「sputtering method」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

WAFER BACK SIDE SPUTTERING METHOD AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加

ウェーハ裏面スパッタリング方法及び半導体製造装置 - 特許庁

HIGH-PURITY RUTHENIUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

高純度ルテニウムスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

スパッタリング用ターゲットおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁

HIGH PURITY IRIDIUM SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

高純度イリジウムスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

Ag ALLOY SPUTTERING TARGET, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

Ａｇ基合金スパッタリングターゲット、およびその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING TUNGSTEN SINTERED COMPACT TARGET FOR SPUTTERING例文帳に追加

スッパタリング用タングステン焼結体ターゲットの製造方法 - 特許庁

TARGET FOR SPUTTERING, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND TARGET MEMBER例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット、その製造方法及びターゲット部材 - 特許庁

DISPLAY DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

表示デバイスおよびその製法、ならびにスパッタリングターゲット - 特許庁

DISPLAY DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING SAME, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

表示デバイスおよびその製法、ならびにスパッタリングターゲット - 特許庁

TARGET JOINED BODY FOR SPUTTERING AND PRODUCING METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット接合体及びその製造方法 - 特許庁

MOLD FOR PRODUCING COMPACT FOR SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタリングターゲット用の成形体を製造するための成形型およびスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

STANDARD SAMPLE FOR SPUTTERING RATE CORRECTION, AND METHOD OF CALCULATING SPUTTERING RATE RATIO BY USING THE SAME例文帳に追加

スパッタ率補正用標準試料およびその試料を用いたスパッタ率比の算出方法 - 特許庁

OPTICAL DISK PROTECTIVE FILM, SPUTTERING TARGET FOR DEPOSITING PROTECTIVE FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SPUTTERING TARGET例文帳に追加

光ディスク用保護膜、保護膜形成用スパッタリングターゲットおよび該スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING Mn ALLOY SPUTTERING TARGET, AND Mn ALLOY SPUTTERING TARGET MANUFACTURED THEREBY例文帳に追加

Ｍｎ合金スパッタリングターゲットの製造方法及びその製法によるＭｎ合金スパッタリングターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK OBTAINED BY USING THE SAME SPUTTERING TARGET AND METHOD OF PRODUCING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

COPPER ALLOY FOR SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING TARGET USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット用銅合金及びそれを用いたスパッタリングターゲット並びにその製造方法 - 特許庁

MOLD, MOLDED PIECE BY USING THE SAME, MANUFACTURING METHOD FOR SPUTTERING TARGET AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

成形型、それを用いた成形体及びスパッタリングターゲットの製造方法並びにスパッタリングターゲット - 特許庁

COOLING PLATE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

冷却板とその製造方法及びスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁

TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM DEPOSITION METHOD, AND SPUTTERING SYSTEM FOR USE IN THE METHOD例文帳に追加

透明導電膜形成方法及び該方法に用いるスパッタリング装置 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING IRIDIUM SPUTTERING TARGET, AND TARGET OBTAINED BY THE METHOD例文帳に追加

イリジウムスパッタリングターゲットの製造方法及びその方法で得られたターゲット - 特許庁

To provide a sputtering method which can improve embedding properties when a metallic material is embedded in recessed parts by a single sputtering apparatus, and to provide a sputtering apparatus used for the sputtering method.例文帳に追加

単一のスパッタ装置によって金属材料を凹部に埋め込む際にその埋め込み性を向上させることができるスパッタ方法及び該スパッタ方法に用いられるスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

The vacuum process is performed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method or the like.例文帳に追加

真空プロセスは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等である。 - 特許庁

To provide: a sputtering source which has a rotary cylindrical target and with which the film thickness of a thin film can be controlled with a good precision; a sputtering film deposition apparatus equipped with the sputtering source; and a sputtering film deposition method using the sputtering film deposition apparatus.例文帳に追加

精度よく薄膜の膜厚を制御することができる、回転円筒ターゲットを備えたスパッタ源、該スパッタ源を備えたスパッタ成膜装置、および該スパッタ成膜装置を用いたスパッタ成膜方法を提供する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリングターゲット材および蒸着材とその製造方法 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING Ge-Sb-Te SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND THEIR MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

スパッタリングターゲット、透明導電膜およびそれらの製造法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND RAW MATERIAL FOR TARGET MATERIAL例文帳に追加

スパッタリングターゲット、その製造方法およびターゲット材原料 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING MOLYBDENUM TARGET FOR SPUTTERING AND MOLYBDENUM TARGET例文帳に追加

スパッタリング用モリブデンターゲットの製造方法及びモリブデンターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR MAGNETIC RECORDING FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

磁気記録膜用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

The metal oxide film 3 is formed by the helicon sputtering method.例文帳に追加

酸化金属膜３は、ヘリコンスパッタ法により形成される。 - 特許庁

BLUE FILM STRUCTURE, METHOD FOR FORMING BLUE FILM, AND SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

青色膜構造体、青色膜の形成方法、スパッタ装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET MATERIAL OF Co-Cr BASED ALLOY例文帳に追加

Ｃｏ−Ｃｒ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET MATERIAL OF Mo ALLOY例文帳に追加

円筒型Ｍｏ合金スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

ADHESIVE TAPE FOR MASKING AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET例文帳に追加

マスキング用粘着テープおよびスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

透明導電膜とその製造方法およびスパッタリングターゲット - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND FILM FORMING METHOD USING THE SYSTEM例文帳に追加

マグネトロンスパッタ装置およびその装置を用いた製膜方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING Ge-Sb-Te SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING THIN FILM THROUGH SPUTTERING TECHNIQUE, AND PRODUCTION APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

スパッタリングによる薄膜の製造方法及び製造装置 - 特許庁

AUTOMATIC PTF MEASURING METHOD FOR SPUTTERING TARGET, AND INSTRUMENT THEREFORE例文帳に追加

スパッタターゲットの自動ＰＴＦ測定方法及びその装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND OPTICAL RECORDING MEDIUM例文帳に追加

スパッタリングターゲットとその製造方法、及び光記録媒体 - 特許庁

METHOD FOR GROWING CRYSTAL THIN FILM AT LOW TEMPERATURE BY PLASMA SPUTTERING例文帳に追加

プラズマスパッタリングによる結晶薄膜の低温成長法 - 特許庁

The seed layer 2 is formed by using, for example, a sputtering method.例文帳に追加

シード層２は、例えばスパッタリング法を用いて形成される。 - 特許庁

SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD, OPTICAL ABSORPTION FILM AND ND FILTER例文帳に追加

スパッタ成膜方法、光吸収膜並びにＮＤフィルター - 特許庁

CoCrPt-based SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ＣｏＣｒＰｔ系スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL OF HIGH MELTING POINT ELEMENT, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

高融点元素スパッタリングターゲット材及びその製造方法 - 特許庁