「Chemical Processing」を含む例文一覧(726)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 14 15 次へ＞- To provide device and method for treating a substrate, free from dry processing in an ambience polluted by chemical liquid contained in cleaning fluid, and preventing the substrate from being contaminated.
洗浄液に含まれる薬液の汚染雰囲気中で乾燥処理を行うことがなく、基板が汚染されることを防止する。 - 特許庁 - To provide a chemical processing method of a glass substrate capable of producing various glass substrates for FPD having high flatness with reduced thickness.
板厚を薄くしつつ平坦性の高い各種ＦＰＤ用ガラス基板を得ることができるガラス基板の化学加工方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, accidental mixing of the first, second and third chemical liquids in the processing chamber 2 can be prevented absolutely.
そのため、処理室２内などにおける第１薬液、第２薬液および第３薬液間での混触を確実に防止することができる。 - 特許庁 - Consequently, the unnecessary time due to the chemical unit CSB is suppressed to improve the availability of the substrate processing apparatus.
その結果、薬液ユニットＣＳＢに起因する無駄な時間を抑制することができ、基板処理置の稼働率を向上させることができる。 - 特許庁 - To obtain a chemical and mechanical abrasive composition used for processing a semiconductor by incorporating an aqueous medium, an abrasive and an abrasive accelerator.
水性媒体、研磨剤及び研磨促進剤を含有し、半導体加工にて使用する化学機械的研磨組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemical vapor deposition method for depositing a tungsten film on a substrate arranged in a substrate processing chamber while preventing fluorine contamination.
基板処理チャンバに配置される基板上にフッ素汚染を防止しながらタングステン膜を堆積させるための化学気相成長法。 - 特許庁 - In initial chemical processing, a silicon oxide film is formed on the substrate surface Wf, and the substrate surface Wf is a hydrophilic face.
初期薬液処理では、基板表面Ｗｆにシリコン酸化膜が形成されており、基板表面Ｗｆは親水面となっている。 - 特許庁 - To provide a biochip, using a glass substrate which has proper chemical stability, superior mechanical properties and high processing accuracy.
化学的安定性，機械的特性に優れ、高加工精度を有したガラス基板を用いたバイオチップを提供することを目的とする。 - 特許庁 - A burr, etc., to be causes of the worn particles are preliminarily eliminated by performing the chemical polish processing to the arm 5 and the dimple 2.
アーム５及びダボ２に化学研磨処理を施すことで、摩耗粉の原因となり得るバリなどをあらかじめ除去することができる。 - 特許庁 - The substrate processing equipment is provided with a valve 15 for regulating the open/close state of chemical piping, an encoder 18 and a control section 20.
基板処理装置に、薬液配管の開閉状態を調整する開閉バルブ１５、エンコーダ１８および制御部２０を設ける。 - 特許庁 - This chemical substance management system 1 is configured to manage the usage of chemical substances by using a computer 4 including a data storage part 2 and a control part 3 for executing processing by using information stored in the data storage part 2.
データ記憶部２と、このデータ記憶部２に記憶された情報を用いて処理を行う制御部３とを含むコンピュータ４を用いて化学物質の使用量を管理する化学物質管理システム１である。 - 特許庁 - Thirdly, in the chemical processing device, a regulation roller to regulate the flow of the chemical E sprayed against the printed circuit board B longitudinally along the carrying direction on an outer surface, is arranged.
第３に、この薬液処理装置では、プリント配線基板材Ｂに噴射された薬液Ｅが、事後、プリント配線基板材Ｂの外表面を搬送方向に沿い前後に流れることを規制する、規制ローラーが配設されている。 - 特許庁 - To provide an etching processing apparatus and an etching method for suppressing an increase in moisture concentration in an etching liquid when replenishing a constituent liquid chemical to the etching liquid including at least one constituent liquid chemical and water.
少なくとも一の成分薬液と水とを含むエッチング液に一の成分薬液を補給する際の、エッチング液中の水分濃度の上昇を抑制できるエッチング処理装置およびエッチング方法を提供する。 - 特許庁 - The wallpaper is produced by coating a processing liquid obtained by mixing the hydrophilic stainproof chemical and the dry soil-preventing chemical on a surface layer in a wallpaper obtained by laminating the surface layer on a base material layer, and drying the coated product.
基材層に表面層を積層した壁紙において、前記表面層上に、親水性防汚薬剤と、ドライソイル防汚薬剤とを混合した加工液を塗布し、乾燥したことを特徴とする壁紙。 - 特許庁 - To provide a catalytic chemical processing method and apparatus using magnetic fine particles capable of processing a difficult-to-process workpiece, especially SiC, GaN, etc. with high processing efficiency and with high precision based on a processing principle utilizing a catalytic action enabling the chemical reaction introducing no lattice defect into the surface of the workpiece, and capable of obtaining a crystallographically excellent processed surface.
