「Chemical Processing」を含む例文一覧(726)

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  • To provide an injection molded article which utilizes such essential features of a polyolefin resin as toughness, and molding and processing characteristics and which is excellent in resistance to permeation of a liquid chemical and a gas.
    ポリオレフィン樹脂の本質的特徴である強靱性、成形加工性などの性質を活かし、かつ、薬液およびガスの耐透過性が顕著に優れた射出成形品を提供する。 - 特許庁
  • The processing effects such as curing, annealing, implant activation, selective melting, deposition, and chemical reaction can be achieved with a dimension limited by a diameter of the focused laser beam.
    例えば、硬化、焼きなまし、インプラント活性化、選択的溶融、デポジション、及び化学反応のような処理効果が、集束ビーム直径によって限定された寸法で達成されることができる。 - 特許庁
  • In the surface processing of a vacuum sliding material, the surface maximum roughness of the sliding material by mechanical or chemical polishing is set to within a range from 70 nm-200 nm.
    真空用摺動材料の表面処理において、その機械的又は化学的研磨による摺動材料の表面最大粗さを７０ｎｍから２００ｎｍの範囲とする。 - 特許庁
  • To provide a small-sized processing apparatus for a fibered product which can markedly reduce the consumption of a treating liquid of a chemical or a stain and has high head exchange rate of the treating liquid.
    薬液や染色剤等の処理液の量を大幅に少なくすることができるとともに、処理液の熱交換率の高い小型の繊維製品の加工処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To obtain a molded material consisting of a flame retardant vinyl chloride resin molded material satisfying the FM standard as a clean room material and having a sufficient strength, chemical resistance, bending processing property, or the like.
    クリーンルーム材料のＦＭ規格を満足する難燃性塩化ビニル樹脂成形体であって、充分な強度、耐薬品性、曲げ加工性等を備えた成形体を提供する。 - 特許庁
  • To provide a chemical processing apparatus including a gas producer in which a liquid amount, liquid temperature, and liquid pressure are easily controlled, and mixed vapor with stabilized property is ensured.
    液量、液温度、液圧力の制御が容易に行えながら、安定した質の混合蒸気が得られるガス発生器を備えた化学処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • An acoustic radiation sample with respect to chemical and mechanical polishing processing is gathered and analyzed with the usage of Fourier transform in order to detect the vibration of the wafer showing the scratch, namely, the damage.
    化学的機械的研磨処理に対する音響放出サンプルを採取し且つフーリエ変換を使用して分析してスクラッチ即ち傷を表わすウエハの振動を検知する。 - 特許庁
  • The composite material tube provided is highly suitable for use in the petrochemical industry and chemical processing industry in order to increase the efficiency and productivity in the individual manufacturing processes.
    本発明により提供される複合材料チューブは、石油化学および化学処理工業に使用し、それぞれの製法における効率および生産性を高めるのに非常に好適である。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing method that allows a coating film to be uniformly and highly precisely flattened without applying a high-load process such as chemical mechanical polishing, and to provide an apparatus therefor.
    化学機械研磨のような高負荷プロセスを経ることなく、均一かつ高精度な塗布膜の平坦化を図れるようにした基板処理方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor manufacturing apparatus in which an abrasive cloth to be used at the time of CMP(chemical mechanical polishing) processing a wafer is surface-processed, and a wetness for a slurry and water on the surface is enhanced.
    ウェーハをＣＭＰ処理する時に使われる研磨布を表面処理し、その表面のスラリーや水に対する濡れ性を向上させる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
  • To raise a temperature of new liquid by the heat exchange of waste liquid and new liquid without mixing new liquid and waste liquid in a processing tank, to reduce energy and to shorten a chemical exchange time.
    処理槽内で新液と廃液とが混ざることなしに、廃液と新液との熱交換により新液を昇温することができ、エネルギー削減及び薬液交換時間短縮をはかる。 - 特許庁
  • In this initial chemical processing (time until time T1 elapses from time 0), a flow rate of hydrofluoric acid solution is suppressed to 510 (mL/min) and the usage of hydrofluoric acid is suppressed.
