「Chemical Processing」を含む例文一覧(726)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 次へ＞- The substrate processing apparatus has a spinning chuck for rotating a sheet of substrate while holding it, a chemical nozzle for feeding chemicals to the substrate held by the spinning chuck, a rinse-liquid nozzle for feeding a rinse liquid to the substrate held by the spinning chuck, an failure detecting means for detecting the failure of the substrate processing apparatus, and a main control unit serving as an failure handling means.
基板処理装置は、１枚の基板を保持して回転させるスピンチャックと、スピンチャックに保持された基板に薬液を供給する薬液ノズルと、スピンチャックに保持された基板にリンス液を供給するリンス液ノズルと、基板処理装置の異常を検知する異常検知手段と、異常処理手段としてのメイン制御部とを備えている。 - 特許庁 - The chemical substance sensor 100 comprises a microplate 1 having a plurality of holes for containing a reaction solution 3, an outer air introducing section 4, a light source 5, a first wavelength selecting section 6, a second wavelength selecting section 7, a fluorescence detecting section 8, and a data processing section 9.
化学物質センサ１００は、反応溶液３を収納する複数の孔部を備えたマイクロプレート１、外気導入部４、光源５、第１の波長選択部６、第２の波長選択部７、蛍光検出部８およびデータ処理部９から構成されてなる。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin film having an insulated pellicle which needs no high temperature treatment during curing or processing, has flexibility superior in folding durability or bending, also has excellent preservation stability at a room temperature, anti-chemical and electric characteristics, and is hardly scratched.
耐折性や屈曲性に優れた柔軟性を有しており、室温での保存安定性、耐薬品性、電気的特性に優れ、傷がつきにくく、硬化又は加工の際に高温処理を必要としない絶縁皮膜ができる感光性樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁 - The supporting body 30 is made of some metal-like materials that can be processed to have so precise thickness and shape as those needed for the formation of a minute capillary gap 18 by means of chemical etching, mechanical punching, blanking (die cutting) or similar processing methods.
支持体３０は、化学的エッチング、レーザ切断、機械的押し抜き、打ち抜き（ダイ・カット）又は同様な加工方法により、精密毛細管ギャップ１８を形成するために必要な精密な厚さ及び形状にしうる、金属のような材料でできている。 - 特許庁 - In this manufacture, a polishing cloth 11 for use in CMP processing a semiconductor wafer is surface-processed with a chemical solution, a surface-active agent, or the like having oxidation action such as a hydrogen peroxide solution, a potassium permanganate, a nitric acid, a nitrous acid, ozone water, ion water, or the like, and the surface is made hydrophile.
半導体ウェーハをＣＭＰ処理に用いられる研磨布１１に過酸化水素水、過マンガン酸カリウム、硝酸、亜硝酸、オゾン水、イオン水などの酸化作用を有する薬液や界面活性剤等で表面処理を行い、その表面を親水化する。 - 特許庁 - In a process of etching the wiring of a printed board using an etchant prepared by mixing a plurality of constituents for formation, temperature control and stirring are performed for a supplemental chemical solution for supplementing the etchant consumed for the etching processing or at a standby time.
複数の成分を混合したエッチング液を用いてプリント基板の配線をエッチング処理して形成する工程において、エッチング処理又は待機時に消費されたエッチング液を補充するための補充薬液に対して、温度調節および攪拌を行う。 - 特許庁 - The surface treatment agent is applied for the liquid crystal display element using the vertical alignment layer consisting of the oblique deposition film of the inorganic oxide, and hydroxyl groups of the surface of the oblique deposition film are subjected to chemical reaction processing with a steroid compound having a hydroxyl group.
無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を用いた液晶表示素子に適用され、前記斜方蒸着膜の表面水酸基が、ヒドロキシル基を有するステロイド化合物で化学反応処理されていることを特徴とする。 - 特許庁 - Furthermore, since the porous silicon layer is formed only by chemical treatment by stain etching, a semiconductor element forming the integrated circuit is not electrically affected when it is embodied on the silicon substrate together with an integrated circuit for signal processing.
