「Chemical Processing」を含む例文一覧(726)

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  • To provide a separating method of a sample component enabling a component to be easily separated, as a pre-analysis processing performed for discrimination or chemical structural analysis of compositions contained in a mixture.
    混合物に含まれる組成の判別や化学構造解析のために行われる分析前処理として、構成成分を簡便に分離することのできる、試料成分の分離方法を提供する。 - 特許庁
  • An electrodeposition film 22 obtained by dispersing the lubricating filler such as silicon group resin and inorganic particulate is formed on a bearing surface 2b of the sleeve 2 after conducting processing with a chemical conversion coating 21.
    スリーブ２の軸受面２ｂには、化成皮膜２１による導電化処理のうえで、シリコン系樹脂や無機物微粒子等の潤滑性フィラーを分散させた電着塗装膜２２が形成される。 - 特許庁
  • A carrier robot TR conveys a plurality of substrates W to each processing tank (chemical tanks CB1 and CB2, water washing tanks WB1 and WB2, multi-function tank MB and a low pressure drying part LPD) as lots.
    搬送ロボットＴＲは、複数の基板Ｗをロットとして各処理槽（薬液槽ＣＢ１，ＣＢ２、水洗槽ＷＢ１，ＷＢ２、多機能槽ＭＢおよび減圧乾燥部ＬＰＤ）に搬送する。 - 特許庁
  • In a laser processing method irradiating with laser beam a processed word in which chemical composition of at least adjacent two layers are different and a portion provided for a plurality of hole processing of a surface layer is removed, reflecting light from the processed work is detected regarding first irradiated laser beam, and that laser processing is stopped when detecting value deviated from a required value.
    少なくとも隣接する２層の化学組成が異なり、表層の複数の穴加工を行う部分を除去した被加工物へレーザ光を照射するレーザ加工方法であって、初めに照射されたレーザ光について被加工物からの反射光を検出し、所望の検出値から外れる場合にレーザ加工を中止するレーザ加工方法を行う。 - 特許庁
  • The wet processing apparatus 1 is equipped with a chemical processing tank 4 containing chemicals 3 for wet-processing wafers 2, a wafer holder 5 holding the wafers 2 collectively in a vertical direction, holder chucks 6a and 6b chucking the upper part 5a of the wafer holder 5, and a transfer mechanism 7 transferring the wafer holder 5 through the intermediary of the holder chucks 6a and 6b.
    本発明のウェット処理装置１は、ウェーハ２をウェット処理するための薬液３の入った薬液処理槽４と、ウェーハ２を一括して垂直方向に保持するウェーハホルダ５と、ウェーハホルダ５の上部５ａをチャッキングするホルダーチャック６ａ、６ｂと、ホルダーチャック６ａ、６ｂを介してウェーハホルダ５を搬送する搬送機構７を備える。 - 特許庁
  • To provide catalyst-aided chemical processing method and apparatus which can process hard-to-process materials, especially, SiC, GaN, etc. whose importance as electronic device materials is increasing these days, with high processing efficiency and high precision even for a space wavelength range of not less than several tens μm.
    難加工物、特に近年電子デバイスの材料として重要性が高まっているＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ数１０μｍ以上の空間波長領域にわたって精度が高く加工することが可能な触媒支援型化学加工方法及び加工装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a cleaning/chemical processing apparatus capable of horizontally carrying, cleaning or chemically processing a thinned printed wiring board or a copper-clad laminate easily while preventing it from dropping or being caught between rolls.
    薄葉状印刷配線板又は銅張積層板の水平搬送、洗浄若しくは化学処理におけるロール間への落下、巻き込まれるのを防止し、薄葉状印刷配線板又は銅張積層板を容易に水平搬送、洗浄若しくは化学処理可能な洗浄・化学処理装置を提供する。 - 特許庁
  • A first oxide film 4 is formed by immersing a silicon 1 to be processed inside a low concentration oxidizing solution 3 in a first processing vessel 2, next, a chemical oxide film (silicon dioxide film) is formed on a surface of the silicon 1 by immersing the silicon 1 inside a high concentration oxidizing solution 6 in a second processing vessel 5.
