「Chemical Processing」を含む例文一覧(726)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 14 15 次へ＞- PROCESSING SYSTEM AND METHOD FOR CHEMICAL TREATMENT OF SUBSTRATE
基板を化学的処理する処理システムおよび方法 - 特許庁 - METHOD FOR PROCESSING FIBER OF FIBER PRODUCT WITH CHEMICAL AGENT
薬剤による繊維または繊維製品の加工方法 - 特許庁 - The mask is removed by performing wet processing using chemical solution.
薬液によるウェット処理を行ってマスクを除去する。 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING ABANDONED CHEMICAL WEAPON ARTILLERY
遺棄化学兵器砲弾の処理装置及び処理方法 - 特許庁 - To provide a cartridge for chemical reaction and a chemical reaction processing system enabling versatile and diversified processing.
汎用的で多様な処理を可能とした化学反応用カートリッジおよび化学反応処理システムを提供する。 - 特許庁 - The chemical stored in the chemical storage tank TA is fed to the chemical nozzle 50 again during processing of the substrate W by the chemical or predispensing.
薬液貯留タンクＴＡに貯留された薬液は基板Ｗの薬液処理時またはプリディスペンス時に再度薬液ノズル５０へ送られる。 - 特許庁 - CHEMICAL TERMINAL PROCESSING METHOD FOR GALVANIZED STEEL SHEET, AND TERMINAL PROCESSING DEVICE THEREFOR
亜鉛メッキ鋼板の化学的端末処理方法及びその端末処理装置 - 特許庁 - A substrate processing apparatus includes a chemical nozzle 3 having a chemical discharge port 3a discharging a chemical and a chemical pot 5 disposed at a standby position P13.
基板処理装置は、薬液を吐出する薬液吐出口３ａを有する薬液ノズル３と、待機位置Ｐ１３に配置された薬液ポット５とを含む。 - 特許庁 - METHOD AND EQUIPMENT FOR PROCESSING ABANDONED CHEMICAL WEAPON WASHING WASTE WATER
遺棄化学兵器洗浄廃水の処理方法とその装置 - 特許庁 - CHEMICAL FLUID PROCESSING DEVICE FOR INTERMEDIATE PRODUCT OF PRINTED CIRCUIT BOARD
プリント配線基板の中間製品の薬液処理装置 - 特許庁 - MRI SYSTEM AND CHEMICAL SHIFT INFORMATION PROCESSING METHOD
磁気共鳴撮影装置及びケミカルシフト情報処理方法 - 特許庁 - BASKET FOR CHEMICAL PROCESSING OF FLYING RADIOACTIVE SOLID MATERIAL
飛散性の放射性固体物質の化学処理用バスケット - 特許庁 - A processing solution is produced by mixing a chemical with pure water from a chemical cartridge 29 via a chemical supply part 27 so that the processing solution is supplied to a processing vessel via a supply pipe.
薬液カートリッジ２９から薬液供給部２７を介して純水に薬液を混合させて処理液を生成させ、供給管を介して処理槽に処理液を供給させる。 - 特許庁 - In a chemical liquid processing, the intermediate cup wall 30 is lowered, and the chemical liquid is recovered with the cup 15.
薬液処理のときは中間カップ壁３０を下降させて薬液をカップ１５で回収する。 - 特許庁 - In the method for processing a substrate, including steps of: a liquid chemical processing step of processing a substrate W with a liquid chemical; and then a drying processing step of drying the substrate W, humidity around the substrate W is adjusted depending on type of the liquid chemical used in the liquid chemical processing step.
薬液を用いて基板Ｗを処理する薬液処理工程を行った後，基板Ｗを乾燥させる乾燥処理工程を行う基板処理方法であって，前記薬液処理工程で使用される薬液の種類に応じて，基板Ｗの周囲の湿度を調節する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device which enhances chemical solution removal effect while making design common in terms of dimensions of a chemical solution processing chamber when performing cleaning processing on a substrate after final chemical solution processing.
基板に対して最終薬液処理の後に洗浄処理を行う場合に、薬液処理室の寸法上の設計の共通化を達成しつつ薬液除去効果を高めることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemical processing method and a device which can remarkably suppress pattern abnormality of a substrate caused by chemical processing.
薬液処理による基板のパターン異常の発生を著しく抑えることができる薬液処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - CHEMICAL STRENGTHENING PROCESSING APPARATUS OF GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORD MEDIUM
情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置 - 特許庁 - To provide a chemical processing tank requiring no temperature control unit in the processing tank, and to provide a chemical processor using it.
