「Chemical Processing」を含む例文一覧(726)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 14 15 次へ＞- To provide a substrate processor and a substrate processing method, capable of preventing chemical from staying in a reception member for receiving chemical which disperses from a substrate.
基板から飛散する薬液を受けるための受け部材における薬液の滞留を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - In changing over the liquid chemicals, water and air are alternately sprayed from liquid chemical spraying nozzles 36 and 37 to clean the inside of the nozzles 36 and 37, and their piping and the liquid chemical processing tank 12.
薬液を切り換える際に、薬液噴射ノズル３６，３７から水とエアーとを交互に噴射し、ノズル３６，３７やその配管、薬液処理槽１２内を洗浄する。 - 特許庁 - The atmospheric air, containing the liquid chemical steam component discharged from a liquid chemical processing unit 7, is sent through a duct 3 and a branch valve 5 to an air purifier 2.
薬液処理ユニット７から排気される薬液蒸気成分を含んだ雰囲気空気は、ダクト３及び分岐バルブ５を通して空気清浄装置２に送られる。 - 特許庁 - CONDUCTIVE COMPOSITE MEMBER, TONER FIXING MEMBER, FIXING DEVICE, CHEMICAL/MEDICAL PART, CHEMICAL/MEDICAL DEVICE, PROCESSING AND TRANSPORTING PART, PROCESSING DEVICE, FLUID CONTROL PART, FLUID CONTROL DEVICE, AND PROCESS FOR PRODUCING CONDUCTIVE COMPOSITE MEMBER
導電性複合部材、トナー定着部体、定着装置、化学・医療用部品、化学・医療用装置、加工搬送部品、加工装置、流体制御部品、流体制御装置及び導電性複合部材の製造方法 - 特許庁 - To provide a chemical processing device that the chemical processing uniformity is improved, the circuit width is uniformized thereby, the sectional shape of the circuit becomes square or rectangular, and any accident of circuit elimination can be prevented.
化学処理の均一性が向上し、もって例えば、回路幅が均一化され、回路の断面形状も正方形や長方形に近づき、回路消失の事態も防止されるようになる、薬液処理装置を提案する。 - 特許庁 - To simplify the constitution and the control system of a chemical liquid supply system and reduce the foot print, in an apparatus that performs processing of wafers with a processing liquid which is a mixture of a chemical liquid and deionized water.
薬液と純水とを混合させた処理液により基板の処理を行う装置において、薬液供給系の構成や制御系を簡易化し、設置スペースも小さくすることができる装置を提供する。 - 特許庁 - After super-critical fluid is admixed with a chemical under a pressure higher than the processing pressure of substrate, a substrate is processed under the processing pressure of substrate by using the super-critical fluid admixed with chemical.
基板を処理する圧力よりも高い圧力下で超臨界流体に薬液を混合した後、基板を処理する圧力において、薬液が混合された超臨界流体を用いて、基板を処理する。 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method for processing an abandoned chemical weapon artillery having a small size, high safety at a low cost capable of processing bombing by mistake of the chemical weapon artillery by a complete control and safely recovering a chemical agent filled in the artillery.
化学兵器砲弾の誤爆を完全に制御して処理することができ、さらには砲弾内部に充填されている化学剤も安全に回収することができる小型で、安価でかつ安全性の高い遺棄兵器砲弾外壁の処理装置と処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device capable of preventing or controlling leakage of the mist of a chemical solution from a processing cup without lowering the gas-liquid separation efficiency in the processing cup.
処理カップ内における気液分離効率を低下させることなく、処理カップからの薬液のミストの漏出を防止または抑制することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To prevent adhesion of the mist of processing liquid to a substrate when it is dried through spin system by performing a chemical processing process and a chemical drying process in same processing tank.
液晶表示装置等の表示パネルを構成する基板を、スピン方式により洗浄する方法及びそのための装置において、スピン方式による乾燥処理を行う際に洗浄液のミストが基板に付着することを充分に防止できるものを提供する。 - 特許庁 - The processing cup 12 includes waste chemical tanks 16A and 16B, chemicals collecting tanks 16C and 16D, and an operating mechanism 18 for alignment of openings of the chemical collecting tanks and waste chemical tanks with the wafer W.
処理カップ１２は、廃液槽１６Ａ及び１６Ｂ並びに薬液回収槽１６Ｃ及び１６Ｄと、ウエハＷに所望の薬液回収槽又は廃液槽の開口部を位置合わせするための動作機構１８とを有する。 - 特許庁 - The processing liquid supply nozzle N1 has substantially tubular shape and receives chemical from the chemical introduction pipe 16 through an inlet made in one end plate and then damping the chemical flow by bringing it into collision against the other end plate.