    被処理用シリコン１を第一処理槽２内の低濃度酸化性溶液３に浸して第一酸化膜４を形成して、続いて第二処理槽５内の高濃度の酸化性溶液６に浸すことによって、上記シリコン１の表面に化学酸化膜（二酸化シリコン膜）を形成する。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing apparatus which drops chemical liquid onto the substrate and processes the substrate by rotating the substrate, and reduces suspended mist without disturbing the environment in the substrate processing apparatus, and a coating development system comprising the same.
    基板に薬液を滴下し、基板を回転することによって基板を処理する基板処理装置であって、当該基板処理装置内の環境を大きく乱すことなく浮遊ミストを低減することが可能な基板処理装置およびこれを備える塗布現像システムを提供する。 - 特許庁
  • To provide a technique relating to such a lubricating agent for processing a metallic material, particularly to a water-based lubricating agent for processing plastically a metallic material that is unnecessary for chemical conversion treatment considering the global environmental preservation, which lubricating agent can be used and conveniently treated for various kinds of metallic materials.
    特に、地球環境保全を考慮し、各種金属材料に使用でき、且つ、簡便な処理が可能、つまり化成処理を不要とする金属材料加工用潤滑剤、特に金属材料塑性加工用水系潤滑剤に関連した技術を提供することである。 - 特許庁
  • Concentration management of the medicine for a supplemented water treatment is performed in under processing water, by adding water-soluble salt of lithium as a tracer material in the under processing water with the chemical for the water treatment, and electrochemically or optically measuring the lithium ion concentration by using the lithium ion responsive material.
    水処理用薬品と共にトレーサー物質としてのリチウムの水溶性塩を被処理水中に添加し、リチウムイオン濃度をリチウムイオン感応物質を用いて電気化学的又は光学的に測定することにより、被処理水中に添加した上記水処理用薬品の濃度管理を行う。 - 特許庁
  • A biochemical and/or a biological-mechanical processing method of old waste and remaining trash in which processing of the trash and the old waste as they are independently of their depth is promoted, managed, controlled and monitored in association with their chemical and biochemical characteristics is provided.
    ごみ及び古い廃棄物の深さはないそのままでの処理を、その化学的及び生化学的特性に関連して、促進し、管理し、制御し、監視することによる、古い廃棄物および残ったごみに対する生化学的および／または生物学的‐機械的処理方法。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the electrode foil for an electrolytic capacitor includes an etching step with an aluminum foil, an immersion step in which the aluminum foil is immerged in a processing liquid at least once, a thermal treatment step, and a chemical formation step.
    電解コンデンサ用電極箔を製造するにあたっては、アルミニウム箔に対するエッチング工程、アルミニウム箔を処理液に１回以上浸漬する浸漬工程と、熱処理工程、および化成工程を行う。 - 特許庁
  • Secondly, relating to this chemical processing device, a direction changing device is built in between conveyors and the direction of the printed circuit board B to be carried is changed by 90° along the horizontal plane on the way.
    第２に、この薬液処理装置においては、コンベヤ間に方向転換装置が組み込まれており、搬送されるプリント配線基板材Ｂの向きが、途中で、水平面に沿いつつ９０度方向転換せしめられる。 - 特許庁
  • A heater 9 of a resistance heating type is provided around the outer periphery of a processing chamber 3 to heat an atmosphere within the chamber 3 and to increase the temperature of the entire semiconductor substrate 1 to a level nearly corresponding to the temperature (HF: 50°C) of the chemical solution.
    処理チャンバー３の外周に抵抗加熱方式のヒーター９を配置し、処理チャンバー３内の雰囲気を熱し、半導体基板１全体を薬液温度（ＨＦ：５０℃）と同じ５０℃相当にまで上昇させる。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive material processing device which is capable of easily deciding the width of photosensitive materials without using a multiplicity of costly sensors which have chemical resistance and are laborious in their regulation.
    耐薬品性を有し、かつ、その調整が調整が煩雑で高価なセンサを多数使用することなく、容易に感光材料の幅を判定することができる感光材料処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a transparent conductive base for a touch panel laminating a crystalline transparent conductive film excellent in pen sliding resistance, chemical resistance, and moisture and heating resistance, without performing an annealing processing after forming the film.
