「Chemical Processing」を含む例文一覧(726)

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  • To provide a coating film formation apparatus which does not affect a processing, when a processing part is supplied with a chemical liquid, or gas and liquid are discharged from the processing part.
    処理部への薬液供給、および処理部からの排気、排液の際にプロセスに悪影響を及ぼさない塗布膜形成装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method which can inhibit dripping of residual chemical around a tip section of a spray nozzle on a processing target film.
    スプレノズルの先端部付近に残留した薬液の被処理膜上への滴下を抑制できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a high-pressure processor stabilizing substrate processing by recognizing the liquid chemical density in high-pressure processing fluid in circulation processing, accurately recognizing the time of the completion of the substrate processing and optimally controlling the liquid chemical density.
    循環処理過程における高圧処理流体中の薬液濃度を把握すると共に基板処理の完了時点を正確に把握し、薬液濃度を最適に制御することにより、基板処理の安定化を図った高圧処理装置を提供する。 - 特許庁
  • A developing processing sheet 24 and a fixing processing sheet 34 are successively overlapped on/peeled from the film N in accordance with a chemical reaction stage, so that the multistage chemical reaction is executed.
    このフィルムＮには、化学反応工程に応じて現像処理シート２４、定着処理シート３４が順次重ね合わされては剥離され、多段階の化学反応が行われる。 - 特許庁
  • Further, it is preferable that reaction products are continuously removed from the chemical processing liquid, or the chemical processing liquid is exchanged before its quality is deteriorated by the increase of reaction products.
    また、化学加工液から反応生成物を連続的に除去することや、化学加工液を反応生成物の増加により品質が劣化する前に交換することが好ましい。 - 特許庁
  • To provide a method for applying a stretch processing to a wool fiber product, by which the chemical stretch processing can be applied to the wool fiber product in a state not liable to cause the generation of a stink from the product without needing a large amount of a chemical agent.
    多量の化学薬品を必要とせず、製品から悪臭が発生するおそれもない化学的な羊毛繊維製品のストレッチ加工方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a substrate processor capable of satisfactorily performing a substrate processing without corroding a part where a chemical adheres, even when a prescribed substrate processing is performed by the chemical.
    薬液によって所定の基板処理を施す場合であっても、薬液が付着する部分を腐食することなく良好に基板処理を行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To uniformly performing chemical liquid processing of a substrate by using a chemical liquid having a temperature higher than a normal temperature while holding the substrate in an inclined state.
    基板を傾斜した状態で保持しながら、常温より高い温度の薬液を用いて、傾斜した基板の薬液処理を均一に行う。 - 特許庁
  • After chemical processing of a substrate W; the chemical nozzle 50 is held in the cleaning pot 210, and its front end is cleaned by a cleaning liquid.
    基板Ｗの薬液処理後、薬液ノズル５０が洗浄用ポット２１０内に収容され、その先端部が洗浄液により洗浄される。 - 特許庁
  • Ryozo TOEI (class of 1943, chemical engineering) : Being an authority on chemical processing, he was a member of the Science Council of Japan and awarded "Kunnito Kyokujitsu Jukosho" (Second Class, the gold and silver star of order of the rising sun) in 1996.
    桐栄良三（1943年卒・化工）ケミカルプロセスの権威で、日本学術会員も務め、1996年に勲二等旭日重光賞を受賞。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • To provide a slice treatment device capable of detecting shortage of a chemical quantity of a chemical when the quantity of the chemical is decreased in the preceding slice processing step before the transition to the next slice processing step for processing another slice after the end of the slice processing step.
    組織片処理工程が終了し、別の組織片を処理する次の組織片処理工程に移行する前に、前の組織片処理工程において、ある薬液の量が減少してしまっていた場合に、その薬液の薬液量が不足していることを検出して円滑な作業が行える組織片処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a wood processing device and a wood processing method which adjust the depth of the wood to be immersed into a chemical for wood preservation, efficiently process the wood with the chemical for wood preservation, and further achieve the uniformization of the processing range of the chemical to the wood at a low cost.
    木材保存用の薬液に浸漬させる木材の深さを調整して該木材を木材保存用の薬液で効率的に処理する共に、前記木材への前記薬液の処理範囲の均一化を図る木材処理装置及び木材処理方法を低コストで提供する。 - 特許庁
  • To provide an exhaust gas processing method and a plasma processing method and apparatus, which can improve the processing capability of a chemical reaction generating means for processing an unreaction gas or by-product.