処理液供給ノズルＮ１は、ほぼ円筒形状を有し、一方の端板に形成された入口開口から薬液導入管１６からの薬液を受け入れ、他方の端板に薬液を衝突させてその勢いを減衰させる。 - 特許庁 - The substrate processing apparatus is provided with a chemical tank 25, a spin chuck 12 to hold a substrate W to be processed, and chemical supply routes 4 and 21 to introduce the chemicals from the chemical tank 25 to the substrate W held by the spin chuck 12.
この基板処理装置は、薬液タンク２５と、処理対象の基板Ｗを保持するスピンチャック１２と、薬液タンク２５からスピンチャック１２に保持されている基板Ｗへと薬液を導く薬液供給路４，２１とを備えている。 - 特許庁 - To suppress transfer of particles to the surface of a substrate when the substrate is processed with pure water following to processing with chemical.
薬液よる基板の薬液処理後、純水処理時における基板表面へのパーティクルの転写を抑制する。 - 特許庁 - The silicon sludge generated in a silicon processing process is filtered with a ceramic filter and an acidic chemical liquid is added to a non-permeated liquid.
シリコン加工プロセスで発生したシリコンスラッジをセラミックフィルタで濾過し、非透過液に酸性薬液を添加する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus having a spin drying portion capable of reducing the chemical change of a substrate.
基板の化学的変化を低減することができるスピン乾燥部を備える基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To improve processing performances of gas to be decomposed in a chemical reactor having a decomposition mechanism.
化学物質分解機構を有する化学反応装置に関し、分解されるガスの処理能力を高めること。 - 特許庁 - To provide a resin tube excellent in thermal resistance and chemical resistance and easy to be disposed of as well as incineration processing.
耐熱性、耐薬品性に優れ且つ焼却処理を含む廃棄処理の容易な樹脂チューブを提供する。 - 特許庁 - To provide a cartridge system for chemical processing capable of controlling temperature of a fluent material promptly and stably.
迅速かつ安定的に流動体の温度を制御することができる化学処理用カートリッジシステムを提供する。 - 特許庁 - Thus, cleaning processing can be efficiently performed without adding a chemical liquid such as a hydrogen peroxide or ozone from the outside.
外部からの過酸化水素やオゾンなどの薬液添加を行うことなく効果的に洗浄処理できる。 - 特許庁 - A processing field 2 around a place 1, where a chemical bomb is embedded is used as a digging chamber 6 by covering a building 3.
化学弾が埋設されている場所１周囲の処理場２を建家３で覆って発掘室６とする。 - 特許庁 - To provide a substrate case suppressing occurrence of a crack and bending in a substrate, and to provide a processing method of a chemical processing on the substrate by using the case.
基板に割れや反りが発生することを抑制できる基板ケース及びそれを用いて基板に薬液処理を施す処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid processing apparatus, etc. which can raise the temperature on the peripheral part of the substrate to be processed in a short time to heighten the efficiency of processing by a chemical solution.
短時間で被処理基板の周縁部の温度を上げて薬液による処理効率を高めることが可能な液処理装置などを提供する。 - 特許庁 - To provide a device for processing a substrate having a plurality of processing units for processing a substrate to be processed with the use of a processing liquid capable of supplying the processing liquid with a chemical included in an appropriate concentration corresponding to the process of the substrate to be processed in the processing units.
処理液を用いて被処理基板を処理する複数の処理ユニットを備えた基板処理装置であって、各処理ユニットへ、当該処理ユニットにおける被処理基板の処理に応じた適切な濃度で一つの薬液種が含まれた処理液が供給され得る基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - The device 1 for processing a substrate includes: a chemical tank 101 for storing a chemical 102 for performing a surface treatment of a substrate 106; a plurality of transport rollers 103, rotatably arranged in the chemical tank 101, for transporting the substrate 106; and agitation means 107, arranged between the transport rollers, for agitating the chemical 102 stored in the chemical tank 101.
基板処理装置１は、基板１０６の表面処理を行う薬液１０２を収容する薬液槽１０１と、薬液槽１０１内に回転自在に設けられて基板１０６を搬送する複数の搬送ローラー１０３と、搬送ローラーの間に設けられて、薬液槽１０１に収容された薬液１０２を攪拌する攪拌手段１０７と、を有する。 - 特許庁 - The chemical substance mass contained in the design process and the processing process is calculated by use of five kinds of data, i.e., component data usable in the product, data on chemical substance contained in each component, processing process data generated by combination of the components, data on chemical substance used in the processing process, and data on the regulation conditions of the law or the like.