    成膜後のアニーリング処理を行う事無く、耐ペン摺動性、耐薬品性、耐湿熱性に優れた結晶質の透明導電膜を積層させたタッチパネル用透明導電性基材の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of preparing a lithographic printing plate by processing with an aqueous solution having a buffer function in which the lithographic printing plate exhibits good stain resistance, maintains the good stain resistance even when preserved for a long period of time, and is excellent in printing durability and chemical resistance.
    緩衝能を有する水溶液による処理によって、耐汚れ性が良好で、長期保存しても耐汚れ性が低下せず、耐刷性、耐薬品性に優れた平版印刷版の作製方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a color filter which prevents cracks from occurring in a transparent conductive film 23 due to chemical processing, even if the transparent conductive film 23 on a laminated photospacer is not covered with an upper pattern (resist) P4.
    積層フォトスペーサー上の透明導電膜２３が上部パターン（レジスト）Ｐ４で覆われていなくとも、薬液による処理によって透明導電膜にクラックが発生することのないカラーフィルタを提供する。 - 特許庁
  • To obtain a method for chemical-polishing a metal mask by laser processing which can suppress deviation of the amount of polishing due to the size of an opening part and can obtain an uniform amount of polishing compared to electrolytic polishing for a component having a complicated shape or a minute structure.
    電解研磨と比べて、複雑な形状や微小な部品、は開口部の大小による研磨量の偏りがなく、均一した研磨量が得られるレーザ加工によるメタルマスクの化学研磨方法を得る。 - 特許庁
  • By executing the multistage chemical reaction while the film N is heated and carried by the single heating drum 22, irregular processing caused by the transfer of the film N is prevented and the compact and simple device is constructed.
    このように、単一の加熱ドラム２２でフィルムＮを加熱搬送する間に、多段階の化学反応を行うことで、フィルムＮの受け渡しによる処理ムラがなくなり、また、小型でシンプルな装置を構築できる。 - 特許庁
  • The processing unit is a wet etching unit 14 using a chemical liquid capable of dissolving the native oxide of the metal or a dry etching unit 206 using a gas capable of reducing or etching the native oxide of the metal.
    処理ユニットは、金属の自然酸化膜を溶解可能な薬液を用いたウェットエッチングユニット１４、あるいは、金属の自然酸化膜を還元可能またはエッチング可能なガスを用いたドライエッチングユニット２０６とする。 - 特許庁
  • The process from the step of cleaning with the first chemical liquid through the step of applying the application liquid is performed in the same processing room such that the workpiece maintains the state in which the liquids are held on the pattern.
    前記第１の薬液による洗浄から前記塗布液の塗布までを、前記被加工物が前記パターン間で液体を保持した状態を維持するように同一の処理室内で実施することを特徴とする。 - 特許庁
  • The organic cooking food having a long best-before period is obtained by subjecting the food to complete sterilization with a new pneumatic cooking sterilizer in its processing stage, and packaging the food within a gas-barrier plastic bag so as to elongate the best-before period without using any chemical additives.
    食品の加工工程で新含気調理殺菌機で完全殺菌処理を施し、ガスバリアーのプラスチックバッグで包装することにより、化学添加物を使用せずに賞味期間を延ばすことが出来る。 - 特許庁
  • At least a part of the surface of this conductive support with an electric resistance adjusting layer is subjected to chemical roughening processing and then is subjected to zinc phosphate treatment or iron phosphate treatment.
    少なくとも電気抵抗調整層が設けられる上記導電性支持体の表面部分に、化学的粗面化処理が施され、次いでリン酸亜鉛処理あるいはリン酸鉄処理が施されている導電性支持体。 - 特許庁
  • Lifters 10 and 20 for transferring substrates W between the chemical processing sections and the flushing sections comprise articulated arms 12 and 22 consisting of a plurality of arms 12a-12c and 22a-22c turnable about respective joints.
    薬液処理部と水洗処理部との間で基板Ｗを搬送するリフタ１０，２０は、それぞれ接続部を中心として回動可能な複数のアーム１２ａ〜１２ｃ，２２ａ〜２２ｃからなる多関節アーム１２，２２を備えている。 - 特許庁
  • To provide an effective method of obtaining a surface of high quality by removing a layer deteriorated by processing from the surface of a silicon carbide single crystal wafer which has been rough-lapped for chemical stability, and then finish polishing.
