「Chemical Processing」を含む例文一覧(726)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 次へ＞- Class 40 includes mainly services not included in other classes, rendered by the mechanical or chemical processing or transformation of objects or inorganic or organic substances.
第40類には，主として，他類に属さないサービスであって物体又は無機若しくは有機物質の機械的又は化学的な処理又は変化により提供されるものが含まれる。 - 特許庁 - A glass substrate for an information recording medium is chemically reinforced by means of chemical reinforcement processing 22 after a glass base plate 11 is processed to form a disk-shaped substrate by shaping 12.
情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス素板１１が形状加工１２により円盤状に形成された後、化学強化処理２２により化学強化される。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device that has a local transporting area and satisfactorily processes a substrate without receiving any influence of chemical contamination.
ローカル搬送領域を有する基板処理装置であっても、ケミカル汚染の影響を受けることなく良好な基板処理を施すことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a rotation processing apparatus for a rectangular substrate with much more excellent inplane uniformity by decreasing re-attachment of chemical or washing, which is supplied to the rectangular substrate again to the rectangular substrate.
角形基板に供給した薬液または洗浄液の再付着を低減させ、より面内均一性に優れた基板の回転処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method in which the inside of a substrate surface of a circular disk is uniformly washed in a washing treatment by mixing and discharging a compressed gas and a treating chemical.
円形基板を加圧された気体と処理薬液を混合し吐出させて洗浄処理において、基板面内を均一に洗浄する基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemical processing method for a glass substrate capable of obtaining a glass substrate for various kinds of FPDs (Flat Panel Displays) having high flatness as the substrate is made thin.
板厚を薄くしつつ平坦性の高い各種ＦＰＤ用ガラス基板を得ることができるガラス基板の化学加工方法を提供することを主たる目的とする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for modified starch which can acquire sufficient bleaching effect without changing characteristics of starch in modified starch to which chemical processing has been given.
化学的加工処理が施された加工澱粉において、澱粉の性質を変化させずに十分な漂白効果を得ることが可能な加工澱粉の製造方法の提供。 - 特許庁 - The substrate-processing device comprises a chemical-liquid recovering cup 15 on the outside of a spindle of substrate W, while comprising a rinse liquid recovering cup 16 on the inside.
本発明の基板処理装置は基板Ｗの回転軸芯周りの外側に薬液回収用カップ１５を、内側にリンス液回収用カップ１６を備える。 - 特許庁 - To provide a method for producing a high-strength cold-rolled steel sheet which has excellent chemical-processing property and corrosion-resistance after electrostatic-deposition coating even in the case of a comparatively high content of Si.
Ｓｉ含有量が比較的多い場合でも優れた化成処理性及び電着塗装後の耐食性を有する高強度冷延鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The method implemented by computer for processing transactions regarding chemical products includes the reception of transaction data including product identifiers from clients by a server.
化学製品に関するトランザクションを処理するためのコンピュータによって実施される方法は、サーバがクライアントから製品識別子を含むトランザクションデータを受け取ることが含まれる。 - 特許庁 - To provide a ^68Ga generator which does not include metal impurity, does not require chemical processing before preparing a radioactive medicine and can be repeatedly used for over long time.
金属不純物を含まず、放射性医薬の調製前に化学的処理を行うことがなく、長時間にわたり繰り返し使用可能な^68Ｇａジェネレータを提供する。 - 特許庁 - The liquid chemical for flame retarding processing is obtained by dispersing an expanded graphite in a liquid disperse medium and/or by dispersing a hardly soluble or insoluble polyphosphoric acid ammonium powder in water.
液状分散媒に膨張黒鉛および／または水に難溶もしくは不溶性のポリリン酸アンモニウム粉末を分散せしめた難燃処理用液剤を提供する。 - 特許庁 - As the substrate 11 and the sealing substrate 17 having desired thickness are used from the beginning, processing of the thickness direction by chemical etching and mechanical polishing etc. becomes unnecessary.
当初より所望の厚みを有する基板１１および封止基板１７を用いることができ、化学エッチングや機械研磨などによる厚み方向の加工が不要となる。 - 特許庁 - To provide a method for forming a non-chromium black chemical film having excellent corrosion resistance and uniform appearance of a metallic member formed of zinc or a zinc alloy with a single processing solution.