上記課題を解決するために、製品で使用可能な部品データ、各部品に含まれている化学物質データ、部品の組み合わせによって発生する加工プロセスデータ、加工プロセスに使用される化学物質データ、法律等の規制条件データの５種類のデータを使って、設計プロセスおよび加工プロセスで含まれる化学物質量を算出する - 特許庁 - To provide a wafer processing tank made of quartz glass that is easily manufactured even when a large-sized type applicable to a large-diameter, and has a structure which withstands water pressure of a chemical solution reservoired in the processing tank, reduces the amount of the chemical solution, and supplies the chemical solution to a large-area wafer surface, and to provide a method of manufacturing the wafer processing tank.
大口径のウエハーに対応可能な大型の処理槽であっても製作が容易であり、処理槽内に蓄えられる処理薬液による水圧にも耐え、薬液の量を削減できかつ効率よく薬液を大面積のウエハー表面に流れるような構造を有する石英ガラス製ウエハー処理槽及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To suppress concentration fluctuation of chemical immediately after an injection valve is opened and to stabilize a surface processing in a device and a method for opening the injection valve, injecting chemical to high pressure fluid, obtaining processing fluid and performing the prescribed surface processing on a surface of a workpiece by using processing fluid.
注入バルブを開いて高圧流体に薬液を注入して処理流体を得るとともに、該処理流体を用いて被処理体の表面に対して所定の表面処理を施す装置および方法において、注入バルブを開いた直後での薬液の濃度変動を抑えて表面処理の安定化を図る。 - 特許庁 - Even when Si is contained in an amount of >0.7 mass%, the member is made to have a remarkably improved chemical conversion property without specifically carrying out mechanical grinding, chemical pickling processing or the like.
これにより、Siを0.7％超えて含有しても、とくに、機械的研削、化学的な酸洗処理等を行うことなく、化成処理性が顕著に向上した部材とすることができる。 - 特許庁 - To provide an empty can sterilizer for spraying a chemical liquid uniformly to prevent a failure in spraying the chemical liquid, advantageous in high-speed processing, and for realizing its structure at a low cost.
薬液を均一に噴霧して薬液の噴霧不良の発生を防ぎ、その高速処理に有利で、しかもその構成を低コストで実現する空缶殺菌装置を提供する。 - 特許庁 - Accordingly, even the thin steel sheet containing >0.7 mass% Si is formed into a thin steel sheet having a good chemical conversion property without carrying out mechanical grinding, chemical pickling processing or the like.
これにより、Siを0.7％超えて含有する薄鋼板でも、機械的研削、化学的な酸洗処理等を行うことなく、良好な化成処理性を具備する薄鋼板を製造できる。 - 特許庁 - In a chemical processor 23b as an auxiliary unit, a control unit 25 puts a time required for the auxiliary processing at a position before the timing of a chemical processor 19b to be used in conformity with the timing.
制御部２５は、予備ユニットである薬液処理部２３ｂにおいて、準備処理に要する時間を、使用される薬液処理部１９ｂのタイミングに合わせて前に配置する。 - 特許庁 - A plurality of chambers 1 to 7 include chemical solution processing chambers 2, 3 for conducting solution processes to the substrate and water cleaning chambers 5, 6 for conducting water cleaning of the substrate after the processes by the chemical solutions.
複数の室１〜７には、基板に対して薬液処理を行なうための薬液処理室２，３と、薬液処理よりも後で基板の水洗を行なうための水洗室５，６とが含まれる。 - 特許庁 - A substrate processing device 10 is provided with a rotary chuck 14 to maintain a substrate 12 of a liquid crystal display, and a chemical discharge nozzle 16 to discharge a chemical hotter than the substrate 12 to the substrate 12.
基板処理装置10は、液晶ディスプレーの基板12を保持する回転チャック14と、この基板12にこの基板12より温度の高い薬液を吐出する薬液吐出ノズル16とを備える。 - 特許庁 - The processing effects such as chemical composition analysis, chemical species concentration, depth profile, measurement and mapping of homogeneous characteristics, purity, and reactivity can be monitored by an optical spectroscopic method.
例えば、化学的組成分析、化学種濃度、深さ輪郭、均質特性測定及びマッピング、純度、並びに反応性のような処理効果が、光学的分光分析法によって監視され得る。 - 特許庁 - To provide a chemical supply system in which chemical can be supplied stably to a processing unit and various problems in the production process of semiconductor device can be overcome.