また、本発明に用いる多孔質シリコン層はステインエッチングによる化学的処理のみで形成されるので、信号処理用の集積回路と共にシリコン基板上に具現される際、該集積回路を成す半導体素子に電気的な影響を与えずに済むことができる。 - 特許庁 - Holes are bored in the resin base material 8 through chemical processing, and electrodes 5 which are electrically connected to silicon substrates 2 of the respective photovoltaic cell elements 1 and electrodes 6 which are electrically connected to the diffusion layer 4 are formed and arrayed at respective hole positions while spaced from one another.
樹脂基材８に化学的処理により穴開け加工を施し、該穴位置に各光電池セル素子１のシリコン基板２に電気的に導通する電極５と、拡散層４に電気的に導通する電極６を形成して互いに間隔を介して配列する。 - 特許庁 - To provide a pre-processing method for an abrasive pad, which reduces a time until a prescribed polishing speed is obtained and stabilized when a new pad is mounted, that is a time required for break-in process, resulting in the increased operating rate of a chemical-mechanical polishing device.
新しい研磨パッドを装着した時の所定研磨速度に達して安定化するまでの時間、すなわちブレークイン処理に要する時間を短縮し、化学機械研磨装置の稼動率を向上させることができる研磨パッドの前処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a filter like a bag filter of a dust collector requiring heat resistance and a filter surface processing method capable of enhancing chemical resistance, water repelling property, low friction resistance or dust detaching property.
本発明は集塵機のバグフルタのような耐熱性を必要とされるフィルタ及びフィルタ表面加工方法に関し、濾過性能を損なわずに耐熱性、耐薬品性、撥水性、低摩擦抵抗、ダスト剥離性を向上することができるようにすることを目的とする。 - 特許庁 - To solve the problem that impurities may be eluted when being brought into contact with a liquid crystal layer, because heat resistance of a retardation control layer obtained by photopolymerization is deteriorated, due to high-temperature in the later processing or because chemical resistance or the like is insufficient.
従来、光重合により得られる位相差制御層の耐熱性が後加工での高温で劣化したり、耐薬品性等が不充分であるために、液晶層と接触すると、不純物が溶出する恐れがあった点を解消することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a flexible polyurethane foam of high support(HS) or of high support(HS)/high resiliency(HR), by using the chemical which can reduce the FTC in a small dose and moreover has only the minimum influence on the processing of the foam, the odor of the foam and the other characteristics of the foam.
低使用量でFTCを低下でき、発泡体の加工、発泡体の臭気および他の発泡体特性に最小限の影響しか与えない化学薬品を用いた高支持性（HS）および高支持性−高レジリエンス（HS-HR）軟質ポリウレタン発泡体を提供する。 - 特許庁 - In the surface processing treatment of the GaN-based semiconductor substrate, mechanical polishing for the surface of the GaN-based semiconductor substrate is performed (cutting step, wrapping step), and then chemical gas phase etching for the surface of the GaN-based semiconductor substrate is performed (CVE step).
ＧａＮ系半導体基板の表面加工処理において、ＧａＮ系半導体基板の表面に対して機械的研磨を行い（研削工程、ラッピング工程）、その後、ＧａＮ系半導体基板表面に対して化学的気相エッチングを行う（ＣＶＥ工程）。 - 特許庁 - To provide a method of matting surface coating compositions while also improving moisture and chemical resistance of the compositions; to provide a method of processing a substrate by using the surface coating compositions; and to provide the substrate coated with such a surface coating compositions.
本発明は表面被覆用組成物をつや消しし、そしてその組成物の耐湿および耐化学性を高める方法、ならびにその表面被覆用組成物で基体を処理する方法、およびそのような表面被覆用組成物で被覆した基体を提供する。 - 特許庁 - In the chemical vapor deposition method, a dielectric material is formed in a trench formed on a substrate, where the method includes a step of generating water vapor by bringing hydrogen gas and oxygen gas into contact with a water vapor generation catalyst, and providing the water vapor to a processing chamber.