亜鉛や亜鉛合金の金属部材に耐食性に優れた均一な外観を有するノンクロム黒色化成皮膜を単一処理液で形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for producing an adamanthyl (meth)acrylates useful as a raw material for high functional polymers such as LED sealants and chemical amplification type photoresist resins for fine processing.
微細加工用の化学増幅型フォトレジスト樹脂やＬＥＤ封止剤などの高機能性ポリマー原料として有用なアダマンチル（メタ）アクリレート類の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Additionally, selective processing of the protective coat by performing chemical etching on the protective coat, also allows the step to be formed with high precision and with sufficient reproducibility.
また、前記保護膜に対し、化学エッチングを施すことによって保護膜を選択的に加工することでも、前記段差を高精度に、しかも再現性良く形成することができる。 - 特許庁 - To form a pellet of high quality without any chip or stress by an economical method at the time of dividing a semiconductor wafer by chemical etching processing.
化学的エッチング処理によって半導体ウェーハを分割する場合において、欠けやストレスのない高品質なペレットを経済的な方法にて形成することを可能にする。 - 特許庁 - The metal surface processing liquid for improving adhesion between resin and metal is an aqueous solution containing benzotriazole derivative expressed in an exemplary chemical formula (a).
樹脂と金属との接着性を向上するための金属表面処理液であって、一例として下記化学式に示すベンゾトリアゾール誘導体を含む水溶液である。 - 特許庁 - As a result, a chemical liquid for processing a solar cell containing a small amount of heavy metal impurity and having a high purity can be manufactured.
これにより、安価な水酸化アルカリと二酸化炭素を用いて、重金属不純物の含有量の少ない高純度の太陽電池加工用薬液を製造することができる。 - 特許庁 - To provide a processing technique for easily forming graphene sheet-based material having desired electric characteristics by having a desired chemical structure in the graphene sheet layer.
グラフェンシート層内を所望の化学構造とすることによって、所望の電気的性質を有するグラフェンシート系材料の形成が容易な処理技術を提供する。 - 特許庁 - This sheet material comprising a thin flexible paper sheet having good air permeability, water repellency and heat sealability, characterized by adding a sizing agent and a paper-strengthening agent to wood pulp and chemical fibers and then processing the mixture into the sheet.
木材パルプと化学繊維とにサイズ剤、紙力増強剤を添加して混抄した通気性、ヒートシール性、撥水性を有する薄い柔軟紙のようなものである。 - 特許庁 - Firstly, relating to a chemical processing device, the spraying pressure of a chemical E against a printed circuit board B is successively higher toward a spray nozzle 2 on the center side in the right-to-left width direction G, and successively lower toward the spray nozzles 2 on the right and left sides.
第１に、この薬液処理装置において、薬液Ｅのプリント配線基板材Ｂに対する噴射圧は、左右の幅方向Ｇについて、中央側のスプレーノズル２ほど順次高く、左右の両サイド側のスプレーノズル２ほど順次低く、設定されている。 - 特許庁 - A flushing toilet system comprising a toilet bowl 11 and a low tank 12 includes a stirring tank 20, a chemical adding tank 30, first and second solid-liquid separation tanks 40, 50 and a dewatering tank 60, and a water processing tank 70 and a solid processing tank 80.
便器１１とロータンク１２とから構成された水洗トイレシステムは、攪拌槽２０と、薬液添加槽３０と、第１、第２の固液分離槽４０、５０と脱水槽６０と、水処理槽７０と固体処理槽８０とから構成される。 - 特許庁 - To provide a catalyst-aided chemical processing method, by which hard-to-process materials, especially SiC, GaN, or the like, whose importance as electronic device materials increases these days, can be processed with high processing efficiency and high precision even for a space wavelength range of not less than several tens of μm.
難加工物、特に近年電子デバイスの材料として重要性が高まっているＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ数十μｍ以上の空間波長領域にわたって精度が高く加工する。 - 特許庁 - The substrate processing apparatus includes a processing unit for removing a native oxide of a metal that is formed on the surface of the metal film on a wafer W and polishing units 16 and 17 for performing chemical mechanical polishing of the metal film of the wafer W.
