「Chemical Processing」を含む例文一覧(726)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 14 15 次へ＞- METHOD FOR PREVENTING CHEMICAL CRYSTAL OF ROLLER SURFACE AND PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING DEVICE
ローラ表面の薬品結晶防止方法及び感光材料処理装置 - 特許庁 - To provide a substrate processor capable of correctly obtaining deterioration of a chemical for soaking and processing a substrate.
基板を浸漬させて処理する薬液の劣化を正確に把握する。 - 特許庁 - PROCESSING SOLUTION FOR GENERATING BLACK CHEMICAL FILM, METHOD OF PROCESSING METALLIC MEMBER THEREBY, AND PROCESSED METALLIC MEMBER
黒色化成皮膜生成処理液、それによる金属部材の処理方法、及び処理された金属部材 - 特許庁 - A wet processing method for successively processing a plurality of substrates by means of a chemical includes the following steps.
薬液を用いて複数の基板を順次処理するウェット処理方法は、次の各工程を備える。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device capable of suppressing intrusion of a chemical atmosphere from another processing unit.
別の処理ユニットからのケミカル雰囲気の進入を抑制できる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - The first processing part 12 performs paddle processing in a chemical solution while carrying the substrate S in a horizontal posture.
第１処理部１２は、基板Ｓを水平姿勢で搬送しながら薬液によるパドル処理を実施する。 - 特許庁 - To provide a method for operating a chemical-mechanical polishing apparatus capable of contributing to stabilization of processing conditions in chemical-mechanical polishing.
化学機械研磨における処理条件の安定化に寄与する化学機械研磨装置の運転方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid chemical processing method and a liquid chemical processor for accurately comprehending the progress conditions of etching.
エッチングの進行状況を精度良く把握することのできる薬液処理方法及び薬液処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemical solution recovering method and a board processing device, wherein the lifetime of a filter can be prolonged for removing a chemical solution to be repeatedly used for a board processing or a contaminant in the chemical solution.
基板処理に繰り返し使用される薬液やその薬液中の異物を除去するためのフィルタの寿命を長期化できる薬液回収方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - POST CMP (CHEMICAL MECHANICAL POLISHING) PROCESSING LIQUID, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
ポストＣＭＰ処理液、およびこれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁 - INTEGRATED CHEMICAL AND DIGITAL PHOTOGRAPHIC PROCESSING SYSTEM WITH EXCHANGED FEEDBACK CONTROL
交換されるフィードバック制御を備えた化学デジタル統合型写真処理システム - 特許庁 - MANUFACTURE OF CHEMICAL LIQUID FOR PROCESSING OF SOLAR CELL, AND MANUFACTURE OF SOLAR CELL
太陽電池加工用薬液の製造方法、及び太陽電池の製造方法 - 特許庁 - To eliminate a problem such as re-adhesion of mists of a chemical solution to a substrate and also to eliminate leaving of unevenness of the chemical solution in the substrate processing apparatus used for processes using chemical solutions.
薬液処理を行なう基板処理装置において、基板に対する薬液ミストの再付着などの問題がなく、なおかつ、薬液ムラを残さないようにする。 - 特許庁 - Chemical such as etching liquid entering the chemical avoiding part 30 on an upstream side from the chemical processing part is diluted by water accumulated in the tank base, and crystallization in the chemical avoiding part 30 is prevented even if chemical is easily crystallized.
薬液処理部から上流側の液避け部３０に侵入したエッチング液等の薬液が、液避け部３０の槽底部分に滞留する水により希釈され、薬液が結晶化しやすい場合も液避け部３０における結晶化が防止される。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus improving the inplane uniformity of substrate processing by a chemical solution.
薬液による基板処理の面内均一性を向上することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - The fluid includes a chemical with a concentration different from that of one chemical in the processing liquid fed into the main pipe.
液体は、主管に送り込まれる処理液中の一つの薬液種の濃度とは異なる濃度で一つの薬液種を含む。 - 特許庁 - To provide substrate processing equipment and a substrate processing method in which chemical can be collected efficiently.
薬液を効率よく回収することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus which can satisfactorily supply a chemical solution into the opening of a processing cup.
処理カップの開口部に薬液を良好に進入させることができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - SEALING DEVICE FOR THIN FILM MATERIAL PROCESSING DEVICE AND THIN FILM MATERIAL CHEMICAL REACTION PROCESSING DEVICE WITH SAME
薄膜材料処理装置用シール装置及び該シール装置を具備してなる薄膜材料化学反応処理装置 - 特許庁 - To provide a wet processor which speedily sucks chemical and rinse water after a processing from a sucking means installed on a substrate, after chemical and pure water and sprayed with the work processing of the substrate as a conveyor type, and to provide a chemical removing processing.