    未反応ガスや副生成物を処理する化学反応生起手段の処理能力を向上させることができる排気処理方法、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
  • The device includes a processing chamber performing solder reflow processing, an injector introducing a mist-like reducing chemical into the processing chamber, and an N_2 gas supply duct introducing N_2 gas into the processing chamber.
    はんだリフロー処理を行う処理室と、還元性薬液を霧状にして該処理室に導入するインジェクターと、Ｎ２ガスを該処理室に導入するＮ２ガス供給ダクトとを備える。 - 特許庁
  • The glass substrate 11 is immersed into a chemical strengthening processing liquid 14 in the state where a plurality of glass substrates are located in a line.
    ガラス基板１１は、複数が並んだ状態で化学強化処理液１４に浸漬される。 - 特許庁
  • CHEMICAL ENGINEERING PROCESSING TOWER DEVICE WITH LIQUID REDISTRIBUTOR, AND MANUFACTURING METHOD OF LIQUID REDISTRIBUTOR FOR USE THEREIN
    液再分布器付化工処理塔装置及び当該装置に用いる液再分布器の製作方法 - 特許庁
  • PROCESSING METHOD OF SUBSTRATE, CLEANING METHOD AFTER CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, PROCESS FOR FABRICATING ELECTRONIC DEVICE AND PROGRAM
    基板の処理方法、化学機械研磨後洗浄方法、電子デバイスの製造方法及びプログラム - 特許庁
  • The flattening processing is performed by using resist etch-back, the application of spin-on glass and chemical mechanical grinding, etc.
    平坦化処理は、レジストエッチバック、スピンオンガラスの塗布、化学機械研磨などを用いて行う。 - 特許庁
  • To reduce an amount of used chemical while controlling etching in wet processing of a semiconductor device.
    半導体装置のウェット処理において、エッチングを制御しながら薬液使用量を削減する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a biochip capable of performing stably chemical patterning processing.
    安定して化学的なパターニング処理を行うことができるバイオチップの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • Then, a chemical oxide film is produced on the surface of the a-Si film by a hydrogen-peroxide processing.
    次に、過酸化水素処理によりａ−Ｓｉ膜の表面にケミカル酸化膜を生成させる。 - 特許庁
  • A processing liquid supply nozzle N1 is fixed to the forward end of the chemical introduction pipe 16.
    この薬液導入管１６の先端に処理液供給ノズルＮ１が取り付けられている。 - 特許庁
  • Surface treatment is carried out by immersing the wiring board 1 into the chemical 3 while ejecting the chemical 3 from a nozzle 4 disposed below the liquid level of the chemical 3 in the processing tank 2.
    この際に、処理槽２内の薬液３の液面下に配置されたノズル４から薬液３を噴出しながら、配線用板１を薬液３に浸漬することによって、表面処理を行なう。 - 特許庁
  • Also, the second lot not subjected to pair processing, so that a virtual resource PB1 at the first processing section is used for a processing period at a chemical liquid processing section CHB1, and a virtual resource PB2 at the second processing section is used over a processing period over the second processing section.
    また、第２のロットの処理が非ペア内処理であるので、第１処理部の仮想リソースＰＢ１を薬液処理部ＣＨＢ１における処理期間にわたって使用し、第２処理部をまたいだ処理期間にわたって、第２処理部の仮想リソースＰＢ２を使用する。 - 特許庁
  • To effectively squeeze an excessive chemical liquid from each of chemical liquid-impregnated carbon fiber yarns without accompanying the formation of fuzz and the scattering of the chemical liquid, on the chemical liquid treatment of the carbon fiber yarns in a process for producing or processing the carbon fiber yarns.
    炭素繊維の製造工程或いは加工工程における薬液処理において、薬液を含浸させた炭素繊維糸条から過剰の薬液を、毛羽の発生及び薬液の飛散を伴うことなく、糸条毎に効果的に搾液する。 - 特許庁
  • To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method capable of preventing or reducing the attachment of a processing liquid including a chemical liquid or a rinse liquid on a surface of a processing liquid supply nozzle that supplies the processing liquid.
    薬液又はリンス液よりなる処理液を供給する処理液供給ノズルの表面への処理液の付着を防止或いは低減することができる液処理装置及び液処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing apparatus capable of completing substrate processing in a single processing chamber by absolutely preventing accidental mixing of chemical liquids, even if a combination of a plurality of kinds of chemical liquids to be used for substrate processing may involve danger of accidental mixing.