基板処理装置は、ウェハＷ上の金属被膜の表面に形成された該金属の自然酸化膜を除去する処理ユニットと、ウェハＷの金属被膜を化学機械的研磨する研磨ユニット１６，１７とを備えている。 - 特許庁 - The semiconductor device having a semiconductor film formed on a substrate using EBSP, undergoes a processing for reducing the thickness of the substrate by chemical mechanical grinding and a processing for exposing the surface of the semiconductor through removing the substrate reduced in thickness by etching, or removing the substrate and an insulation layer between the substrate and the semiconductor film.
また、非晶質半導体膜を結晶化して得られる結晶質半導体膜の配向性を高め、そのような結晶質半導体膜を用いたＴＦＴを提供することを第二の目的とする。 - 特許庁 - To provide a temporary fixing material capable of fixing a substrate temporarily onto a support at a low temperature and having resistance to a chemical, and to provide a processing method of a substrate using the temporary fixing material, and an electronic component obtained by the processing method.
低温で基材を支持体上に仮固定でき、かつ薬液に対する耐性を有する仮固定材、前記仮固定材を用いた基材の処理方法、および前記処理方法によって得られる電子部品を提供する。 - 特許庁 - The glass substrate for a magnetic disk is manufactured via a disk processing process 11, an inner and outer peripheral edge faces chamfering process 12, a main surface polishing process 13, a chemical strengthening process 14, a texture processing process 15 and an alkali treatment process 16.
磁気ディスク用ガラス基板は、円盤加工工程１１、内外周端面面取り工程１２、主表面研磨工程１３、化学強化工程１４、テクスチャー加工工程１５及びアルカリ処理工程１６を経て製造される。 - 特許庁 - This substrate processing device includes: a substrate holding and rotating mechanism 2 for holding a substrate W and rotating the same; a light irradiating part 7 for applying flashlight to the substrate W; a processing liquid supply mechanism 3 for supplying pure water, IPA and HFE in order to the substrate W; and a chemical supply mechanism 4 for supplying a chemical to the substrate W.
この基板処理装置は、基板Ｗを保持して回転させる基板保持回転機構２と、基板Ｗに閃光を照射する光照射部７と、基板Ｗに純水、ＩＰＡおよびＨＦＥを順に供給する処理液供給機構３と、基板Ｗに薬液を供給する薬液供給機構４とを備えている。 - 特許庁 - A black chemical film is formed on the metallic member with the single processing solution by using a processing solution for generating a black chemical film containing a vanadium compound (A), an organic sulfur compound (B), and at least one (C) to be selected among the group composed of chlorine ions, fluorine ions, nitric acid ions, sulfuric acid ions, acetate ions and boron ions, and no chromium (D).
（Ａ）バナジウム化合物と（Ｂ）有機硫黄化合物と（Ｃ）塩素イオン、フッ素、硝酸イオン、硫酸イオン、酢酸イオンならびにホウ素イオンからなる群から選択される少なくとも一種を含有し、（Ｄ）クロムを含まないことを特徴とする黒色化成皮膜生成処理液を用いて単一処理液により金属部材に黒色化成皮膜を形成する。 - 特許庁 - Also, the control part 3 executes processing to update the rule data part by periodically reading the latest rule data from a rule data providing part 6 in which the latest rule data are stored and processing to specify the chemical substances to be regulated based on the rule selected by the user, and to calculate the usage of the chemical substances from the the treatment quantity data part.
また制御部３は、最新の法規データが記憶された法規データ提供部６から定期的に最新の法規データを読み込み前記法規データ部を更新する処理と、ユーザにより選択された法規に基づいて規制対象の化学物質を特定しかつ前記処理量データ部から該化学物質の使用量を計算する処理とを行う。 - 特許庁 - The substrate processing device 10 has a retaining base 20 for retaining a wafer W rotatably, a nozzle 40 for supplying chemical liquids L1, L2 to the wafer W, and a pot 30 which is disposed in an outer periphery of the retaining base 20 for recovering the chemical liquids L1, L2 scattered from the wafer W.
基板処理装置１０は、ウエハーＷを回転可能に保持する保持台２０と、ウエハーＷに薬液Ｌ１、Ｌ２を供給するノズル４０と、保持台２０の外周に配され、ウエハーＷから飛散された薬液Ｌ１、Ｌ２を回収するポット３０とを有する。 - 特許庁 - To provide a water-based lubricant composition used for plastic processing of a metal material, high in safety, requiring no primer film by chemical conversion treatment with a phosphate or the like, and having a lubricating property equivalent to that by a chemical conversion treatment method only by a simple process after sticking it by immersion or spraying, by drying.