    本発明は、荒研磨(ラップ)した化学的に安定な炭化珪素単結晶ウェハ表面から加工変質層を除去して仕上げ研磨(ポリッシュ)することで、高品質な表面を得る効果的な方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an electroless plating method in which a plurality of sheet substrates are stored in a rack, each rack is immersed in liquid chemical for processing, and any irregular plating caused by insufficient liquid draining is not generated.
    ラックに複数枚の枚葉基板を収容し、ラック毎に薬液に浸漬して処理する無電解めっき方法において、液切り不足によるめっきムラを発生させない無電解めっき処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To improve heat resistance, chemical resistance, water repellency, low friction resistance, and dust peelability without damaging a filtration performance, regarding a filter surface processing method using finer nanofibers for fibers of cut fibers.
    本発明はカットファイバーの繊維をより細かいナノファイバーを使用したフィルタ表面加工方法に関し、過性能を損なわずに耐熱性、耐薬品性、撥水性、低摩擦抵抗、ダスト剥離性を向上することを目的とする。 - 特許庁
  • The cover means is constituted by combining together a plate type shield portion which shields the weld zone from the gas chemical reaction by quartz and a cylindrical insert portion inserted into a gas intake opening in the processing chamber.
    カバー手段としては、例えば、石英によって、溶接部をガス化学反応から遮蔽する板状の遮蔽部と、処理室中へのガス導入開口に挿入する筒状の挿入部とを組合せて構成する。 - 特許庁
  • To provide a method to effectively perform decellular processing from collected living tissue without using chemical substances with cell toxicity, a decellular living tissue scaffold, and a living tissue regeneration material prepared using the obtained decellular tissue scaffold as a carrier.
    細胞毒性のある化学物質を使用することなく、採取した生体組織からより効果的に脱細胞化処理する方法を提供し、脱細胞化された脱細胞化生体組織スキャホールドを提供する。 - 特許庁
  • An FP classification processing part 16 specifies a compound whose chemical structure is similar to the object compound whose pharmacological activity is unknown by referring to the compound structure information from the compound information database 12b.
    ＦＰ分類処理部１６は、化合物情報データベース１２ｂから化合物構造情報を参照することで薬理活性が未知である対象化合物と化学構造が類似している化合物を特定する。 - 特許庁
  • A coated plate is formed by applying distortion to the surface treated steel plate by overhang processing and then applying chemical conversion and electro-deposition coating to it, and a test strip is formed by scratching the surface of the coated plate with a broken stone for a road.
    表面処理鋼板に張り出し加工によりひずみを付与した後、化成処理および電着塗装を施し塗装板とし、次いで、該塗装板の表面に道路用砕石により傷を付与し試験片とする。 - 特許庁
  • Such a tool member forms an intermediate layer on a base material surface, and forms the silicon-containing amorphous carbon film having an atomic ratio of Si_0.03 to 0.25C_0.30 to 0.75H_0.22 to 0.50 by using a plasma CVD (chemical vapor deposition) after applying activation processing.
    このような工具部材は基材表面に中間層を形成し、活性化処理を施した後、プラズマＣＶＤを用いて原子比率がＳｉ_0.03_〜_0.25Ｃ_0.30_〜_0.75Ｈ_0.22_〜_0.50である珪素含有非晶質炭素膜を形成する。 - 特許庁
  • (6) The term "refining" as used in this Act means chemical processing of nuclear source material or nuclear fuel material in order to increase the content of uranium or thorium contained in nuclear source material or nuclear fuel material.
    ６　この法律において「製錬」とは、核原料物質又は核燃料物質に含まれるウラン又はトリウムの比率を高めるために、核原料物質又は核燃料物質を化学的方法により処理することをいう。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • To provide a manufacturing method of a metallic material for a plastic working, which is capable of forming a lubrication film of a metallic soap on the metallic material by a chemical reaction on the metallic material, without performing a phosphate processing.