処理槽に温度制御部を必要としない薬液処理槽及びそれを用いた薬液処理装置を提供することにある。 - 特許庁 - To realize an ultrasonic processing apparatus which can prevent lowering in substrate processing by a liquid chemical even when the liquid chemical of high temperature is used.
高温の薬液を用いても、薬液による基板処理の低下を防止できる超音波処理装置を実現すること。 - 特許庁 - CATALYTIC CHEMICAL PROCESSING METHOD AND APPARATUS USING MAGNETIC FINE PARTICLES
磁性微粒子を用いた触媒化学加工方法及び装置 - 特許庁 - A dip tank 37 is provided at the entrance part of a liquid chemical processing part.
薬液処理部の入口部分にディップ槽３７を設ける。 - 特許庁 - In addition, chemical polish processing is performed to the arm 5 and the dimple 2.
又、アーム５およびダボ２に化学研磨処理を施してある。 - 特許庁 - SOLID PHOTOGRAPHIC CHEMICAL REPLENISHING DEVICE AND PHOTOGRAPHIC MATERIAL PROCESSING DEVICE
固形写真薬品補充装置及び感光材料処理装置 - 特許庁 - To provide a chemical solution treatment method by which the uniformity of processing with a chemical solution is enhanced by moving the chemical solution on a substrate to be treated without direct contact with the chemical solution.
薬液と直接接触することなく、被処理基板上で薬液を移動させることで、薬液の加工の均一性を向上させる薬液処理方法を提供する。 - 特許庁 - A chemical cabinet 1 supplies the processing liquid to the plurality of substrate processing units 5 for processing a substrate W with the processing liquid.
薬液キャビネット１は、基板Ｗに処理液による処理を施すための複数の基板処理部５に処理液を供給する。 - 特許庁 - The equipment is provided with a liquid chemical switching section 21 to change over the liquid chemicals to be supplied to the liquid chemical processing tank 12.
薬液切替部２１を設けて、薬液処理槽１２に供給する薬液を切り換える。 - 特許庁 - The chemical liquid processing of surface of the substrate 1 is executed using the chemical liquid supplied to the surface of the substrate 1.
基板１の表面へ供給した薬液によって、基板１の表面の薬液処理が行われる。 - 特許庁 - To ensure highly accurate chemical processing by eliminating the difference in the concentration of chemical on the surface being treated.
被処理面上における薬液の濃度差を無くすことができ、高精度の薬液処理が可能にする。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of performing substrate processing with high quality by effectively preventing chemical vapor to be generated in chemical processing from scattering to the outside of a sink having a processing tank.
薬液処理時に発生する薬液蒸気が処理槽を有するシンク外へ飛散するのを効果的に抑えて高品質の基板処理を可能にした基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - CHEMICAL AND MECHANICAL ABRASIVE COMPOSITION USED IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
半導体プロセシングにおいて使用する化学機械的研磨組成物 - 特許庁 - METHOD OF PREVENTION FOR YARN DOUBLING IN CHEMICAL PROCESSING OF CARBON FIBER YARN
炭素繊維糸条の薬液処理における合糸防止方法 - 特許庁 - METHOD OF CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND METHOD OF PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFER
化学的機械的研磨方法および半導体ウエハの処理方法 - 特許庁 - To provide a chemical fluid processing device, capable of applying chemical fluid processing evenly on both surfaces of the intermediate product of a printed circuit board, using a simple constitution.
簡単な構成でプリント配線基板の中間製品の両面を均等に薬液処理可能な薬液処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a medical examination cassette that prevents a gap from occurring during chemical processing and a specimen flows out, reduces the buoyancy during chemical dipping of a cassette, and has high chemical permeability and the uniformity of chemical processing.
薬液処理の際に隙間が生じ検体が流出するのを防止し、カセットの薬液浸漬時の浮力を軽減し、更に、薬液透過性及び薬液処理の均一性に優れた医療検査用カセットを提供する。 - 特許庁 - The chemical photographic processing system includes a processing control operator which uses the computer for directing the chemical adjustments of the chemical processing part, the processing control operator using the computer transmits processing information associated with the chemical photographic processing system to the digital device and the digital device transmits the processing information to the processing control operator using the computer.
化学写真処理システムは、前記の化学処理部の化学的調整を管理するコンピュータを用いた処理制御オペレータを含み、前記のコンピュータを用いた処理制御オペレータは、前記の化学写真処理システムに関連した処理情報を前記のデジタル装置に伝送し、前記のデジタル装置は、処理情報を、前記のコンピュータを用いた処理制御オペレータに伝送する。 - 特許庁 - In the wafer surface processing method involving chemical processing, the chemical processing is characterized by including a reaction controlling processing step, and a diffusion controlling processing step following the reaction controlling processing step.