安全性が高く、リン酸塩等の化成処理による下地皮膜を必要とせず、浸漬又はスプレーにより付着させた後、乾燥する簡便な工程で化成処理法に匹敵する潤滑性を有する金属材料の塑性加工用水系潤滑剤組成物を提供する。 - 特許庁 - A method for producing a microfibrous cellulose comprises the steps of: mechanically processing chemical pulp into shortened fibers; treating the shortened fibers of the chemical pulp with a cellulase-based enzyme; and pulverizing the treated product with the cellulase-based enzyme using a high-speed rotary defibrating apparatus or a high-pressure homogenizer.
化学パルプを機械的処理することで短繊維化し、短繊維化した化学パルプをセルラーゼ系酵素による処理を行った後に、高速回転式解繊機または高圧ホモジナイザーで微細化処理を行うことを特徴とする微細繊維状セルロースの製造方法である。 - 特許庁 - To provide an endoscopic diagnosis support apparatus capable of making highly accurate objective/numerical diagnoses by changing which of RGB images is to be a processing object corresponding to the presence/absence of chemical spray and the kind of a chemical used for spray in feature amount calculation.
特徴量算出において、ＲＧＢ画像の何れを処理の対象とするかについて、薬剤散布の有無及び散布に使用した薬剤の種別に応じて変更し、より高精度に客観的・数値的な診断を行うことができる内視鏡診断支援装置。 - 特許庁 - At the upper stage of the processing cup 25, a third opening 57 is formed as a first chemical solution capturing opening for capturing the first chemical solution, facing the edge face of a wafer W, in between the upper end part 38b of the second guide part 38 of a second component member 22 and the upper end part 23b of a third component member 23.
処理カップ２５の上段には、第２構成部材２２の第２案内部３８の上端部３８ｂと第３構成部材２３の上端部２３ｂとの間に、ウエハＷの端面に対向し、第１薬液を捕獲する第１薬液捕獲口としての第３開口５７が形成される。 - 特許庁 - The shield film has resistance against surface-active processing liquid containing defatting liquid, acid chemical, alkaline chemical, solvent, alcohol, plating liquid and etching liquid, and may have, in some cases, moisture resistance, resistance to gas permeability, and corrosion resistance; for example, the shielding film has Cr, Ni, Ti, Cu, W, Ag or Al as the main components.
シールド膜は、脱脂液を含む表面活性処理液、酸性薬液、アルカリ性薬液、溶剤、アルコール、めっき液及びエッチング液に対する耐性を有し、耐湿性、耐ガス透過性、耐腐食性を有する場合があり、例えばＣｒ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｗ、Ａｇ又はＡｌを主成分とする。 - 特許庁 - A liquid processing apparatus 10 comprises: a process fluid nozzle 65 provided above a wafer W and having a discharge port discharging a chemical to the wafer W; a process fluid supply mechanism 70 supplying the chemical to the process fluid nozzle 65; and a cover mechanism 60 covering the wafer W from above when the chemical is discharged to the wafer W by the process fluid nozzle 65.
液処理装置１０は、ウエハＷの上方に設けられ、ウエハＷに薬液を吐出する吐出口を有する処理流体ノズル６５と、処理流体ノズル６５に薬液を供給する処理流体供給機構７０と、処理流体ノズル６５によりウエハＷに薬液が吐出される際にウエハＷを上方から覆うことができるカバー機構６０と、を備えている。 - 特許庁 - During a period that extruding processing is stopped and chemical processing is executed, an upstream-side valve V1 and a downstream-side valve V2 are closed, and an inter-valve region VR held between the upstream side valve V1 and the downstream-side valve V2 is adjusted to atmospheric pressure P0.
押出処理が停止され、薬液処理が実行される間、上流側バルブＶ１と下流側バルブＶ２は閉じられ、上流側バルブＶ１および下流側バルブＶ２とに挟まれたバルブ間領域ＶＲは大気圧Ｐ０に調整されている。 - 特許庁 - An LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) device 1 is provided with: a processing chamber 11; and a reaction cooling means 25 which is arranged outside the processing chamber 11, produces hydrogen fluoride gas by reacting hydrogen gas with fluorine gas, and cools the hydrogen fluoride gas.