    そこで、初期薬液処理（時刻０から時間Ｔ1が経過するまでの間）においてはフッ酸溶液の流量を５１０（ｍＬ／ｍｉｎ）に抑えてフッ酸の使用量を抑制している。 - 特許庁
  • To prevent contamination of a substrate due to a substrate processing liquid, mist and the like, and to make continuously performable a series of chemical processings including spin drying of the substrate with the same device.
    基板の基板処理液やミスト等による汚染を防止して、基板のスピン乾燥を含めた一連の薬液処理を同一装置で連続して行うことができるようにする。 - 特許庁
  • To provide an asymmetric grounded susceptor (72) used in a plasma processing chamber (40) for chemical vapor deposition onto large rectangular panels (74) supported on and grounded by the susceptor.
    化学蒸着用プラズマ処理チャンバ（４０）に用いる非対称に接地されたサセプタ（７２）であって、サセプタによりサポートされ、接地された大きな矩形パネル（７４）が上にあるものを提供する。 - 特許庁
  • To provide a polyimide film capable of improving yield in circuit board processing by improving chemical resistance of the polyimide film and inorganic particles added in the polyimide film as a lubricant.
    ポリイミドフィルムならびに該ポリイミドフィルム中に滑剤として添加する無機粒子の耐薬品性を改善することによって、配線板加工時の歩留まりを改善できるポリイミドフィルムを提供する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a semiconductor device that reduces the amount of side etching of wet etching processing while maintaining cleanness of a chemical, and a wet etching device.
    本発明は、薬液の清浄度を保ちつつ、ウエットエッチング処理のサイドエッチング量を低減させる半導体装置の製造方法及びウエットエッチング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING MEANS TO REMOVE MALODOROUS SUBSTANCE SUCH AS AIR POLLUTION, A CHEMICAL ODOR, CEDAR POLLENS BY PROCESSING ZINC AND TITANIUM INTO ZEOLOTE GRANULES BY CATALYST REDUCTION SINTERING AND APPLYING THE MATERIAL TO NONWOVEN FABRIC
    沸石粒状に亜鉛、チタンを触媒還元焼結加工し、その素材を不織布に塗布し、空気汚染や化学物質臭、杉花粉など悪臭物質除去の製造方法 - 特許庁
  • To provide a polymer optical waveguide using a crosslinked polyimide, the waveguide which can be manufactured under general conditions for manufacturing polyimides and which is excellent in heat resistance, chemical resistance and processing property.
    一般的なポリイミドの製造条件下で製造することができ、耐熱性、耐薬品性、加工性に優れた架橋ポリイミドを用いた高分子光導波路を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a substrate processor and a substrate processing method with which occurrence of a watermark can be prevented and pure water or chemical can efficiently be supplied to a surface of a substrate.
    ウォーターマークの発生を防止するとともに、基板の表面に純水または薬液を効率よく供給することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor manufacturing system for recovering chemical energy while processing the combustible gas exhausted in a manufacturing process of a semiconductor.
    この発明は半導体の製造過程で排出される可燃性ガスの処理においてガスの処理を行ないながら、その化学エネルギーを回収する半導体製造システムに関するものである。 - 特許庁
  • To provide an improved method and apparatus for chemical mechanical processing of metal and barrier materials which increases substrate throughput while maintaining improved planarization efficiency.
    改善された平坦化効率を維持しつつ基板スループットを増大することができるような、金属及びバリヤ物質を化学機械処理するための改良された方法及び装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a waste liquid processing method in a semiconductor manufacturing process in which even when the use quantity of chemical fluctuates, solidification is prevented from being generated in the discharge piping of mixed waste liquid.
    薬液の使用量が変動しても混合廃液の排出配管において固化を生じさせない半導体製造工程における廃液処理方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a molded product for a heat insulating container, having improved recyclability with relatively low heat discoloration during molding processing, excellent various physical properties such as strength or gloss and further excellent chemical resistance.