化学処理を伴うウェーハ表面処理方法であって、前記化学処理が、反応律速型処理工程と、該反応律速型処理工程に続く拡散律速型処理工程とを含むことを特徴とする、ウェーハ表面処理方法。 - 特許庁 - CHEMICAL OR PURE WATER SUPPLY DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE OR METHOD
薬液または純水供給装置、基板処理システム、基板処理装置または基板処理方法 - 特許庁 - The pure water processing sections 6c and 6d are disposed above the chemical processing sections 5c and 5d.
純水処理部６ｃ，６ｄは、薬液処理部５ｃ，５ｄの上部にそれぞれ設けられている。 - 特許庁 - The pure water processing sections 6a and 6b are disposed above the chemical processing sections 5a and 5b.
純水処理部６ａ，６ｂは、薬液処理部５ａ，５ｂの上部にそれぞれ設けられている。 - 特許庁 - To provide a processing method of substrate and a chemical processing system in which production cost can be reduced by reusing chemical used for processing the substrate.
被処理基板を薬液処理した後の薬液を再利用することにより製造コストを低減できる被処理基板の処理方法及び薬液処理装置を提供する。 - 特許庁 - A first chemical unit 21 has a first chemical processing plate 31, a first rinse unit 22 has a first rinse processing plate 32, a second chemical unit 23 has a second chemical processing plate 33, a second rinse unit 24 has a second rinse processing plate 34, and a dry unit 25 has a dry processing plate 35.
第１薬液ユニット２１は、第１薬液処理プレート３１を備え、第１リンスユニット２２は第１リンス処理プレート３２を備え、第２薬液ユニット２３は第２薬液処理プレート３３を備え、第２リンスユニット２４は第２リンス処理プレート３４を備え、乾燥ユニット２５は乾燥処理プレート３５を備えている。 - 特許庁 - To provide a substrate cleaning device provided with a plurality of chemical processing tanks where a chemical stain which is caused since a chemical component used for a processing remains on a substrate can be prevented.
処理に用いる薬液成分が基板上に残ることが原因で起こる薬液シミの発生を防止できる複数の薬液処理槽を備えた基板洗浄装置を実現すること。 - 特許庁 - INTRODUCTION MANAGEMENT METHOD OF CHEMICAL SUBSTANCE, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, PROGRAM, RECORDING MEDIUM AND CHEMICAL SUBSTANCE INTEGRATED MANAGEMENT SYSTEM
化学物質の導入管理方法、情報処理装置、プログラム、記録媒体、および化学物質総合管理システム - 特許庁 - After the chemical processing, the downstream-side value V2 is opened prior to the open of the upstream-side valve V1 to start chemical extrusion processing.
そして、薬液処理後、薬液押出処理を開始するために上流側バルブＶ１の開放に先立って下流側バルブＶ２が開かれる。 - 特許庁 - The substrate processing apparatus 100 includes the chemical reservoir tanks TA, TB.
基板処理装置１００は、薬液貯留タンクＴＡ，ＴＢを備える。 - 特許庁 - USEFUL KNOWLEDGE ACQUIRING METHOD AND SYSTEM BY CHEMICAL STRUCTURE FORMULA PROCESSING
化学構造式処理による有用知識獲得方法ならびにシステム - 特許庁 - CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PROCESSING SYSTEM AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
化学的機械的研磨処理システム及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - prepare by drying, salting, or chemical processing in order to preserve
保存するために、乾燥、塩漬けまたは化学処理によって準備する - 日本語WordNet - The substrate processing equipment performing processing with chemical is provided with a nozzle 12 for ejecting chemical, chemical piping 13 for introducing chemical to the nozzle 12, a resist pump 14 for feeding chemical to the nozzle 12, a valve 15 for opening/closing the chemical piping 13 through a motor, a pressure sensor 19 for detecting the pressure in the chemical piping 13, and a control section 20.
薬液による処理を行う基板処理装置に、薬液を吐出するノズル１２、ノズル１２に薬液を導く薬液配管１３、ノズル１２に薬液を送液するレジストポンプ１４、薬液配管１３を電動モータによって開閉する開閉バルブ１５、薬液配管１３内の圧力を検出する圧力センサ１９、および制御部２０を設ける。 - 特許庁