安定して薬液を処理装置に供給することが可能で、半導体装置の製造工程における諸問題を解決することのできる薬液供給装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a wafer having excellent surface properties by effectively suppressing the uneven reactivity that is problematic in surface processing by conventional diffusion controlling processes such as wet processing, in a wafer surface processing method involving chemical processing.
化学処理を伴うウェーハ表面処理方法において、従来のウェット処理等、拡散律速型処理による表面処理で問題視されていた反応ムラを効果的に抑制し、表面性状に優れたウェーハを提供する。 - 特許庁 - In the processing system and method for chemical treatment of substrate, the system includes a chemical treatment chamber placed under temperature control, and a substrate holder for supporting the substrate placed under the temperature control independent of chemical treatment.
化学的に基板を処理するための処理システムおよび方法であって、この処理システムは、温度制御される化学的処理チャンバと、化学的処理に対して独立して温度を制御される、基板を支持するための基板ホルダとを備えている。 - 特許庁 - Also, instead of the above, by making the time of a process during which the dishes are brought into contact with a chemical or the concentration of the chemical be different, required processing time and the energy required for heating the washing water or the consumption amount of the chemical is made appropriate.
又、それに代え、食器等が薬剤と接触する行程の時間、もしくは薬剤の濃度を異ならせることにより、処理所要時間及び洗浄水の加熱に要するエネルギー、もしくは薬剤の使用量の適正化ができる。 - 特許庁 - In a processing system and a method for chemical treatment of a substrate, the system comprises: a chemical treatment chamber placed under temperature control; and a substrate holder for supporting the substrate placed under the temperature control independent of the chemical treatment.
化学的に基板を処理するための処理システムおよび方法であって、この処理システムは、温度制御される化学的処理チャンバと、化学的処理に対して独立して温度を制御される、基板を支持するための基板ホルダとを備えている。 - 特許庁 - To provide an inexpensive sensor measuring instrument which is improved in processing speed of signals outputted from a chemical image sensor and reduced in size.
ケミカルイメージセンサの信号処理の高速化と装置の小型化を実現し、安価なセンサ計測装置を提供する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the shirt includes: processing a front body of the shirt 10 so as to hardly make stain by chemical water-repelling and oil-repelling finish.
化学的な撥水および撥油加工で染みになりにくくなるように、シャツ１０の前身頃を加工する。 - 特許庁 - To provide substrate processing equipment in which chemical can be ejected with high accuracy without increasing the burden on an operator.
オペレータの負担を増大させることなく、薬液を高精度に吐出することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - The reversed substrate W is carried into substrate chemical processing sections 31-34 while directing the surface downward.
この上下反転されて表面が下方に向けられた基板Ｗが基板薬液処理部３１〜３４に搬入される。 - 特許庁 - The shock resistance is obtained by forming a compressive stress layer on the surface of the wafer supporting glass by chemical strengthening processing.
耐衝撃性は化学強化処理によりウエハ支持ガラスの表面に圧縮応力層を形成することが好ましい。 - 特許庁 - HOMOGENEOUS SIMPLE ELEMENT COLOR-DEVELOPING CONCENTRATE, ITS PREPARATION, PHOTOGRAPHIC PROCESSING CHEMICAL KIT AND PHOTOGRAPHIC IMAGE FORMING METHOD
均質な単品要素発色現像濃縮物、その調製方法、写真処理薬剤キット及び写真画像生成方法 - 特許庁 - To obtain a method for inexpensively manufacturing a chemical liquid for processing of a solar cell and containing alkali carbonate and water.
炭酸アルカリと水から成る太陽電池加工用薬液の安価な製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To perform the more controllable metering of a precursor substance for chemical vapor deposition that is less susceptible to fluctuations in processing parameters.
処理パラメータの変動をあまり受けない、化学蒸着用の前駆体物質のより制御可能な計量を行う。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device for cleaning and drying a substrate by supplying a plurality of chemical liquids or gases on the substrate.
基板上に複数の薬液や気体を供給して、基板を洗浄・乾燥する基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To simply suppress a chemical reaction with a metal which is a processing object and to maintain a front surface of the metal pure by using peculiar water, when a cleaning for dissolving a chemical residue on the front surface of the metal into water and for removing the chemical residue is performed, or when a treatment such as a subsequent storage or the like is performed, in a metallic processing method.
金属の処理方法に関し、金属表面に於ける薬品残渣を水に溶解させて除去する為の洗浄、或いは、その後の保管などの処理を行なう場合、独特の水を用いることで、処理対象である金属との化学反応を簡単に抑止し、金属表面を清浄に維持しようとする。 - 特許庁
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