    成形加工時の熱変色が比較的少なくリサイクル性が改善され、強度や光沢等の諸物性、更に耐薬品性に優れた断熱容器用成形品を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a stamper for manufacturing optical recording media by forming an oxide film providing an exfoliated face after electroplating without using a processing chemical so as to suppress increase in the surface roughness.
    処理薬液を用いずに電解メッキ後の剥離面を供する酸化膜を形成し、表面粗度の増加を抑制した光学記録媒体製造用スタンパの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a lining processing method of a printed wiring board wherein neglect property until lamination and adhesive property of resin and a copper foil are improved without depending on resin grade, and harrowing phenomenon is not generated, and to provode a lining substrate formed by the lining processing method, and chemical coarsening liquid used for the lining processing.
    積層までの放置特性、および樹脂と銅箔との接着性を樹脂グレードによらず優れたものとし、かつハローイング現象を発生させることのないプリント配線板の内層処理法、該内層処理方法により作製された内層回路基板、および該内層処理に用いる化学粗化液を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for processing a nanotube, capable of selectively processing the tip part of the nanotube into a fixed shape by an extremely simple method without using a chemical wet process, especially processing the tip part of the nanotube into a shape useful as an electronic element such as a field-effect electron gun, etc.
    化学的なウェットプロセスを用いることなく、極めて簡便な方法によりナノチューブの先端部を選択的に所定の形状に加工することができ、特に、ナノチューブの先端部を電界効果型電子銃等の電子素子として有用な形状に加工することができるナノチューブの加工方法を提供する。 - 特許庁
  • In this circulation type solid processing device 1, a crushing part to crush solids, an agitating part to agitate the crushed solids with liquid, and a bubbling part to accelerate chemical decomposition of the solids are provide in a first processing tank A, so that the solids are mechanically and chemically decomposed in the first processing tank A, and a load on a second processing tank and on can be minimized.
    循環式固形物処理装置１において、第１処理槽Ａに固形物を粉砕する粉砕部９と粉砕された固形物を液体と攪拌させる攪拌部１０と固形物の化学的分解を促進させる気泡部１１を設け、第１処理槽Ａ内で固形物を機械的化学的に分解し、第２処理槽以降の負荷を極力軽減させている。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing method and processing equipment thereof, in which even if any hydrophobic surface comes out on a surface of a processed substrate by supplying a few volume of chemical on the processed substrate, it is possible to form a liquid film without generating any droplet causing a particle.
    少量で薬液を被処理基板上に供給して、被処理基板表面に疎水面が出て来ても、パーティクルの原因となる液滴にならずに液膜を形成させることのできる基板処理方法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁
  • (ii) Said usage shall not be related to the manufacture or processing of products provided mainly for use in the daily lives of general consumers, and the use of said Class I Specified Chemical Substance for said usage shall not pose a risk of causing environmental pollution attributable to said Class I Specified Chemical Substance.
    二　当該用途が主として一般消費者の生活の用に供される製品の製造又は加工に関するものでないことその他当該用途に当該第一種特定化学物質が使用されることにより当該第一種特定化学物質による環境の汚染が生じるおそれがないこと。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • During rotation at the time of processing the substrate using at least pure water or a chemical, the chemical that has been scattered from the surface or end face of the substrate or the substrate holding section can be scattered from the outer circumferential part of the side plate through a space between the side plates of the rotator spaced apart from the substrate as shown by an arrow 9.
    少なくともに純水や薬液などを用いた基板処理をする際の回転時に基板表面や端面及び基板保持部から飛散する薬液などを基板から離れた回転体の側板間の空間などを介して側板外周部から矢印９に示すように飛散させることができる。 - 特許庁
  • To provide a method of eliminating the problem of environmental pollution caused by disposal of dump liquid which is electrolyte liquid containing free sulfuric acid exhausted after chemical treatment at manufacturing process of a lead-acid storage battery, by re-using the dump liquid as electrolyte liquid for chemical reaction or by processing it so as to be used as an electrolyte liquid for manufacturing a battery.
