「Chemical Processing」を含む例文一覧(726)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 .... 14 15 次へ＞- To provide an air cleaning device having a high removal efficiency for the chemical contaminants contained in the air, compact in processing device design, low in pressure loss, and low in cost.
空気中の化学汚染物質の除去効率が高く、処理装置がコンパクトで、圧力損失が小さく、低コストな空気清浄装置の提供にある。 - 特許庁 - To provide a surface coated cutting tool exerting chemical stability and lubricating property in cutting processing of a soft material to be cut such as Al alloy.
Ａｌ合金等の軟質被削材の切削加工において、すぐれた化学的安定性と潤滑性を発揮する表面被覆切削工具を提供すること。 - 特許庁 - To prevent mutual doubling of carbon fiber yarns which impregnate chemicals, in chemical processing in a production process or a manufacturing process of the carbon fiber.
炭素繊維の製造工程或いは加工工程における薬液処理において、薬液含浸炭素繊維糸条が相互に合糸するのを防止する。 - 特許庁 - First group-III and nitrogen precursors are flowed into a first processing chamber to deposit a first layer over a substrate with a thermal chemical-vapor-deposition process.
III族及び窒素の前駆物質が、第１の処理チャンバに流入されて、熱化学気相堆積プロセスを用いて、基板上に第１の層が堆積される。 - 特許庁 - To provide a substrate processor and a substrate processing method with which the number of units can be reduced and waste of chemical can be prevented.
機器点数を減らすことができるとともに薬液の無駄を防止することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁 - The outer periphery of the lens having the different refractive index distribution in a radial direction is removed by applying mechanical or chemical processing so that the outside diameter of the lens may become smaller.
半径方向に異なる屈折率分布を有するレンズの外周を機械的処理または化学的処理により外径が小さくなるように除去する。 - 特許庁 - To provide a method for processing a substrate which realizes the formation of a desired resist pattern by suppressing the reaction of a chemical amplification type resist film and a conductive film.
化学増幅型レジスト膜と導電性膜との反応を抑制して、所望のレジストパターンの形成を実現する基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - The processing composition for silver halide photographic sensitive materials contains at least one kind of chemical compounds shown by the general formula (1).
下記一般式（１）で表される化合物を少なくとも一種含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用処理組成物。 - 特許庁 - In this processing solution, SCCO2 is used as a carrier medium, and an -OH functional group (hydroxyl group) exists in the SCCO2 as an active chemical species in a scattering way.
この処理流体では、ＳＣＣＯ2をキャリア媒体とし、ＳＣＣＯ2中に−ＯＨ官能基（水酸基）が活性化学種として分散して存在している。 - 特許庁 - Holes 210 in semiconductor processing reactor components 200 are sized to facilitate deposition of protective coatings, such chemical vapor deposition at atmospheric pressure.
半導体処理反応器部品２００のホール２１０は、大気圧化学気相成長のような方法による保護コーティングの成膜を促進するようなサイズを有する。 - 特許庁 - To recycle waste gypsum of an environmental pollution waste material into a harmless water permeable material (a board or a pipe) by processing the waste gypsum with a chemical to make harmless and joining with a resin.
環境汚染廃棄物の廃石膏を薬剤で処理して無害化して樹脂で結合することにより無害な透水物｛板、管｝に再利用する。 - 特許庁 - A catalyst 21 is placed in vacuum atmosphere and touched to processing gas having a hydrogen atom in the chemical structure while being heated thus producing radicals.
真空雰囲気中に触媒体２１を置き、それを加熱しながら化学構造中に水素原子を有する処理ガスを接触させ、ラジカルを生成する。 - 特許庁 - The adsorptive removing device 20 is equipped with an adsorption member, which adsorbs chemical contaminant substances in the outside air and is recycled by processing such as heating.
吸着除去装置２０は、外気中の化学的汚染物質を吸着するとともに、加熱などの処理により再生される吸着部材を備える。 - 特許庁 - To provide a pipe for chemical mechanical polishing (CMP) apparatus which minimizes elution of metal into a liquid used, and which is easy in processing.
使用する液体中に金属が溶出することを極力抑えることができ、且つ加工が容易な化学的機械的研磨(CMP)装置用管を提供する。 - 特許庁 - To improve efficiency and to more rapidly obtain a recorded image of a photographed scene by shortening the developing steps of performing chemical processing of films.
