFT PHOTOMASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND METHOD FOR FORMING PATTERN EMPLOYING SAME例文帳に追加

フォトリソグラフィ用の軟質フォトマスク、その製造方法及びそれを採用したパターン形成方法 - 特許庁

ANTIREFLECTION FILM MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, ANTIREFLECTION FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMATION例文帳に追加

反射防止膜材料、及びこれの製造方法、これを用いた反射防止膜、パターン形成 - 特許庁

PATTERN DETECTION CIRCUIT, BASE STATION AND MOBILE COMMUNICATION SYSTEM USING THE SAME, AND PATTERN DETECTING METHOD例文帳に追加

パターン検出回路及びそれを用いた基地局並びに移動通信システム及びパターン検出方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND MANUFACTURE OF RESIST PATTERN BY USING THE SAME, AND ELECTRIC CIRCUIT BOARD EACH BY USING THE RESIT PATTERN MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いたレジストパターンの製造法及び電気回路板の製造法 - 特許庁

IMAGE PATTERN CORRECTION METHOD, SIMULATION IMAGE GENERATION METHOD USING SAME, AND PATTERN APPEARANCE INSPECTION METHOD例文帳に追加

画像パターン補正方法、及びそれを適用した模擬画像生成方法、並びにパターン外観検査方法 - 特許庁

The auxiliary pattern 103 provided for each channel pattern has the same shape to each other.例文帳に追加

各々のチャネルパターンに対して設けられた補助パターン１０３は、互いに同一形状になっている。 - 特許庁

The antenna pattern 2 is manufactured by the same method as that for the circuit pattern, printing alternatively etching is performed, and a copper foil is produced.例文帳に追加

アンテナパターン２は、配線パターンと同じ方法で銅箔を印刷あるいはエッチングして作製する。 - 特許庁

PATTERN PIECE FOR TESSELLATION OF PLANE, AND PATTERN PIECE CONSTRUCTION, AND TESSELLATED PLANE USING THE SAME例文帳に追加

平面充填用の図形ピースおよびその図形ピース組、図形ピース組が適用された平面充填体 - 特許庁

The code component pattern of the binary processing error E has the same characteristic as that of a binary processing output pattern.例文帳に追加

ここで、２値化誤差Ｅの符号成分パターンは２値化出力パターンと同じ特性を有している。 - 特許庁

The subpattern 2 has the same structure as the main pattern 1, and the size of the subpattern 2 is smaller than that of the main pattern 1.例文帳に追加

サブパターン２はメインパターン１と同一構造を有し、且つメインパターン１よりもサイズが小さい。 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD AND SOLAR CELL MANUFACTURING METHOD USING THE SAME, AND RESIST PATTERN FORMING APPARATUS例文帳に追加

レジストパターンの形成方法とそれを用いた太陽電池の製造方法、ならびに、レジストパターン形成装置 - 特許庁

At the same time, the circuit 11 gives an update control instruction of a scramble pattern e1 to a scramble pattern generating circuit 13.例文帳に追加

同時にスクランブルパターン発生回路１３に対してスクランブルパターンｅ１の更新制御指示をなす。 - 特許庁

It is preferable that the inner-layer conductor pattern 3 is formed into the same shape as the surface conductor pattern 2.例文帳に追加

内層導体パターン３は、表面導体パターン２と同じ形状に形成されることが好ましい。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PERMANENT PATTERN FORMING APPARATUS AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性フィルム及びその製造方法、並びに永久パターン形成装置及び永久パターン形成方法 - 特許庁

BLACK PASTE COMPOSITION, FORMING METHOD OF BLACK MATRIX PATTERN USING SAME, AND ITS BLACK MATRIX PATTERN例文帳に追加

黒色ペースト組成物、及びそれを用いたブラックマトリックスパターンの形成方法、並びにそのブラックマトリックスパターン - 特許庁

A pattern data memory stores a plurality of different pattern data items having the same data size as that of a bit plane.例文帳に追加

パターンデータ記憶部は、ビットプレーンとデータサイズが同じである複数の異なるパターンデータを記憶する。 - 特許庁

CONSTANT-PRESSURE CHAMBER, IRRADIATION DEVICE EMPLOYING THE SAME, DEVICE FOR MANUFACTURING CIRCUIT PATTERN, AND DEVICE FOR INSPECTING CIRCUIT PATTERN例文帳に追加

定圧チャンバ、それを用いた照射装置、回路パターンの製造装置及び回路パターンの検査装置 - 特許庁

IMAGE PATTERN CORRECTION METHOD, SIMULATED IMAGE GENERATION METHOD USING THE SAME AND PATTERN APPEARANCE INSPECTION METHOD例文帳に追加