    リン酸塩処理を行なわず、金属材料上での化学反応によって金属石鹸の潤滑皮膜を金属材料上に形成することが可能な、塑性加工用金属材料の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method for semiconductor device and a semiconductor manufacturing apparatus, with which costs are reduced by stable chemical reaction and polishing and the reduction of processing time and man-hours and cost are reduced by simplifying control.
    安定した化学反応と研磨加工、及び、処理時間、工数の削減による低コスト化、制御の簡易化による低コスト化を図る半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
  • The method is for improving physical and chemical characteristics of one or more of ^18F-fluoro-deoxy-glucose (^18F-FDG) solutions such as reduction of radiolysis and an autoclave processing capability.
    本発明は、放射線分解の低減やオートクレーブ処理能力など、^１８Ｆ−フルオロ−デオキシ−グルコース（^１８Ｆ−ＦＤＧ）−溶液の１またはそれ以上の物理的／化学的特徴を改良する方法に関する。 - 特許庁
  • To provide a solid polymer ion conductor which is superior in film- forming properties and has a high ion conductivity without deteriorating thermal and chemical stability, without using complicated synthesizing processes and a complicated processing unit.
    複雑な合成過程や複雑な処理装置を用いることなく製膜性に優れ、かつ熱的化学的安定性を損なうことなく高いイオン伝導性を有する固体高分子イオン伝導体を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of setting combination of prohibition against supply, capable of preventing accidental mixing between chemical liquids causing danger of accidental mixing and saving time and effort for selection therefor, and to provide a computer program and a substrate processing apparatus.
    混触に危険を伴う組合せとなる薬液の混触を防止することができ、かつ、そのための設定作業に手間を要しない、供給禁止組合せ設定方法、コンピュータプログラムおよび基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To produce glass which has high internal glass quality, is stable at a high temperature, has good melting and processing characteristics and good chemical resistance and has s coefficient of thermal expansion α20/300 of 2.8 to 5.0×10-6/K.
    高い内部ガラス品質を有し、高温で安定であり、良好な溶融及び加工特性、良好な耐薬品性を有し、かつ２．８〜５．０×１０^-6／Ｋの熱膨張率α_20_/300を有するガラスを提供する。 - 特許庁
  • The semiconductor substrate processing apparatus comprises a stage 10 which holds a semiconductor substrate 1; a rotating shaft 12 which is attached to the lower surface of the stage 10 for rotating the stage 10, with the fitting position variable; and a chemical supplying means 16 which supplies chemical on the semiconductor substrate 1 held by the stage 10.
    本発明に係る半導体基板処理装置は、半導体基板１を保持するステージ１０と、ステージ１０を回転させるためにステージ１０の下面に取り付けられ、かつ取付位置が可変である回転軸１２と、ステージ１０に保持された半導体基板１上に薬液を供給する薬液供給手段１６とを具備する。 - 特許庁
  • The method of processing the unused agricultural chemical is characterized in that a solvent is added to the solid-state unused agricultural chemical including a halogen compound to extract an organic halogen compound into the solvent to separate from a solid body, and in that the organic halogen compound extracted in the solvent is decomposed by an alkali metal for dehalogenation.
    使用残農薬の処理方法の発明であって、ハロゲン化合物を含む固形状の使用残農薬に溶媒を添加して溶媒中に農薬中の有機ハロゲン化合物を抽出して固形分から分離し、溶媒中に抽出された有機ハロゲン化合物をアルカリ金属によって分解し脱ハロゲン化処理することを特徴とする。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the circuit board using the laminate of the metal layer and the polyimide film has a process for cleaning and removing, after a treatment with a chemical etching agent, an altered layer generated by the chemical etching agent and performing treatment with an acid aqueous solution when the polyimide film is subjected to an etching processing.
    金属層とポリイミドフィルムとの積層体を使用しての回路基板の製造方法において、ポリイミドフィルムをエッチング加工する際に、化学エッチング剤での処理後に化学エッチング剤による変性層を洗浄除去し、さらに酸性水溶液で処理するプロセスを有する回路基板の製造方法とこの方法によって得られる回路基板。 - 特許庁
  • A chemical liquid processing apparatus has: a conveyer 50 on which a substrate 51 as a processed target having a flat upper surface is put and which conveys the substrate 51 to side; a shower nozzle 52 that discharges a chemical liquid 53 from upside to downside of the conveyer 50; and a commutation member 6 removably arranged between the shower nozzle 52 and the conveyer 50.