基板上に形成されたトレンチ内に誘電体材料を形成する化学気相堆積法であって、水素ガス及び酸素ガスを水蒸気生成触媒と接触させることにより水蒸気を生成して、水蒸気を処理チャンバに提供するステップを含む。 - 特許庁 - The aqueous washing composition is used for the wafer having copper wiring after the treatment by the chemical mechanical planarization in integrated circuit processing and the composition comprises 0.1-15 wt.% nitrogen-containing heterocyclic organic base, 0.1-35 wt.% alcoholamine and water.
本発明は、集積回路プロセシングにおける化学機械平坦化処理後の、銅配線を有するウェハーに使用される水性洗浄組成物に関し、該組成物は０．１〜１５重量％の含窒素複素環有機塩基と、０．１〜３５重量％のアルコールアミンと、水とを含む。 - 特許庁 - Thereby, the ion exchange of a lithium ion and a sodium ion which exist in the vicinity of the surface of the glass substrate 23, and the potassium ion having larger ionic radius than that of the lithium ion and sodium ion in the processing liquid 14, and chemical strengthening is carried out.
これにより、ガラス基板２３中の表面近傍に存在するリチウムイオン及びナトリウムイオンと、化学強化処理液１４中のリチウムイオン及びナトリウムイオンよりもイオン半径の大きいカリウムイオンとがイオン交換されて化学強化処理が行われる。 - 特許庁 - In the method for manufacturing a chemical liquid for processing a solar cell, the liquid of an aqueous solution containing alkali carbonate and water, and having an iron concentration of 5 ppm or less, the liquid is manufactured by reacting the aqueous solution of alkali carbonate with carbon dioxide 11 supplied in the form of air.
炭酸アルカリを含む水溶液から成り、鉄の含有濃度が５ｐｐｍ以下である太陽電池加工用薬液の製造方法であって、水酸化アルカリ水溶液に気体状態で供給した二酸化炭素を反応させて製造することを特徴とする。 - 特許庁 - A probe immobilization method for immobilizing a probe 12 onto a substrate 11 comprises the steps of: preparing the substrate 11 and the probe 12; and processing the substrate 11 to fix the probe 12 onto the substrate 11 without chemical reaction.
基板１１にプローブ１２を固定化するためのプローブの固定化方法であって、基板１１とプローブ１２とを準備する工程と、基板１１を処理することで化学反応を伴わずプローブ１２を基板１１に固定化するプローブの固定化方法からなるものである。 - 特許庁 - A method for manufacturing a water resistant optical anisotropic film comprises a water resistance processing step in which an optical anisotropic film including organic coloring matter having an anionic group is brought into contact with a water resistance processing liquid including a chemical compound having two or more nitrogen atoms in polyvalent metal salt or molecules, and a washing step in which the optical anisotropic film after the water resistance processing is washed with a cleaning liquid including a hydrophilic organic compound.
本発明の耐水化された光学異方性フィルムの製造方法は、アニオン性基を有する有機色素を含む光学異方性フィルムを、多価金属塩又は分子中に２個以上の窒素原子を有する化合物を含む耐水化処理液に接触させる耐水化処理工程と、前記耐水化処理後の光学異方性フィルムを、親水性有機化合物を含む洗浄液を用いて洗浄する洗浄工程と、を有する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for forming and adjusting a fiber lump fleece composed of cotton or chemical fiber, etc., for the processing of a fiber material delivered from an upstream feed box with a downstream processing equipment and composed of an opening roller rotatable at a high speed and at least one feeding apparatus comprising a feed roller rotating at a low speed and a dish plate.