    基板処理に用いられる複数種の薬液の組合せが混触に危険を伴うような組合せであっても、それらの薬液の混触を確実に防止して、その基板処理を１つの処理室において完遂することができる、基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide automatic chemical weighing equipment in a rubber processing line capable of adding precisely a chemical to natural rubber, by simple and easy constitution.
    簡易かつ簡便な構成で精度良く薬品を天然ゴムに加え得るようにしたゴム加工ラインにおける薬品自動計量装置を提供する。 - 特許庁
  • The quality evaluating/process monitoring method of the chemical membrane evaluates the quality of the membrane from an appearance of a crystal of the chemical membrane, and monitors processing stages.
    化成皮膜の皮膜評価／工程監視方法としては、化成皮膜の結晶の外観から皮膜品質の良否を評価したり処理工程を監視する。 - 特許庁
  • In the semiconductor substrate processing apparatus, the chemical is stirred by rotating the semiconductor substrate while it is treated with the chemical.
    この半導体基板処理装置によれば、半導体基板を薬液で処理している時に半導体基板を回転させることにより、薬液を攪拌する。 - 特許庁
  • This gas-sealing mechanism 11 is used in a processing chamber 1 in the manufacturing process of a printed wiring board, and the processing chamber 1 sprays chemical D to printed wiring board material C so as to perform chemical treatment, and also herein, a chemical vessel 2 for letting flow down, recovering, and storing the sprayed chemical D is made below.
    このガス封止機構１１は、プリント配線基板の製造工程の処理室１において用いられ、処理室１は、プリント配線基板材Ｃに対し薬液Ｄを噴射して化学処理を行うと共に、噴射された薬液Ｄを流下，回収，貯留せしめる薬液槽２が下部に形成されている。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method, with which contamination of a substrate can effectively be removed by efficiently using chemical and a use amount of chemical can be reduced.
    薬液を効率的に用いて基板の汚染を効果的に除去することができ、これにより薬液の使用量を少なくすることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a liquid processing apparatus which prevents spreading of chemical atmosphere that may occur during chemical processing and efficiently processes a pattern formation surface of a substrate with a heated fluid while heating the substrate.
    薬液処理時に発生しうる薬液雰囲気の拡散を防止しつつ、基板を加熱しながら加熱流体により基板のパターン形成面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁
  • By this configurations, both sides of dry polishing processing and chemical polishing processing with one equipment can be performed by exchanging polishing means for chemical polishing and polishing means for dry type polishing.
    かかる構成により，湿式研磨用の研磨手段と，乾式研磨用の研磨手段とを交換することにより，１つの装置で乾式研磨加工と湿式研磨加工の双方を実行することができる。 - 特許庁
  • The negative plate processing chemical supplying machine for supplying the negative plate processing chemicals, more particularly powdery dry chemicals to a processing liquid preparing means consists of a container and opening/closing means.
    原板処理薬品、特に粉末状の乾燥薬品を処理液調整手段へ供給する原板処理薬品供給機は、コンテナと、開閉手段とからなる。 - 特許庁
  • This manufacturing method also includes a step (S5) of chemically processing the wafer in a desired chemical processing time and a step (S6) of measuring the final film thickness of the processed film after processing.
    また、ウエハを所望の薬液処理時間で薬液処理する工程（ステップＳ５）と、処理後における被処理膜の最終膜厚を測定する工程（ステップＳ６）を有する。 - 特許庁
  • A catalyst is prepared which exhibits a difference in chemical, physical and structural properties containing an improvement in catalyst activity and catalyst properties as compared with an unmodified catalyst by modifying using one or more chemical processing, one or more physical processing, or a combination of one or more chemical processing and one or more physical processing.
    金属酸化物触媒を1以上の化学的処理、１以上の物理的処理、あるいは１以上の化学的処理および物理的処理の組み合わせを使用して修飾することにより、未修飾触媒と比較して、改良された触媒性能及び触媒特性を含む化学的、物理的及び構造的特性において相違を示す触媒とする。 - 特許庁
  • To provide a basket made able to safely chemical-process flying radioactive solid material inside by wrapping flying radioactive solid material in transporting to a chemical-processing facility and throwing as it is in a solving tank in the chemical-processing facility after transporting.