本発明は、被加工物表面に格子欠陥が導入されない化学的な反応が可能な触媒作用を利用した加工原理に基づき、難加工物、特にＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ高精度に加工することができ、結晶学的に優れた加工面が得られる磁性微粒子を用いた触媒化学加工方法及び装置を提案する。 - 特許庁 - To provide a reproduction processing method of a dust collection filter and a filter reproduction system which does not require post-processing of chemicals and exhaust gas processing after thermal decomposition, and is applicable for a filter material without chemical corrosion resistance wherein running cost is low.
薬品の後処理や熱分解後の排気ガス処理が不要であり、薬品耐食性がないフィルタ材質にも適用可能で、ランニングコストが低い、集塵フィルタの再生処理方法及びフィルタ再生システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a photographic processing chemical package that particularly functions on a conventional processing device without further mounting other devices, has no defect in stability of one-component preparation, and brings about better reproducibility of a processing.
特に、更なる取り付けを伴なわずに従来の処理装置上で機能し、１成分調製物の保恒性の欠点をもたず、そして処理のより良い再現性をもたらす、写真処理化学薬品のパッケージを提供すること。 - 特許庁 - The method for producing a cover glass for a display device includes a shape processing step (S1) of processing a blank of glass for a display device into a glass plate of a given shape, a washing step (S2) of washing the glass plate, and a chemical strengthening step (S3) of subjecting the washed glass plate to chemical strengthening.
ディスプレイ装置用カバーガラスの製造方法は、ディスプレイ装置用ガラスの素板から所定の形状のガラス板に加工する形状加工工程（Ｓ１）と、ガラス板を洗浄する洗浄工程（Ｓ２）と、洗浄したガラス板に化学強化を行なう化学強化工程（Ｓ３）と、を備える。 - 特許庁 - Each of the two foil surfaces which is physically bonded to the dielectric layer is smooth (preferably by chemical processing) and has a thin, organic layer thereon, while the outer surfaces of both foils are also smooth (preferably by using a chemical processing step).
この絶縁層に物理的に接合されたこれら箔１１の２つの表面は平滑（好ましくは化学処理によって）であって、それらの上に薄い有機質層を備えており、一方両方の箔１１の外側の表面もまた平滑（好ましくは化学処理ステップを用いることによって）である。 - 特許庁 - Accordingly, the preparation processing for temperature control in the auxiliary unit has been completed by the time when a phosphoric acid is used in the chemical processor 19b, and thus, schedule delay due to standby of preparation processing of the chemical processor 23b can be prevented as an auxiliary unit, and the operation rate of the apparatus can be improved.
したがって、薬液処理部１９ｂにおいて燐酸を使用する際には、予備ユニットにおける温調の準備処理が終わっており、予備ユニットである薬液処理部２３ｂの準備処理待ちによるスケジュールの遅れを防止することができ、装置の稼働率を向上できる。 - 特許庁 - To obtain a single wafer cleaning apparatus and cleaning method in which the cost of chemical and the quantity of waste liquid are reduced while improving environmental issues by realizing in-plane uniformity of substrate processing process and shortening of processing time using a minimum necessary quantity of chemical.
本発明は、基板加工プロセスの面内均一化および処理時間短縮化を必要最小限の薬液使用量で実現して薬液コスト・廃液量の低減化および環境問題の改善を図る枚葉式洗浄装置および枚葉式洗浄方法を得る。 - 特許庁 - To provide a substrate cleaning processing apparatus that saves pure water and reduces an amount of drainage, and also shortens a processing time when carrying out washing processing of a substrate having been subjected to liquid chemical processing, and achieves space saving and reduction in manufacturing cost of the whole apparatus.
薬液処理後の基板を水洗処理する場合に、純水の使用量を節減するとともに排液量を少なくすることができ、また処理時間を短縮し、さらに装置全体の省スペース化と製造コストの低減化が達成できる基板洗浄処理装置を提供する。 - 特許庁 - This photosensitive material processing unit 19 is fabricated in such a way that a blade 52 of an in-liquid squeeze section 44 is formed from a sheet of a chemical resistant metal.
感光材料現像処理装置１９の液中スクイズ部４４のブレード５２を、耐薬品性を有する金属の薄板から形成する。 - 特許庁 - A sand blasting portion 13 is provided on a surface of a shield member 12 by performing sand-blasting, and chemical surface processing portion 14 is formed there.
シールド体１２表面には、まずサンドブラストを施してサンドブラスト部１３が設けられ、そこに化学的な表面処理部１４が形成される。 - 特許庁 - To provide a processing method of a substrate which inhibits a damage caused by a local electrification to a region where a chemical solution is discharged on a substrate surface.