高速回転可能な開繊ローラと、該開繊ローラの直ぐ上流側に配置されて、低速回転するフィードローラとディッシュプレートから成る少くとも１つの供給装置を含んで成り、上流のフィードボックスから取り出される繊維材料を下流の装置で加工するために木綿又は化学繊維などから成る繊維塊フリースを形成して調節するための装置の改良。 - 特許庁 - The semiconductor device manufacturing method comprises a test step of performing a predetermined testing by contacting a probe terminal with a bonding pad A of a semiconductor device, and a pad surface treatment step of performing, after the test step, processing of dissolving a surface of the bonding pad by using chemical or processing of solidifying a melted portion of the bonding pad after melted by heating the bonding pad surface using a furnace.
半導体装置のボンディングパッドＡにプローブ端子を接触させ、所定の試験を行う試験工程と、試験工程の後、薬液を用いてボンディングパッド表面を溶かす処理、または、加熱炉を用いて加熱することでボンディングパッド表面を溶かした後、溶かした部分を固化する処理を行うパッド表面処理工程と、を有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - To prepare a biaxially stretched polyester film having excellent transparency and a small rise in haze after processing steps while retaining the advantages of using a biaxially stretched film including, for example, mechanical properties, electrical properties, dimensional stability, heat resistance, chemical resistance, surface hardness, and high transparency.
機械的性質、電気的性質、寸法安定性、耐熱性、耐薬品性、表面硬度、高透明性など、二軸延伸ポリエステルフィルムを用いる利点を保持したまま、優れた透明性を有し、加工工程後もヘイズ上昇が小さい二軸延伸ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a deposition method for a silicon oxide film by a chemical vapor deposition (CVD) method, which can form a silicon oxide containing fewer OH groups without performing extra modification process such as thermal treatment or chlorine processing after the deposition of the silicon oxide film.
ＣＶＤ法によるシリコン酸化膜の成膜方法であって、シリコン酸化膜成膜後に熱処理または塩素処理などの別の改質工程を行わずとも、ＯＨ基の含有量が抑えられたシリコン酸化膜を成膜することができるシリコン酸化膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain a thermoplastic resin composition causing no molding-related problems including laminar flaking-off phenomena even in undergoing thin-wall molding and cut processing, excellent in rigidity, heat resistance, chemical resistance, surface appearance, especially impact resistance both at room temperature and low temperatures, and good in fluidity as well.
薄物成形時や切削加工時にも層状剥離等の成形上の問題が起こらず、剛性、耐熱性、耐薬品性、表面外観、とりわけ常温、低温における耐衝撃性に優れ、さらに上記特性の他に優れた流動性をも兼備した熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To obtain a thermoplastic resin composition causing no molding-related problems including laminar flaking-off phenomena even in undergoing thin-wall molding and cut processing, excellent in surface appearance, rigidity, heat resistance, chemical resistance, especially impact resistance both at room temperature and low temperatures, and good in fluidity as well.
薄物成形時や切削加工時にも層状剥離等の成形上の問題が起こらず、表面外観、剛性、耐熱性、耐薬品性、とりわけ常温、低温における耐衝撃性に優れ、さらに上記特性の他に優れた流動性をも兼備した熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - Upon detecting such an abnormality as an overcharge or overcurrent fuse 18 for a secondary battery 2 is required to be blown out, an MPU 4 performs blow-out processing of the fuse 18 and the potential between a switch circuit 5 and a chemical fuse 6 (potential at point A) is measured.
二次電池２に対する過充電や過電流などのヒューズ１８を溶断させる必要があるような異常を検出した場合、ＭＰＵ４は、ヒューズ１８の溶断処理を行うとともに、スイッチ回路５およびケミカルヒューズ６の間の電位（Ａ点の電位）を測定する。 - 特許庁 - To provide an acrylic resin film excellent in discoloration resistance at the time of heat processing, whethering discoloration resistance, chemical resistance, anti-staining properties and emboss followability, and having good deodorizing function, and a laminate having a layer comprising the acrylic resin film having a good deodorizing function, excellent matting properties or the like.