    飛散性の放射性固体物質を化学処理施設へ運搬する際、それらを包装し、運搬後はそのまま化学処理施設の溶解槽中に投入して内部の飛散性の放射性固体物質を安全に化学処理できるようにしたバスケットを提供する。 - 特許庁
  • To provide a liquid chemical recycling method capable of simply adjusting components in a liquid chemical required in a process of treating a silicon wafer surface in an used liquid chemical used in the process and obtaining a process performance equal to that of an unused liquid chemical even with the liquid chemical after recycle processing, and a device used in the method.
    シリコンウェーハ表面を処理するプロセスで使用した使用済み薬液において、前記プロセスに必要な薬液中の成分を簡易に調整し、リサイクル処理後の薬液でも未使用薬液と同等のプロセス性能を得ることが可能な薬液リサイクル方法および該方法に用いる装置を提供する。 - 特許庁
  • To obtain a substrate processing device, which can eliminate a use amount of a processing solution and can contain a specified chemical solution component of a sufficient amount in the processing solution at the time when a substrate is processed, when the substrate is impregnated in the processing solution having the chemical solution component incidental to a natural deterioration to process it.
    自然劣化を伴う薬液成分を有する処理液に基板を浸漬して処理するにあたって、処理液の使用量を削減するとともに、基板処理時において処理液中に十分な量の所定の薬液成分を含有させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide matte-toned processing release paper for synthetic leather production, excellent in heat resistance and chemical resistance.
    耐熱性および耐薬品性に優れ、かつマット調の合成皮革製造用工程剥離紙を提供する。 - 特許庁
  • To flexibly carry out multiple temporal processing such as a multiple protocol in automatic chemical analysis.
    自動化学分析において、多重プロトコルなどの多重の時間的処理が可能でかつ柔軟に処理する。 - 特許庁
  • To make it easy to carry out a chemical processing for collecting a target biopolymer from a gel piece.
    ゲル小片から目的の生体高分子を回収する化学処理を容易に行なえるようする。 - 特許庁
  • A chemical processing layer such as a manganese phosphate treatment layer 17 is formed on a peripheral surface of the pilot part 13.
    前記パイロット部１３の周面に、リン酸マンガン処理層１７等の化成処理層を形成する。 - 特許庁
  • ACTIVE MATERIAL FOR NICKEL ELECTRODE OF ALKALINE BATTERY, ALKALINE BATTERY AND INITIAL CHEMICAL PROCESSING METHOD OF ALKALINE BATTERY
    アルカリ蓄電池用ニッケル電極活物質、アルカリ蓄電池およびアルカリ蓄電池の初期化成処理方法 - 特許庁
  • When a semiconductor manufacturing device 2 starts processing a semiconductor wafer, an abnormality detection processing module 6 obtains a chemical flow rate average value, a chemical flow rate maximum value, a chemical flow rate minimum value, and device log information in processing of the semiconductor wafer from a manufacturing management system 4, and determines whether the chemical flow rate average value of the semiconductor manufacturing device 2 is abnormal or not.
    半導体製造装置２による半導体ウエハの処理が開始すると、異常検知処理部６は、半導体ウエハの処理時における薬液流量平均値、薬液流量最大値、薬液流量最小値、および装置ログ情報を製造管理システム４から取得し、該半導体製造装置２の薬液流量平均値に異常があるか否かを判定する。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing system and a substrate processing method capable of efficiently removing a chemical liquid for stripping and saving a manufacturing cost.
    ストリップ薬液を効率的に除去して、製造原価を節減することができる基板処理システム及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a microwave reactor which promotes chemical reaction by heating with microwaves with little danger, and can perform processing in a short time even in the case of batch processing.
    危険が少なく、またバッチ処理であっても短時間で処理できる、マイクロ波で加熱して化学反応を促進させる装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method and an apparatus for processing a mist of a sterilization liquid in a plastic container which facilitates processing of the mist of a chemical agent used for sterilization.
    殺菌に用いる薬剤のミストの処理を容易としたプラスチック容器の殺菌液ミストの処理方法および装置を提供すること。 - 特許庁
  • Component liquids (first chemical, second chemical and pure water) from component liquid feeding pipes 31, 32, 33 are fed into a mixing part 26 interposed in a processing liquid charging pipe 25.
    処理液投入管２５に介装された混合部２６には、成分液供給管３１，３２，３３からの成分液（第１薬液、第２薬液および純水）が供給される。 - 特許庁
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