ＬＰＣＶＤ装置１において、処理チャンバー１１を設け、処理チャンバー１１の外部に配置され、水素ガスとフッ素ガスとを反応させてフッ化水素ガスを生成すると共に、このフッ化水素ガスを冷却する反応冷却手段２５を設ける。 - 特許庁 - To provide a processing method of substrate in which processing capacity of substrate can be enhanced even when super-critical carbon dioxide is used as a medium and the flow rate is high by mixing the super-critical carbon dioxide and a chemical uniformly.
超臨界二酸化炭素を媒体として使用し、流量が大きい場合においても、超臨界二酸化炭素と薬液とを均一に混合して、基板の処理能力を向上させることができる基板の処理方法を提供する。 - 特許庁 - In the energy calculation by the quantum chemical calculation necessary for acquiring energy electric field differentials, a target system is divided into cluster units called fragments, and parallel distributed processing is executed.
エネルギー電場微分を求める際に必要な量子化学計算によるエネルギー計算において、対象とする系をフラグメントとよばれるクラスター単位に分割して並列分散処理する。 - 特許庁 - Since no ionic substance is present, even in any of the processing steps of chemical surface treatment, rinsing and cleaning operations, and drying operation, the surface of the substrate is prevented from being charged due to friction.
薬液表面処理、リンス洗浄処理、乾燥処理のいずれの処理工程においても、イオン性物質が介在しているため、摩擦に起因した基板表面への帯電が防止される。 - 特許庁 - After a barrier metal film 4 is formed on an insulation film 2 in which a recessed part 3 is formed, by performing an CMP(chemical- mechanical polishing) processing, a barrier metal film 4 on the outside of the recessed part 3 is removed as shown in figure (d).
凹部３が形成された絶縁膜２上にバリアメタル膜４を形成した後、ＣＭＰ処理を行うことにより、図１(d) に示すように、凹部３外のバリアメタル膜４を除去する。 - 特許庁 - After carrying out press molding of a separator material board, or before carrying out press molding, a chemical substance layer forming processing, in which volume expansion of the mother material is urged, is performed to the surface of the separator material board.
セパレータ素材板をプレス成形した後、もしくはプレス成形する前に、セパレータ素材板の表面に、母材の体積膨張を促す化学物層形成処理を施す。 - 特許庁 - In the first substrate processing line 10, chemical-liquid treatment is performed at a first-half part and washing is done at a second-half part while a substrate 90, tilted sideways, is transported in a horizontal direction.
第１の基板処理ライン１０は、基板９０を側方に傾斜させた状態で、水平方向に搬送しながら、前半部で薬液処理を行い、後半部で洗浄処理を行う。 - 特許庁 - Uniform processing is possible by promoting the reaction of the chemical for the peripheral part of the substrate 12 in which the etching is easily insufficient to the center due to the temperature drop.
温度低下により中央部に対してエッチング処理が不十分になりやすい基板12の周辺部に対して、薬液の反応を促進することにより、均一な処理が可能になる。 - 特許庁 - To enable integral processing, even if the formats of data to be collected are various, and thereby to attain highly precise quantitative evaluation for a realistic risk to be given by chemical substances to humans.
収集対象のデータのフォーマットが区々でも統一的な処理を可能にし、これにより化学物質がヒトに与える現実的な危険度について高精度の定量評価を可能にする。 - 特許庁 - To obtain high surface passivation effect and to shorten a film deposition time, with respect to film depositing processing wherein a silicon nitride thin film is deposited on a semiconductor element by plasma CVD (Chemical Vapor Deposition).
プラズマＣＶＤによって半導体素子上に窒化シリコン薄膜を形成する成膜処理において、高い表面パッシベーション効果を得ると共に、成膜時間を短縮する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a silane cross-linking polyethylene molding having stable cross-link characteristics, and excellent in creep resistance, heat resistance, chemical resistance and the like, in continuous extrusion molding processing.
連続した押出成形加工において、安定した架橋特性を有し、耐クリープ性、耐熱性、耐薬品性等に優れたシラン架橋ポリエチレン成形体の製造法を提供すること。 - 特許庁