優れた熱加工時耐変色性、耐候変色性、耐薬品性、耐汚染性およびエンボス追従性と良好な消臭機能を有するアクリル樹脂フィルムおよび消臭機能と、優れた艶消し性等を有する上記アクリル樹脂フィルムからなる層を有する積層体を提供する。 - 特許庁 - Flying radioactive solid material 1 is contained in the basket 2, contained in a transportation cask to transport to the chemical-processing facility, and throwing it with the whole basket in the nitric acid solution in a solving tank to made able to chemically process only flying radioactive solid material inside.
バスケット２内に飛散性の放射性固体物質１を収容し、輸送容器中に格納されて化学処理施設へ運搬し、溶解槽中の硝酸溶液にバスケットごと投入して内部の飛散性の放射性固体物質のみを化学処理することができる。 - 特許庁 - For example, if the chemical substance layer forming processing is performed after the press molding, the crevice 30 produced in the interface of the mother material 10 and the conductive intervening thing 20 is filled by volume expansion of the mother material 10, and the fault, which is produced when the crevice 30 existed, can be canceled.
例えば、プレス成形後に化学物層形成処理を行うと、プレス成形によって母材１０と導電性介在物２０との界面に生じていた隙間３０が母材１０の体積膨張により埋められ、隙間３０が存在することによって生じていた不具合が解消される。 - 特許庁 - A compression stress layer having a depth of not less than 50 μm is formed by chemical reinforcement processing on the surface of a glass substrate made of glass material containing 40-70 wt.% of SiO_2, 0.1-20 wt.% of Al_2O_3, 3-20 wt.% of Na_2O, and not containing Li_2O.
ＳｉＯ_2を４０〜７０重量％、Ａｌ_2Ｏ_3を０．１〜２０重量％、Ｎａ_2Ｏを３〜２０重量％含有し、Ｌｉ_2Ｏを含有しないガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 - 特許庁 - To alleviate the load of chemical-mechanical polishing (CMP), enhance machining efficiency, and improve on substrate surface flatness by replacing the whole or part of substrate processing in CMP with electrochemical machining using pure water or, preferably, ultrapure water.
化学機械的研磨（ＣＭＰ）による基板処理工程の一部または全部を、純水、好ましくは超純水等を用いた電解加工に置き換えることにより、化学機械的研磨（ＣＭＰ）の負荷を軽減させ、更に高効率で平坦性の高い加工を行うことができるようにする。 - 特許庁 - To provide a photosensitive planographic printing plate developable with an aqueous alkali developing solution, having superior wear resistance, high wear resistance and superior chemical resistance, high plate durability even when printing with UV ink (ultraviolet-curing ink) is carried out without carryin out a burning processing and excellent in aging stability.
水性アルカリ現像液で現像ができ、耐摩耗性が優れ、かつ耐刷力の大きく、また耐薬品性に優れ、バーニング処理を行う事なくＵＶインク（紫外線硬化インク）を用いた印刷を行っても耐刷力の大きく、さらに経時安定性に優れた感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁 - A state with a mold pattern 121 formed is provided by processing a silicon carbide film 102 formed by the chemical vapor deposition process.
ＣＶＤ法で形成された炭化珪素膜１０２を加工してモールドパターン１２１が形成された状態とし、次に、シリコン基板１３１の主表面にモールドパターン１２１が当接された状態とし、この状態で、支持体基板１０１とシリコン基板１３１との間に電圧が印加された状態とする。 - 特許庁 - To make it possible in regard with a filter, such as a bag filter of a dust collector, which needs to have heat resistance and a method for surface-processing a filter to improve heat resistance, chemical resistance, water repellency, lowness of frictional resistance, and easiness of dust separation.