    薬液処理装置は、平坦な上面を有する処理対象物としての基板５１を載置して側方に送るための搬送機５０と、この搬送機５０の上方から下方に向けて薬液５３を吐出するためのシャワーノズル５２と、このシャワーノズル５２と搬送機５０との間に着脱自在なように配置された整流部材６とを備える。 - 特許庁
  • This is a processing method to make stable solidified state, namely to detoxicate, by decompose and separate hazardous compounds (heavy- metal, metalloid and halogenated compounds) with chemical reactions by means of a chemical solvent (diazonium salt), followed by recombination (recrystallization) using a solvent (graphite for instance) or the like, which causes no decomposition nor fission by UV light or visible light.
    化学溶剤（ジアゾニウム塩）を用いて，有害化合物（重金属化合物，半金属化合物，ハロゲン化物）を化学反応により分解，分離し，次に溶剤等（例えばグラファイト等）によって，再結合化（再結晶化）を計り．安定固化状態にする処理法，即ち，無害処理化する処理法で，紫外線，可視光線による分解，分裂が起こらない処理法ある。 - 特許庁
  • This substrate processing device 1 includes: a spin chuck 7 for holding a wafer W; a chemical supply unit 22 for supplying a processing liquid containing a photoactivation component activated by being irradiated with light to the wafer W held to the spin chuck 7; and an irradiation unit 4 for irradiating the processing liquid containing the photoactivation component to be supplied to the wafer W held to the spin chuck 7 with light.
    基板処理装置１は、ウエハＷを保持するスピンチャック７と、光を照射することで活性化する光活性化成分を含む処理液をスピンチャック７に保持されたウエハＷに供給する薬液供給ユニット２２と、スピンチャック７に保持されたウエハＷに供給される光活性化成分を含む処理液に光を照射する照射ユニット４とを含む。 - 特許庁
  • The cell culture substrate is produced by immersing the natural organic polymer in a graft processing liquid comprising a surfactant aqueous solution and a monomer containing fluorine, an aqueous solution containing a phosphoric monoester, methacrylamide and 2-hydroxyethyl methacrylate or an organic solvent solution of a dibasic acid anhydride or epoxy compound and performing graft processing or chemical modification processing in the presence of a polymerization initiator.
    界面活性剤水溶液とフッ素を含むモノマーとからなるグラフト加工液、リン酸モノエステル、メタクリルアミド、及びメタクリル酸２−ヒドロキシルエチルを含む水溶液、又は二塩基酸無水物若しくはエポキシ化合物の有機溶媒溶液中に、上記天然有機高分子を浸漬し、重合開始剤の存在下にグラフト加工或いは化学修飾加工し、細胞培養基材を製造する。 - 特許庁
  • To provide a processing method of aquatic organisms capable of efficiently preventing the generation of putrefaction odor of aquatic organisms, requiring no addition of a separate coagulant by functioning a putrefaction odor preventing chemical as a coagulant in coagulation treatment of latter stage and realizing reduction of the cost for a putrefaction odor prevention countermeasure and the processing cost and simplification of the processing, and an apparatus.
    効率よく水生生物の腐敗臭の発生を防止するとともに、腐敗臭防止薬剤を後段の凝集処理において凝集剤としても機能させることができるようにして別途凝集剤を添加することを不要化し、腐敗臭防止対策と処理費用の低減、処理の簡素化をともに達成可能な水生生物の処理方法および装置を提供する。 - 特許庁
  • The chemical substance total management system produces records in the middle of process in an arithmetic processing section, and when the arithmetic processing section produces the records, the system produces link information correlating each record with a source record from which the record has been produced, and stores these records and link information in a result database of a storage unit, thereby performing reverse retrieval processing.
    本発明による化学物質総合管理システムは、途中経過であるレコードを演算処理部が作成し、また、演算処理部がレコードを作成する時点で、そのレコードとそのレコードが作成される元となったレコードとを関係付けるリンク情報を作成してこれらレコードとリンク情報を記憶部の結果データベースに保存しておくことにより、逆検索処理を行う構成とした。 - 特許庁
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