画像パターン補正方法、及びそれを適用した模擬画像生成方法、並びにパターン外観検査方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MULTILAYER RESIST PATTERN AND ETCHING METHOD USING MULTILAYER RESIST PATTERN FORMED BY THE SAME例文帳に追加

多層レジスト・パターンの形成方法及び該方法で形成した多層レジスト・パターンを用いるエッチング方法 - 特許庁

METHOD TO ACTIVATE SILICON SURFACE, MOLECULE PATTERN GENERATED BY THE SAME, AND USE OF MOLECULE PATTERN例文帳に追加

シリコン表面の活性化方法、これにより生成される分子パターン及びその分子パターンの使用方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PHOTOMASK OBTAINED BY THE SAME AND METHOD FOR IMPROVING DIFFERENCE OF MASK PATTERN DIMENSION ON PATTERN ROUGHNESS/FINESS例文帳に追加

フォトマスクの製造方法、それによって得られたフォトマスクおよびマスクパターン寸法の疎密差改善方法 - 特許庁

TITANIA NANO FINE CRYSTAL DISPERSED THIN FILM PATTERN AND PRODUCTION METHOD FOR THE SAME AND ARTICLE WITH THE THIN FILM PATTERN例文帳に追加

チタニアナノ微結晶分散薄膜パターンとその製造方法およびその薄膜パターンを備えた物品 - 特許庁

LIQUID CRYSTAL PHOTOMASK, PATTERN EXPOSURE METHOD USING SAME, PATTERN EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DNA CHIP例文帳に追加

液晶式フォトマスク、それを用いたパターン露光方法、パターン露光装置及びＤＮＡチップの製造方法 - 特許庁

To provide a small and lightweight protrusion pattern forming device which has a display function and can form a protrusion pattern and display the dot pattern synchronizing with this pattern at the same time.例文帳に追加

突起パターンの形成とそのパターンに同期したドットパターンの表示とを同時に行うことができる、小型で軽量の表示機能付き突起パターン形成装置を得る。 - 特許庁

To provide a phase shift mask which improves the NILS value of a pattern of ≤50 nm in mask pattern size when the pattern is exposed and a pattern exposing method using the same.例文帳に追加

マスクパターンサイズが５０ｎｍ以下パターンを露光する場合に、そのＮＩＬＳ値を改善する位相シフトマスクおよび、これを用いたパターン露光方法を提供する。 - 特許庁

The pattern selection section 22 selects a reference pattern close to the coding object pattern among reference patterns belonging to the same category to which the coding object pattern is classified.例文帳に追加

パタン選択部２２は、符号化対象パタンが分類されたカテゴリと同一のカテゴリに属する参照パタンの中から、符号化対象パタンに近似する参照パタンを選択する。 - 特許庁

APPARATUS FOR MEASURING MASS DEVIATION OF DROPLETS, METHOD FOR MEASURING MASS DEVIATION OF DROPLETS USING THE SAME, PATTERN FORMING SYSTEM USING THE SAME, AND METHOD OF CONTROLLING PATTERN FORMING SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

液滴質量偏差測定装置、その液滴質量偏差測定方法、これを用いるパターン形成システム、及びこれを用いるパターン形成システムの制御方法 - 特許庁

In addition, in a part of the case when the jackpot pattern in displayed as the confirmed pattern, a jackpot pattern which is the same as or different from the jackpot pattern to be displayed as the confirmed pattern, is once to be displayed before the display of the confirmed pattern.例文帳に追加

また、「大当たり図柄」が確定表示される場合の内の一部の場合に、その確定表示前に、確定表示される「大当たり図柄」と同一あるいは異なる「大当たり図柄」が一旦表示されるようになっている。 - 特許庁

NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD, COMPOSITION USED IN THE SAME AND RESIST FILM例文帳に追加

ネガ型パターン形成方法、これに用いられる組成物及びレジスト膜 - 特許庁

MESH PATTERN-ADDED HEAT SEAL PAPER FOR FILTERING LIQUID AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

メッシュパターン付き液体ろ過用ヒートシール紙およびその製造方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFYING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

CRYSTALLIZATION PATTERN AND METHOD OF CRYSTALLIZING AMORPHOUS SILICON USING THE SAME例文帳に追加

結晶化パターンおよびこれを用いた非晶質シリコンの結晶化方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RELIEF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物の製造方法、及びそれを用いたレリーフパターン - 特許庁

METHOD OF FORMING RESIST UNDERLAY FILM AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

レジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING LOWER LAYER FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

下層膜形成用組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法及びこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

DOUP WEAVE HAVING THREE-DIMENSIONAL PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

立体感のある柄模様を有するカラミ織物及びその製造方法 - 特許庁