本発明は集塵機のバグフルタのような耐熱性を必要とされるフィルタ及びフィルタ表面加工方法に関し、濾過性能を損なわずに耐熱性、耐薬品性、撥水性、低摩擦抵抗、ダスト剥離性を向上することができるようにすることを目的とする。 - 特許庁 - To provide an imaging apparatus and a signal processing method thereof capable of properly applying spectral sensitivity correction to any of green colors of coloring materials or the like, green colors of leaves of naturally grown trees, and colors of chemical fiber cloth or the like so as to be capable of obtaining excellent color reproducibility without the need for an IRCF (Infrared Cut Filter).
ＩＲＣＦなしで、絵の具の緑や、自生している木の葉の緑や化学繊維の布の色などのいずれに対して適切に分光感度補正を行うことができ、良好な色再現性を得ることができる撮像装置及び信号処理方法を得る。 - 特許庁 - To provide a method for efficiently processing salmon by which taste of salmon flesh can be brought out while not depending on action of externally added substances such as chemical seasonings or flavor additives, or being independent of salty taste alone so as to supply consumers with raw salmon at a relatively lower and stable price in all seasons.
化学調味料、添加香料などの外添物の作用によること無く、また塩味のみに頼らずに、鮭の肉質の旨味が引き出せ、四季を通じ消費者へ生鮭で、比較的低廉な安定した価格で供給出来る鮭の効率的な加工法を提供する。 - 特許庁 - The surface of a tubular member main body 1 is covered with plural tape-like protecting films 5 such as photosensitive films or masking tapes, and the tubular member main body outer surfaces exposed from windows between the protecting films 5 are polished by a chemical polishing method, a shot blast processing method or the like.
管状部材本体１の表面にテ−プ状の複数本の感光性フィルム、マスキングテープ等の保護膜５が被着され、保護膜５間の窓部６から露出した管状部材本体１の外側表面を化学研摩方法やショットブラスト加工等で研摩される。 - 特許庁 - To provide a chemical strengthening processing apparatus capable of improving corrosion resistance and reducing adhesion of metal oxide fine particles to the surface of a glass substrate and decreasing bad conditions in the use as a glass substrate for an information record medium.
耐食性を向上できるとともに、ガラス素板の表面に対する金属酸化物の微粒子の付着を減少でき、情報記録媒体用のガラス基板として使用した際の不具合を低減できる情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置を提供する。 - 特許庁 - In reapplying anodic oxidation to an electrode foil obtained by applying anodic oxidation and drying to an aluminum etching foil, the electrode foil is immersed in an acid solution as depolarization processing ST1, and then, anodic oxidation is reapplied using in-solution power feed as restoring chemical treatment ST2.
アルミニウムエッチング箔に陽極酸化および乾燥を施した電極箔に再度の陽極酸化を行う際、減極処理ＳＴ１として、電極箔を酸性溶液に浸漬した後、修復化成処理ＳＴ２として、液中給電により再度の陽極酸化を行う。 - 特許庁 - The photoresist is exposed to actinic radiation in a pattern such that when the photoresist is subsequently developed, a perimeter region of the photoresist remains over the perimeter region of the carrier and extending inward over the periphery of the thin film sufficiently to secure the thin film during conveyorized chemical processing.
フォトレジストがその後に現像されるときに、フォトレジストの辺縁領域がキャリアの上に残り、さらにコンベアを有する化学的加工の間に薄膜を固定するのに充分となるように、薄膜の辺縁上で内側方向に延びるようなパターンの化学線で、フォトレジストが露光される。 - 特許庁 - To implement stable processing, for example when a palladium surface is coated with a chemical solution, by adjusting the level of wettability appropriately and suppressing the rate of change of the wettability with the passage of time to a regular value or below in a palladium film taken from a palladium film roll.
パラジウムフィルムロールから採取したパラジウムフィルムにおいて、濡れ性を適度なレベルとすると共に、濡れ性の経時による変化率を一定の値以下に抑え、パラジウム表面に薬液を塗工するなどの加工を行う際に、安定した加工が実施できることを目的とする。 - 特許庁 - To provide a thermal positive type planographic original printing plate that satisfies a high level of characteristics demanded for the planographic printing plate, such as chemical resistance including retention of the unexposed area against a developing processing, a good developability of the exposed area, and a good durability (plate durability), and that realizes a high development latitude.