本発明は、基板の加工処理をコンベアタイプとして、薬液や純水をスプレーした後に速やかに基板上部に設けた吸引手段より、処理後の薬液やリンス水を吸引するウェット処理装置および薬液除去方法を得る。 - 特許庁 - To provide a wafer processing method that includes a wafer processing process of executing liquid chemical processing, heating treatment or processing accompanied by heat generation, and is capable of reliably processing a wafer without breakage or the like.
薬液処理、加熱処理又は発熱を伴う処理を施すウエハ処理工程を有し、破損等することなく確実にウエハを処理できるウエハの処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for recovering and reusing phosphate chemical processing liquid, in which the accumulation of unnecessary components in a chemical processing vessel is prevented and a concentrating process is smoothly performed.
化成処理槽中の不要成分の蓄積を防ぎ、且つ濃縮工程を円滑に行うりん酸塩化成処理液の回収再利用方法方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus which efficiently processes a pattern formation surface of a wafer while preventing the diffusion of a chemical atmosphere that may occur during chemical processing.
薬液処理時に発生しうる薬液雰囲気の拡散を防止しつつ、ウエハのパターン形成面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁 - In the method, it is preferable that the glass substrate is almost vertically arranged in the chemical processing liquid, and an ascending flow is produced in the chemical processing liquid by bubbles.
この方法において、ガラス基板を化学加工液中に略垂直配置し、気泡により化学加工液中に上昇液流を生じさせていることが好適である。 - 特許庁 - To reduce undesired etching by using chemicals to improve the quality of chemical processing.
薬液による不所望なエッチングを低減して、薬液処理の品質を向上する。 - 特許庁 - Thereby, the end portion of the substrate W rises to the temperature corresponding to the chemical liquid processing.
これにより、基板Ｗの端部が薬液処理に応じた温度に昇温する。 - 特許庁 - A wafer bevel processing section 2 is provided with a spray head 11, a valve 13, a valve 15, a valve 17, a valve 19, valves 25-28, a chemical collecting section 20, a chemical supply pump 21, a chemical supply pump 22, and a chemical supply tank 23.
ウェハベベル処理部２には、スプレーヘッド部１１、バルブ１３、バルブ１５、バルブ１７、バルブ１９、バルブ２５乃至２８、薬液回収部２０、薬液供給ポンプ２１、薬液供給ポンプ２２、及び薬液タンク２３が設けられる。 - 特許庁 - The method for processing the housing member of a mask blank, having a chemical amplification resist film, is carried out by eliminating from the member chemical substances which block the chemical amplification effect of the chemical amplification resist.
化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納するための部材の処理方法であって、化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質を上記部材から除去する処理を施す。 - 特許庁 - The chemical processing system comprises the processing bath 10 for receiving pure water 13 in the upper phase and chemical 11 in the lower phase while separating from each other, an apparatus 17 for purifying the chemical and pure water used for processing the wafer 25 in the processing bath 10, and piping 18, 19 for returning the purified chemical and pure water back to the processing bath 10.
この薬液処理装置は、上相に純水１３、下相に薬液１１を互いに分離した状態で入れるための処理槽１０と、処理槽１０でウエハ２５を薬液処理した後の薬液及び純水を精製する精製器１７と、精製器１７により精製された薬液及び純水を再び処理槽１０に戻す配管１８，１９と、を具備するものである。 - 特許庁 - A control section 4, fluid box sections 2a and 2b, chemical processing sections 5a and 5b and pure water processing sections 6a and 6b are arranged in the processing region A.
処理領域Ａには、制御部４、流体ボックス部２ａ，２ｂ、薬液処理部５ａ，５ｂおよび純水処理部６ａ，６ｂが配置されている。 - 特許庁 - Fluid box sections 2c and 2d, chemical processing sections 5c and 5d and pure water processing sections 6c and 6d are arranged in the processing region B.
処理領域Ｂには、流体ボックス部２ｃ，２ｄおよび薬液処理部５ｃ，５ｄおよび純水処理部６ｃ，６ｄが配置されている。 - 特許庁 - The chemical liquid fed from a first tank 13 to a processing unit 2 is collected to a second tank 14 through the chemical liquid collecting pipe 16.