基板表面の薬液が吐出される領域への局所的な帯電によるダメージを抑制する基板の処理方法を提供する。 - 特許庁 - The chemical industrial raw material production and sales management system comprises an information processing server 300 and mini-plant servers 210 and 211, which are mutually connected by a network 400.
管理システムはネットワーク４００によって接続された情報処理サーバー３００とミニプラントサーバー２１０、２１１とを含んで構成される。 - 特許庁 - To efficiently suppress adhesion of a radioactive substance onto a structure material after start of a reactor, by performing recontamination suppression processing after chemical decontamination.
化学除染後に再汚染抑制処理を行うことにより、原子炉起動後の構造材への放射性物質付着を効率的に抑制する。 - 特許庁 - The chemical standing in the drum part of the processing liquid supply nozzle N1 drops naturally from an outlet 35 made at the lowermost part.
そして、処理液供給ノズルＮ１の胴部内で滞留した薬液は、その最下部に形成された出口開口３５から自然落下する。 - 特許庁 - A planarization process (d) by a chemical and mechanical polishing method or etch back method is introduced before the removal of the resist mask 4 used for processing tracks.
トラック加工に用いたレジストマスク４の除去前に化学的機械研磨法あるいはエッチバック法による平坦化工程（ｄ）を導入する。 - 特許庁 - To provide a processing method of a substrate improved to structuralize the substrate without using a wet or dry chemical etching process.
ウエット又はドライケミカルエッチングプロセスを用いることなくサブストレートを構造化することに対して、改善されたサブストレートの処理方法を提案する。 - 特許庁 - Accordingly, the chemical solution processing time using the peeling solution can be shortened and the etched degree of an interlayer insulation film can be reduced.
これにより、剥離液による薬液処理時間を短縮することが可能となり、層間絶縁膜のエッチング量を低減することができる。 - 特許庁 - The preliminary reaction plasma processing chamber is constituted so as to generate reaction radicals, by subjecting to chemical reaction based on the plasma of a reaction substance.
予備反応プラズマ処理チャンバは、反応物質のプラズマに基づく化学反応を行って反応基を生成するように構成されている。 - 特許庁 - The wood surface processing machine 20 applies the surface treatment onto the surface of a workpiece W (precut wood) for promoting the impregnation of the liquid chemical.
木材表面加工機２０は、ワークＷ（プレカット木材）の表面に、液剤の含浸を促進するための表面処理を施すものである。 - 特許庁 - Embodiments described herein generally provide a method for processing metals disposed on a substrate in a chemical mechanical polishing system.
本発明の実施形態は、一般的に、化学機械研磨システムにおいて基板上に配設された金属を処理するための方法を提供する。 - 特許庁 - In the head slider 15, a chemical adsorption layer 40 is formed on the medium facing surface 23 as water-repellent processing with parts around a magnetic head 33 exposed.
ヘッドスライダ１５は、撥水処理として、媒体対向面２３に、化学吸着層４０が、磁気ヘッド３３付近を露出して形成される。 - 特許庁 - In a first step, an aluminum layer is etched by processing a substrate with a first plasma chemical system that etches aluminum.
第１のステップでは、アルミニウム層のエッチングが、アルミニウムをエッチングする第１のプラズマ化学系を用いて基板を処理することにより行われる。 - 特許庁 - The static mixer having the mixing element 12 of this type is in particular used in natural gas processing, in automotive construction and in chemical reaction technology.
このタイプの混合要素１２を有する静的混合器は、特に天然ガス処理、自動車構成、或いは化学反応技術で使用される。 - 特許庁 - The system and method comprise recovering germanium from MCVD processing wastes by carrying out a chemical conversion from a solid cake product.
固体ケーキ生成物から化学的転化を行うことにより、ＭＣＶＤ加工廃棄物からゲルマニウムを回収する新規なシステム及び方法。 - 特許庁 - To provide a heat treatment apparatus which can reduce the installation floor area thereof, can heat chemical substances and processing substances under optimum temperature conditions, respectively, even when the processing substance is batch-processed by using the chemical substance having toxicity, and is superior in maintenance and safety for increasing the manufacturing yield of the processing substance.
装置の設置床面積を小さくすることができるとともに、毒性を有する化学物質を用いて被処理物をバッチ処理する場合でもそれらの化学物質及び被処理物をそれぞれに最適な温度条件で加熱することができ、かつ被処理物の歩留まりを高めることができるメンテナンス性及び安全性に優れた熱処理装置を提供する。 - 特許庁 - The microfabrication processing method is characterized by storing and using the microfabrication processing agent of aqueous solution containing at least one kind of hydrofluoric acid or ammonium fluoride in a range of a chemical temperature of 5 to 15°C for a predetermined period, and by carrying out a microfabrication of a workpiece in the range of the chemical temperature in case of using the microfabrication processing agent.