未露光部の現像処理に対する保持性を含めた耐薬品性、露光部の良好な現像性、及び高い耐久性（耐刷性）といった平版印刷版に要求される特性を高いレベルで満足し、しかも高いラチチュードを実現するサーマルポジ型平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁 - The etching method includes: a step of forming a solid layer, such as a metal fluoride layer 3, at least as one portion of an etching mask on the surface of substrates 1, 2; a step of performing chemical processing to the solid layer; and a step of etching the substrates with the solid layer as a mask.
基体（１，２）の表面に、エッチングマスクの少なくとも一部として、金属フッ化物層３等の固体層を形成する工程と、前記固体層を化学薬品処理する工程と、前記固体層をマスクとして、前記基体をエッチングする工程とを有することを特徴とするエッチング方法。 - 特許庁 - The substrate chemical processor is provided with a spin chuck 13 for rotating a wafer W by holding the same, nozzles 14A to 14C for discharging the plurality of kinds of chemicals to the front surface of the wafer W, and a processing cup 12 provided surrounding the spin chuck 13 to collect the chemicals splashed from the wafer W.
基板薬液処理装置は、ウエハＷを保持しながら回転させるスピンチャック１３と、ウエハＷの表面に複数種類の薬液を吐出するノズル１４Ａ〜１４Ｃと、スピンチャック１３を取り囲み且つウエハＷから飛散した薬液を回収する処理カップ１２とを備えている。 - 特許庁 - The processing part 10 confirms the tubal administration flags of the chemicals in prescription information received from a host 2 with referring to the chemical master 21, organizes prescription information whose tubal administration flags are used, and takes out the tubal administration flag comments corresponding to the tubal administration flags from the name master.
処理部１０は、ホスト２から受信した処方情報中の薬品の経管投与フラグを薬品マスター２１を参照して確認し、経管投与フラグを使用した処方情報を整理し、かつ経管投与フラグに対応する経管投与フラグコメントを名称マスターから取り出す。 - 特許庁 - To provide a face sheet having anti-abrasion property, anti-injuring property, anti-weathering property and anti-chemical property, wherein flexibility is better than conventional polypropylene face sheet, whitening and cracking are hardly observed upon bending processing, and a design accompanied with anti-injuring property is excellent, under stable film-forming conditions.
耐磨耗性、耐傷性、耐候性、耐薬品性等を有しつつ、従来のポリプロピレン化粧シートより優れた柔軟性を有しており、折り曲げ加工時に白化や割れが生じにくく、かつ耐傷つき性に優れた意匠性の高い化粧シートを、安定した製膜条件の元で提供すること。 - 特許庁 - To provide metal removing method using of bacteria without the need of processes including resist film formation/pattering/elimination similar to conventional chemical means and capable of forming high-precision/fine patterns while varring working patterns according to a processing depth.
従来の化学的加工手段と同様のレジスト膜の生成・パターン化・除去といった工程を必要とすることなく、かつ、除去深さに応じて加工パターンを変えながら、高精度・微細なパターンを形成することができる細菌による金属の除去加工方法を提供する - 特許庁 - The chamber 10 has an outlet 11 for the chemical liquid in a part of its inner bottom portion, and a filter member 20 having a larger filtering area than the outlet 11 is disposed between the outlet 11 and a processing position of a substrate S (i.e., a position of a carrying roller 16).
チャンバ１０には、その内定部の一部に薬液の排出口１１が設けられ、さらに排出口１１と基板Ｓの処理位置（搬送ローラ１６の位置）との間の部分には、前記排出口１１よりも広い濾過面積をもつフィルタ部材２０が配備されている。 - 特許庁
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