    鉛蓄電池の製造過程で、化成処理後排出せしめた遊離硫酸電解液、即ち、ダンプ液を廃棄することなく、これを、化成用電解液として再利用したり、電池製造用電解液として使用できるよう処理し、ダンプ液の廃棄による環境汚染問題を解消する処理法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an electrolytically phosphating chemical-conversion treatment method which can miniaturize the facility, can control the reaction, and can place the apparatus so as to be incorporated in a workpiece processing line and combined with other mechanical facilities, and to provide an apparatus therefor.
    設備の小型化・反応の制御を可能とし、部品加工ラインの中に組み込み、他の機械設備と連結して設置し得る電解リン酸塩化成処理方法および装置を提供する。 - 特許庁
  • By having the substrate partially removed through grinding, polishing, and etching processing or the like, based on a chemical treatment, the substrate can be reduced in thickness.
    基板を薄膜化する手段としては、基板の他方の面から研削処理、研磨処理、化学処理によるエッチング等を行うことによって基板を部分的に除去することによって行うことができる。 - 特許庁
  • To provide a mechanism capable of reducing a difference in processed dimensions caused by a difference in density of a pattern, when processing the pattern formed on a semiconductor substrate by chemical reaction with a reactive gas.
    半導体基板に形成されたパターンを、反応性ガスとの化学反応により加工する場合に、当該パターンの疎密差に伴う加工寸法差を低減することができる仕組みを提供する。 - 特許庁
  • To provide a water-resistant/oil-resistant cellulose substantially composed of only cellulose without carrying out lamination with a synthetic polymer film, coating with a fluorine/silicon-based chemical, etc., use of a sizing agent and resin processing, etc.
    合成高分子フィルムでのラミネート、フッ素・シリコン系薬剤等でのコーティング、サイズ剤の使用、樹脂加工等を施さないで、実質的にセルロースのみからなる耐水・耐油性セルロースを提供すること。 - 特許庁
  • A first cleaning liquid having the same components as those of the chemical is supplied to an outer wall face 24W of the splash guard 24 from a guard cleaning nozzle 81 without via the substrate W during the processing of the substrate W.
    基板Ｗの処理時に、薬液と同じ成分の第１の洗浄液を、基板Ｗを介することなくガード洗浄用ノズル８１からスプラッシュガード２４の外壁面２４Ｗへと供給する。 - 特許庁
  • To assure airtightness between a reaction tube and a manifold without inserting an additional buffer even when the thickness of a flange in a reaction tube is reduced by chemical cleaning in a vertical type wafer processing apparatus.
    縦型ウエハ処理装置において、反応管のフランジの厚みが薬液洗浄により減少した場合であっても、追加で緩衝材を挿入することなく、反応管とマニホールドの気密性を確保する。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing apparatus which can remove electric charge on the underside of a glass substrate supported by a supporting member made of a chemical resistant resin so that it can prevent discharge brakedown from occurring.
    耐薬品性樹脂製の支持部材で支持されたガラス基板の下面上の電荷を効率的に除去してガラス基板の放電破壊などを防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To realize an aluminum alloy which has high efficiency for production cost, has desired mechanical and chemical properties, and has an effect of elongating the operation life of processing equipment in combination with anodization coating.
    製造費用効率が高く、所望の機械的および化学的特性を有し、陽極酸化被覆と組み合わせたときに処理装置の稼動寿命を延ばすのに効果があるアルミニウム合金を実現する。 - 特許庁
  • Although the stirring amount of the chemical positioned at rotational center is small when compared to other region, the fitting position of the rotating shaft 12 to the stage 10 can be changed in the semiconductor substrate processing apparatus.