フィルムの化学的処理を行なう現像ステップを短縮して効率を向上させ、撮影されたシーンの記録画像をより迅速に得られるようにすること。 - 特許庁 - To provide compositions having improved dishing ability and methods, for chemical mechanical polishing silicon dioxide and silicon nitride for STI processing.
ＳＴＩ加工のための二酸化ケイ素および窒化ケイ素のケミカルメカニカルポリッシングのための、改善されたディッシング性を有する組成物および方法を提供する。 - 特許庁 - A splash guard 24 is provided above the processing cup 23 to prevent a rinse liquid or a chemical from the substrate W from scattering outward.
処理カップ２３の上方には、基板Ｗからのリンス液または薬液が外方へ飛散することを防止するためのスプラッシュガード２４が設けられている。 - 特許庁 - A plurality of metallic sandwich panels 20 having the metallic material, are fixed in a plane shape to a column 10 composed of a woody material having a preservation processing chemical agent.
保存処理薬剤を有する木質材料からなる支柱１０に、金属材料を有する複数枚の金属サンドイッチパネル２０を平面状に固定する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a glass substrate for an information recording medium, that reduces variation in thickness of a chemically strengthened layer in every substrate following chemical strengthening processing.
化学強化処理後の基板毎の化学強化層の厚みのばらつきを低減できる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - In the plasma processing apparatus 20, gas of at least one of particular processing gas for chemical reaction with the organic film or particular inert gas for sputtering the organic film is introduced into a processing container from a gas supply source 365 as a mask for the metal electrode.
プラズマ処理装置２０は、メタル電極をマスクとして、有機膜と化学反応させるための特定の処理ガス又は有機膜をスパッタするための特定の不活性ガスの少なくともいずれかのガスをガス供給源３６５から処理容器内に導入する。 - 特許庁 - The washing solution used in the second or the next washing stage requires chemical treatment, such as ion exchange and is thereafter regenerated and is returned to the photosensitive material processing equipment where the washing solution is recycled to photographic sensitive material processing and/or cleaning of the component members of the photosensitive material processing equipment.
第２又は次の洗浄段階で使用される洗浄溶液は、イオン交換等の化学処理を必要とし、その後、再生されて感光材処理器に戻され、写真感光材処理及び／又は感光材処理器の構成部材の清掃に再利用される。 - 特許庁 - Regarding the method where a glass substrate is dipped into a chemical processing liquid, and the whole or a part of the surface in the glass substrate is processed, the chemical processing liquid comprises an anionic surfactant or an aminic amphoteric surfactant preventing the resticking of reaction products such as fluorides to the surface of the glass substrate, and grinding is performed at a processing speed of ≤10 μm/min.
ガラス基板を化学加工液に浸漬してガラス基板表面の全部または一部を加工する方法であって、化学加工液がフッ化物等の反応生成物がガラス基板表面に再付着することを防止する陰イオン系界面活性剤またはアミン系両性界面活性剤を含有し、１０μｍ／分以下の加工速度で研磨加工する方法である。 - 特許庁 - To provide a substrate cleaning apparatus and a substrate cleaning method that reduces the discharge of gas of chemical and easily control the discharge of the gas, eliminates the need to consider the chemical resistance of peripheral units other than a processing space formation section and a processing liquid feeding section, and improves the maintenability of the processing liquid feeding section.
薬液のガスの排気量を少なくすることができるとともにこの薬液のガスの排気のコントロールを容易に行うことができ、また、処理空間形成部や処理液供給部以外の周辺ユニットについて耐薬品性を考慮する必要がなくなり、さらに処理液供給部のメンテナンス性を向上させることができる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。 - 特許庁 - The chemical strengthening processing apparatus of glass substrates for information record medium is formed from stainless steel and composed of a strengthening furnace 11 for storing a melting liquid 14 produced by heat melting chemical strengthening salts and a part for holding a glass plate.
情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置は、ステンレス鋼から形成され、化学強化塩を加熱溶融した溶融液１４を貯留するための強化炉１１と、ガラス素板を保持するための保持部材とから構成されている。 - 特許庁 - This substrate processing apparatus 1 is provided with a wafer chuck 2 which holds and rotates a wafer W, a cup 3 which holds the wafer chuck 2, and a chemical supply nozzle 4 which is positioned above the wafer chuck 2 and supplies chemical to the wafer W.
本発明の基板処理装置１は、ウェーハＷを保持して回転させるウェーハチャック２と、ウェーハチャック２を収容するカップ３と、ウェーハチャック２の上方にあってウェーハＷに薬液を供給する薬液供給ノズル４を備えている。 - 特許庁 - To provide an electro chemical precessing apparatus which can improve the processing accuracy of the electro chemical precessing by suppressing the heat generation and the occurrence of the drift in an electrode as much as possible, and also can reduce the size and the weight thereof.