微細加工処理方法は、フッ化水素酸、又はフッ化アンモニウムの少なくとも何れか一種を含む水溶液の微細加工処理剤を薬液温度５〜１５℃の範囲で所定期間保管しつつ使用し、かつ、前記微細加工処理剤の使用の際には、前記薬液温度の範囲内で被加工物を微細加工することを特徴とする。 - 特許庁 - The glass substrate is immersed in a chemical processing solution, and a part or all of one or both sides composing the outer surface of this glass substrate are processed at a processing rate of 0.5-10 μm/min.
化学加工液中にガラス基板を浸漬し、このガラス基板の外表面を構成する片側の一部若しくは全部または両側の一部若しくは全部を０．５〜１０μｍ／分の加工速度で加工する。 - 特許庁 - To provide a substrate wet processing apparatus that prevents contamination of chemicals, avoids risk of fire, and comprises a heating part within a chemical bath, and a method of heating chemicals for substrate processing using the apparatus.
ケミカルの汚染を防止すると同時に、火災の危険のない、薬液槽内に加熱部を備える基板湿式処理装置及び該装置を使用した基板処理用ケミカルの加熱方法を提供する。 - 特許庁 - Chemical is supplied to the space GP and liquidtight state is formed with the chemical in the space GP, and then etching is performed with peripheral etching width EH corresponding to the position of the processing definition member 146.
そして、この空間ＧＰに対して薬液が供給されて空間ＧＰにおいて薬液による液密状態が形成され、処理規定部材１４６の位置に対応する周縁エッチング幅ＥＨでエッチング処理が行われる。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device having a chemical pollutant measuring device capable of realizing an evaluation of pollution caused by a chemical pollutant by classifying an organic matter at several steps of boiling levels and showing respective concentration levels.
化学汚染物質による汚染の評価を、有機物を数段階の沸点レベルで分類し、それぞれの濃度レベルを示すことを実現させることができる化学汚染物質計測装置を有する基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - The chemical fluid processing device applies chemical solution treatment on both the upper and lower surfaces of the intermediate product, parallel to a transferring surface upon the transfer process of the intermediate product of printed circuit substrate along a transfer path 10, having a horizontal transfer surface.
薬液処理装置は、水平な移送面を有した移送経路１０に沿ってプリント配線基板の中間製品を移送する過程にて、前記移送面に平行な前記中間製品の上下両面を薬液処理する。 - 特許庁 - To provide a chemical-resistant liquid comprising a polyamide, a layered silicate and a liquid crystal resin, a thermoplastic resin composition having an improved gas permeation resistance, chemical resistance and low- temperature toughness wherein the thickness non-uniformity in processing is inhibited, and a molded product.
ポリアミドと層状珪酸塩および液晶性樹脂からなる耐薬液および耐ガス透過性、耐薬品性、低温靭性の改良および加工時の肉厚むらを改良した熱可塑性樹脂組成物および成形品を提供する。 - 特許庁 - When it is determined that the chemical flow rate maximum value is abnormal, the abnormality detection processing module 6 searches for an address such as a mail address from a database 5b, and transmits the chemical flow rate average value determined as being normal and the chemical flow rate maximum value determined as being abnormal as a detection result by electronic mail, for example.
薬液流量最大値に異常があると判定した場合、異常検知処理部６は、データベース部５ｂから、メールアドレスなどの連絡先を検索し、検知結果として、正常と判定された薬液流量平均値、および異常と判定された薬液流量最大値を電子メールなどによって送信する。 - 特許庁 - To obtain a rubber-containing styrenic thermoplastic resin composition that has well-balanced transparency, chemical resistance, color tone stability, and thermal stability on processing.
透明性、耐薬品性、色調安定性および加工時の熱安定性が均衡して優れたゴム含有スチレン系熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - An initial state of exhaust gas in the CFD operation is determined on the basis of the result of the chemical reaction SIM in the compression and expansion strokes (result processing 2).
圧縮及び膨張行程での化学反応ＳＩＭの結果に基づいて、ＣＦＤ演算における排気の初期状態を求める（結果処理２）。 - 特許庁 - An antibacterial and antiviral fiber is produced by applying plasma treatment to a cloth of an antibacterial and antiviral processed object to activate the surface and applying chemical processing treatment thereto.
抗菌・抗ウイルス加工対象の布にプラズマ処理を施して表面活性化させ、薬剤加工処理を施すことで、抗菌・抗ウイルス性繊維を製造する。 - 特許庁
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