    回転中心に位置する薬液の攪拌量は他の領域と比較して小さいが、この半導体基板処理装置では、ステージ１０に対する回転軸１２の取り付け位置を変更することができる。 - 特許庁
  • To provide a lithographic printing plate which is excellent in developability with a chemical-less processing agent and printability in the lithographic printing plate having a hydrophilic layer and an image forming layer on a plastic film substrate.
    プラスチックフィルム支持体上に親水性層、画像形成層が設けられた平版印刷版において、ケミカルレス処理剤による現像性と印刷性に優れた平版印刷版を提供する。 - 特許庁
  • When analysis result of chemical analysis by an analysis processing part 20 of a chromatograph analyzer 2-1 shows abnormality, a free sentence showing the abnormality is input and the free sentence is subjected to document analysis.
    クロマトグラフ分析装置２−１の分析処理部２０で化学分析を行った分析結果が異常を示したとき、その異常を示す自由文の入力し、この自由文を文書解析する。 - 特許庁
  • In another embodiment, the chamber is one of a chemical vapor deposition chamber, a load lock chamber, a metrology chamber, a thermal processing chamber, or a physical vapor deposition chamber, a load lock chamber, a substrate transfer chamber or a vacuum chamber.
    他の実施形態において、チャンバは、化学気相成長チャンバ、ロードロックチャンバ、計測チャンバ、熱処理チャンバ、又は物理気相成長チャンバ、ロードロックチャンバ、基板搬送チャンバ、又は真空チャンバの１つである。 - 特許庁
  • (7) The term "fabricating and enrichment" as used in this Act means physical or chemical processing of nuclear fuel material in order to change the nuclear fuel material into such a form or composition that it may be used as fuel in a reactor.
    ７　この法律において「加工」とは、核燃料物質を原子炉に燃料として使用できる形状又は組成とするために、これを物理的又は化学的方法により処理することをいう。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • The distributed data collection system includes the modules 12 each equipped with at least an arithmetic processing section 24 and a communication section 32, and including an input output means for a physical/chemical signal and which are distributed and arranged in an optional area.
    少なくとも演算処理部２４と通信部３２を装備し物理的・化学的信号の入出力手段を有して任意のエリアに分散配置されるモジュール１２を有している。 - 特許庁
  • To provide a polishing method capable of executing high-performance LSI processing by suppressing dishing with a less usage quantity of polishing slurry in a chemical mechanical polishing of a film to be processed of a semiconductor device.
    半導体装置の被加工膜等の化学機械研磨において、低い研磨液の使用量でかつディッシングを抑制し、高性能のＬＳＩ加工を行う事ができる研磨方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method for processing a housing member of mask blank, suitable for a mask blank having a chemical amplification resist mask and keeping stable resist performance for forming a desired mask pattern.
    化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクスに好適で、所望のマスクパターンを形成するための安定したレジスト性能を維持できるマスクブランクス収納用部材の処理方法等を提供する。 - 特許庁
  • The expanded graphite containing the liquid chemical expands when exposed to a high temperature, and a polyphosphoric acid ammonium dissolves and generates phosphoric acid gas when exposed to the high temperature, and imparts self extinguishability to the processing object.
    該液剤に含まれる膨張黒鉛は高温に曝されると膨張し、ポリリン酸アンモニウムは高温に曝されると分解してリン酸ガスを発生し、処理対象物に自己消火性を付与する。 - 特許庁
  • The substrate is carried in the processing unit after organic contaminations are removed from the surface thereof and is subjected to chemical surface treatment, so that uniform surface treatment can be performed on the entire surface of the substrate.
    表面から有機物汚染が除去された基板が処理ユニットに搬入されて薬液表面処理が行われるため、基板の全面に対して均一な表面処理を行うことができる。 - 特許庁
  • This basket consists of a vessel with lid made of foamed metal or sintered metal having permeability and materials not solving in nitric acid solution in a solving tank of a chemical-processing facility.
    このバスケットは、通液性を有する発泡金属もしくは焼結金属で、かつ化学処理施設の溶解槽中の硝酸溶液に溶解しない材料で作られている蓋付容器からなる。 - 特許庁
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