電極における発熱や偏流の発生を極力抑制して電気化学的加工の加工精度を向上させることができると共に、装置の小型化及び軽量化を図ることが可能な電気化学加工装置を提供する。 - 特許庁 - The glass substrate is immersed into a chemical processing liquid and a portion of one side constituting the outside surface of the glass substrate or the whole thereof or a portion of both sides or the whole thereof is processed at a processing speed of 0.5 to 10 μm minute.
化学加工液中にガラス基板を浸漬し、このガラス基板の外表面を構成する片側の一部若しくは全部または両側の一部若しくは全部を０．５〜１０μｍ／分の加工速度で加工する。 - 特許庁 - To provide a system and a method for processing a substrate in which the quality of the substrate can be enhanced, processing cost can be reduced by enhancing recycling rate of chemical, and the facility can be simplified.
基板の品質を向上することができるとともに、薬液の再生率の向上による処理コストの低減化を図りかつ設備の簡略化を図ることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemical agent composition enabling the permanent wave processing and/or corrective processing of the hair even at pH levels ranging from neutrality to weak acidity with slight irritation to the skin in particular, and masked with offensive odor.
特に皮膚への刺激が少ない中性から弱酸性のｐＨ領域においても、毛髪のパーマネントウエーブ加工や毛髪矯正加工が可能であるとともに、不快臭がマスキングされた薬剤組成物を提供する。 - 特許庁 - To solve problems that much of dietary fiber in the starch can not endure starch processing operation including chemical, enzymatic and physical processing, in particular, severe condition of extrusion, and producing products containing remarkably reduced dietary fiber.
化学、酵素および物理的化工を含む特定のデンプン処理操作によるデンプンの多くの食物繊維含量は、処理、特に押出の過酷な条件に耐えることができず、著しく繊維が減った押出製品が生じる。 - 特許庁 - The substrate chemical processing sections 31-34 supply the processing liquid to the substrate W directing the surface downward under horizontal attitude from below and process the circumferential edge part on the lower surface (surface) and upper surface (rear surface) selectively.
基板薬液処理部３１〜３４は、表面を下方に向けた水平姿勢の基板Ｗに対して、下方から処理液を供給し、その下面（表面）および上面（裏面）の周縁部を選択的に処理する。 - 特許庁 - To provide a contained material investigation device capable of efficiently processing information collection of chemical substances included in each part constituting a product and reducing labor required in the information collection processing.
製品を構成する各部品に含まれる化学物質の情報収集の処理を効率よく行なうことができ、またその処理にかかる労力を軽減することのできる含有物質調査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of independently performing density control with little effect by a process liquid because the process liquid density can be directly detected, and accurately performing substrate chemical processing.
処理液の濃度を直接検出できるため、処理液の温度の影響を殆ど受けずに独立した濃度制御が行え、基板の薬液処理を精度良く行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - The fabric (4) giving the refrigerant feeling during putting on the cap is produced by applying the chemical processing (2) and the thermal processing (3) to the fabric (1) used as the lining of the cap and the like (including the hair band).
帽子等（ヘアーバンドを含む）の裏生地に使用する布地に（１）化学的な加工（２）及び熱加工をを施し（３）帽子着用時に、清涼感が得られる布地（４）製造が可能となる特徴を有する。 - 特許庁 - The method for processing a semiconductor substrate includes a first processing step for polishing the metal layer on a barrier layer, a second processing step for oxidizing the metal layer left on the insulating layer by supplying an oxidizing processing liquid after the first processing step, and a third processing step for polishing the oxidized metal layer with a chemical/mechanical water system dispersing element after the second processing step.
本発明の半導体基板の処理方法は、バリア層上の金属層を研磨する第１の処理工程と、前記第１の処理工程後において、前記絶縁層の上に残留する金属層を、酸化性の処理液を供給することにより酸化させる第２の処理工程と、前記第２の処理工程後において、酸化処理された金属層を、化学機械研磨用水系分散体を用いて研磨する第３の処理工程と、を含む。 - 特許庁 - To prevent particles from being produced owing to a weld zone between a manifold flange and a gas intake port when substrate treating equipment which carries out gas chemical reaction in a processing chamber is manufactured.