第１タンク１３から処理ユニット２に供給された薬液は、薬液回収管１６を介して第２タンク１４に回収される。 - 特許庁 - Processing is executed to the substrate W while supplying a chemical with a chemical nozzle 50 to the substrate W held by a spin chuck 21.
スピンチャック２１により保持される基板Ｗに薬液ノズル５０により薬液が供給され、基板Ｗの処理が行われる。 - 特許庁 - FLUOROSCOPIC IMAGING SYSTEM, OPERATION CONFIRMING DEVICE, CHEMICAL INJECTING DEVICE, COMPUTER PROGRAM, AND DATA PROCESSING METHOD
透視撮像システム、動作確認装置、薬液注入装置、コンピュータプログラム、データ処理方法 - 特許庁 - To provide a method for recovering germanium from modified chemical vapor deposition(MCVD) processing wastes.
ＭＣＶＤ加工廃棄物からゲルマニウムを回収する新規な方法を提供する。 - 特許庁 - To exchange processing control information between systems in a chemical and digital photographic system.
化学デジタル写真システムにおいて、処理制御情報をシステム間で交換できるようにする。 - 特許庁 - To provide a processing system and a method for chemical treatment of a substrate.
基板を化学的に処理するための処理システムおよび方法を提供することである。 - 特許庁 - The chemical liquid is mixed with a SCF (super-critical fluid) to prepare a processing fluid (step 4).
そして、この薬液がＳＣＦと混合されて処理流体が調製される（ステップＳ４）。 - 特許庁 - To provide a processing system and a method for chemical treatment of a substrate.
基板を化学的に処理するための処理システムおよび方法を提供することである。 - 特許庁 - Successively, the second chemical is supplied to a semiconductor substrate inputted to the processing chamber 21.
続いて、処理チャンバ２１に投入された半導体基板に第２の薬液を供給する。 - 特許庁 - To provide a photographic processing apparatus with which appropriate exchanging of a chemical filter can be performed.
ケミカルフィルタの適正な交換を行うことができる写真処理装置を提供する。 - 特許庁 - PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM, AND NOZZLE AND INJECTION PIPE USED FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS
プラズマ化学気相蒸着装置及びプラズマ処理装置に使用されるノズル及び噴射管 - 特許庁 - LINING PROCESSING METHOD OF MULTILAYER PRINTED CIRCUIT BOARD, LINING CIRCUIT BOARD, AND CHEMICAL COARSENING LIQUID
多層プリント配線板の内層処理方法、内層回路基板、および化学粗化液 - 特許庁 - To provide a substrate processing device which is capable of uniformly processing a substrate even when there is a difference in temperature between the substrate and a chemical.
基板と薬液との温度差がある場合にも均一な基板処理が可能な基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - An inner face of the glass tube is structured to have electrical conductivity by heat processing and/or chemical processing.
その管の内側面は、熱処理及び（又は）化学的処理によって電気的に伝導性を有するよう構成されている。 - 特許庁 - At least part of the third removal processing is performed by a second chemical processing (step 5) for the organic film pattern.
第三の除去処理の少なくとも一部を有機膜パターンに対する第二の薬液処理（ステップＳ５）により行う。 - 特許庁 - The substrate processing equipment 1 comprises chemical processing sections CB1 and CB2, and flushing sections WB1 and WB2 arranged in a row.
基板処理装置１は、薬液処理部ＣＢ１，ＣＢ２と、水洗処理部ＷＢ１，ＷＢ２とを一列に配設する。 - 特許庁 - To obtain an innoxious liquid chemical for flame retarding processing, which imparts a processing object with high flame retardancy.
本発明の課題は、処理対象物に高い難燃性を与える無害な難燃処理用液剤を提供することにある。 - 特許庁 - When it is determined that the chemical flow rate average value is normal, the abnormality detection processing module 6 determines whether the chemical flow rate maximum value and the chemical flow rate minimum value are abnormal or not.
薬液流量平均値が正常と判定されると、異常検知処理部６は、薬液流量の最大値、および最小値に異常があるか否かをそれぞれ判定する。 - 特許庁 - To provide a chemical mechanical polishing slurry capable of achieving the high-speed, low-erosion and low-scratch chemical mechanical polishing, in a chemical mechanical polishing processing for a conductive material film.
導電性材料膜の化学機械研磨処理に際し、ＣＭＰの高速化と低エロージョンおよび低スクラッチ化とを図ることが可能な化学機械研磨用スラリを提供する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