処理室でガス化学反応を伴う基板処理装置の、その装置を製造した時の、マニホールドフランジとガス導入ポートの溶接部に起因するパーティクルを抑止する。 - 特許庁 - After passing through such sequential process, the high-strength cold-rolled steel sheet having strength of ≥590 MPa TS and excellent in the chemical-processing property and the corrosion-resistance after electrostatic-deposition coating, is obtained.
このような一連の工程を経ることにより、TS≧590Mpaの強度を有する、化成処理性および電着塗装後耐食性に優れた高強度冷延鋼板が得られる。 - 特許庁 - To suppress production of high contamination drain which is difficult to be post-treated by performing flush treatment on a substrate following to chemical treatment in horizontal conveyance substrate processing equipment.
平流し式の基板処理装置において、薬液処理後の基板を効率的に水洗処理して、後処理が困難な高汚染度の排水の発生量を抑制する。 - 特許庁 - To provide a chemical processing method of glass substrates capable of obtaining various glass substrates for FPD having high planarity while reducing the thickness.
板厚を薄くしつつ平坦性の高い各種ＦＰＤ用ガラス基板を得ることができるガラス基板の化学加工方法を提供することを主たる目的とする。 - 特許庁 - On that occasion, the chemical supplied to the substrate W is scattered around and adhered onto the members (a processing cup 23 and a splash guard 24) located around the substrate W.
このとき、基板Ｗに供給された薬液は周囲に飛散し、基板Ｗの周辺に位置する部材（処理カップ２３およびスプラッシュガード２４）に付着する。 - 特許庁 - To provide a chemical processing method for a glass substrate which is capable of yielding the glass substrate for various kinds of FPDs having high flatness while reducing the thickness of a sheet.
板厚を薄くしつつ平坦性の高い各種ＦＰＤ用ガラス基板を得ることができるガラス基板の化学加工方法を提供することを主たる目的とする。 - 特許庁 - Second group-III and nitrogen precursors are flowed into the second processing chamber to deposit a second layer over the first layer with a thermal chemical-vapor-deposition process.
II族及び窒素の前駆物質が、該第２の処理チャンバに流入されて、熱化学気相堆積プロセスを用いて該第１の層を覆って第２の層が堆積される。 - 特許庁 - To provide an apparatus for processing a substrate capable of rapidly and positively substituting a chemical liquid by pure water, and in addition, suppressing an increase in consumption quantity of pure water.
迅速かつ確実に薬液を純水に置換することができ、しかも純水消費量の増加を抑制することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a new small sized portable photographic processor with an inside drum design reducing the quantity of chemical products necessary for processing a roll of film.
１本のフィルムロールを処理するのに必要な化学薬品の量を減らす内部ドラム設計を有する新規の小型、携帯可能な写真処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a capacitor structure which improves capacitance density, while being adaptable to standard/low temperature processing techniques, and has adaptability to CMP (chemical mechanical polishing) used in multi-layer structures.
標準／低温処理技術と適合しキャパシタンスの密度を向上させる多層構造で使用されるＣＭＰと適合性を有するキャパシタ構造を提供する。 - 特許庁 - The invention has the advantage of being useful for much larger shadow masks than conventional ones, and realizes masking of large substrates that are incompatible with wet chemical processing.
本発明は従来可能であったよりもずっと大きなシャドーマスクに有用であり、湿式化学処理のできない大口径基板のマスキングを可能にするという利点を有する。 - 特許庁 - To provide physical and/or chemical pretreatment method for vegetable prior to processing, including no complicated process that increase the total expense associated with vegetable production.
野菜生産に関する総費用を上昇させる複雑な工程を含まない、加工前の野菜の物理的および／または化学的前処理法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a transport method of a transport object substance including a hydrate forming chemical and water easy in handling in a use site or a processing site.
利用サイトあるいは加工サイトでの取扱いを容易とする水和物生成薬剤と水とを含む被輸送物質の輸送方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The structure includes a step of processing the chemically etched dielectric material to change chemical properties of the dielectric material so that the processed surface can become hydrophobic.
本発明によれば、化学的にエッチングした誘電材料に処理ステップを行って、処理した表面が疎水性になるように誘電材料の化学的性質を変更する。 - 特許庁 - Furthermore, the glass disk is tempered by chemical tempering processing and foreign matters, etc., stuck to the glass disk is washed with warm water, alkali washing water or pure water finally.
さらに、ガラス円盤を化学強化処理により強化し、最後に、温水、又はアルカリ洗浄水若しくは純水によりガラス円盤に付着した異物等を洗浄する。 - 特許庁
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