「Chemical Processing」を含む例文一覧(726)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 14 15 次へ＞- To provide a liquid chemical processor for which an air purification means capable of removing the liquid chemical steam components of the atmospheric air of a liquid chemical processing part, by utilizing pure water after the pure water rising of a body to be processed and recycling the atmospheric air and the pure water is arranged, and to provide an air purification method using the liquid chemical processor.
被処理体を純水リンスした後の純水を利用し、薬液処理部の雰囲気空気の薬液蒸気成分を除害でき、雰囲気空気と純水を再利用できる空気清浄手段を配置した薬液処理装置と、この薬液処理装置を用いた空気清浄方法を提供する。 - 特許庁 - The method comprises locating an impregnating roller in a manner in which a part of the impregnating roller is dipping in the chemical in a tank, and setting the separating position of the carbon fiber yarns impregnated with the chemical from the impregnating roller at an upper point from the surface level of the chemical in raising up the carbon fiber yarns by a roller through the impregnating roller from a chemical tank for processing the carbon fiber yarns.
炭素繊維糸条を処理するための薬液槽から浸漬ローラーを経て炭素繊維糸条をローラーで引き上げる際に、浸漬ローラーをその一部を薬液に浸漬させて槽内に配し、薬液含浸の炭素繊維糸条が浸漬ローラー面から離れる位置を槽中の薬液の液面より上方とする。 - 特許庁 - To provide a device for processing a substrate, capable of suppressing degradation of etching speed due to stay of a low-concentration chemical, in a horizontal transport type device for processing a substrate.
水平搬送方式の基板処理装置において、低濃度薬液の滞留によるエッチング速度の低下を抑えることのできる基板処理装置を得ること。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus in which the installation space of a valve provided to each chemical supply source is reduced, and to provide a substrate processing method, a program, and a storage medium.
各薬液供給源に設けられるバルブの設置スペースを小さくすることができる基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記憶媒体を提供する。 - 特許庁 - Thus, more uniform ultrasonic fields are formed in the processing vessel 11 and the efficiency of liquid processing such as enhancing chemical reaction, emulsification and waste water treatment is increased.
これにより、処理容器１１の中でより均一の音場を形成でき、化学反応の促進、乳化、廃水処理等の液体処理の効率を向上できる。 - 特許庁 - Consequently, since parts are not corroded even if the chemical adheres to the resin 10a or a gas supply passage 19 when carrying in substrate processing, a substrate processing can be satisfactorily performed .
これにより、基板処理の際に、薬液が樹脂部１０ａや気体供給路１９に付着しても腐食されず、良好に基板処理を施すことができる。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus, a substrate processing method, a program, and a storage medium which reduce installation spaces of valves provided in respective chemical-liquid supply sources.
各薬液供給源に設けられるバルブの設置スペースを小さくすることができる基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記憶媒体を提供する。 - 特許庁 - The glass substrate for the information recording medium is chemically reinforced by chemical reinforcing processing 22 after a raw glass plate 11 is formed in the shape of a disc by the shaping processing 12.
情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス素板１１が形状加工１２により円盤状に形成された後、化学強化処理２２により化学強化される。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device capable of suppressing chemical reaction of a by-product produced in substrate processing as it comes into contact with water remaining in a load lock chamber.
基板処理時に生成する副生成物がロードロック室に残留する水分と接触し化学反応することを抑制することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an electron beam processing method and an electron beam processing system in which deterioration in the k value of an insulating film and lowering of chemical resistance can be suppressed.
絶縁膜のｋ値の悪化や耐薬品性の低下を抑制することができる電子ビーム処理方法及び電子ビーム処理装置を提案することを目的としている。 - 特許庁 - To provide an improved system and method for processing a negative photographic film which avoids the conventional problems that a processing time is long, that chemical throughput is high and that energy efficiency is bad, and accomplishes processing which is approximate to real time, is efficient chemical processing or has high energy efficiency.
本発明は、処理時間が長く、化学的な処理量が多く、エネルギー効率が悪い従来の問題を回避する、リアルタイムに近似であるか、無駄のない化学的処理であるか、又は高エネルギー効率である処理を達成することを特徴とする、改良されたネガ写真フィルムの処理システム及びその方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a substrate cleaning technique for improving the rinse effect carried out after chemical processing so as to reduce the consumption of the rinsing DIW.
薬液処理後のリンス効果を上げて、リンス用ＤＩＷの使用量を低減した基板の洗浄技術を提供する。 - 特許庁 - Basically, the method comprises a processing that a partial region of the semiconductor wafer 10 becomes a state where it goes within and without a face of chemical 16.
基本的には、半導体ウェハ１０の一部領域が薬液１６面内外に出入りする状態となる処理を含む。 - 特許庁 - CHEMICAL TREATMENT TO REDUCE MACHINING-INDUCED SUB-SURFACE DAMAGE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING COMPONENTS COMPRISING SILICON CARBIDE
炭化ケイ素を含む半導体加工構成要素における機械加工に起因する表面下の損傷を軽減するための化学処理 - 特許庁 - CHEMICAL CONVERSION PROCESSING METHOD FOR FORMING TRIVALENT CHROMIUM CHEMICALLY-PROCESSED COATING FILM HAVING EXCELLENT HEAT CORROSION-RESISTANCE ON ZINC OR ZINC-ALLOY PLATING
亜鉛又は亜鉛合金めっき上に加熱耐食性の良い３価クロム化成処理皮膜を形成するための化成処理方法 - 特許庁 - The nitrogen gas aids not only the other chemical precursors and a plasma seeds during the PECVD processing, but also participates in a film formation.
窒素ガスは他の化学前駆物質及びＰＥＣＶＤ処理中のプラズマ種を補助するだけでなく、膜形成に関与する。 - 特許庁 - By this processing, Nd2O3 contained in the alloy magnet powder is turned into hydroxide such as Nd(OH)3 by chemical reaction.
この処理により、合金磁石粉末に含まれているＮｄ_2Ｏ_3は、化学反応により水酸化物であるＮｄ(ＯＨ)_3となる。 - 特許庁 - To provide a processing method for a substrate that suppresses local damage to a region on a surface of the substrate to which a chemical are discharged.
基板表面の薬液が吐出される領域への局所的なダメージを抑制する基板の処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemical liquid processing apparatus capable of substantially carrying out both shower method and puddle method by switching over the method suitally.
適宜切り替えることによりシャワー方式とパドル方式との両方を実質的に行なえる薬液処理装置を提供する。 - 特許庁 - The abrasive pad for a chemical-mechanical polishing process is pre-processed by soaking in a hydrophilic processing fluid for a prescribed time before it is mounted onto the chemical-mechanical polishing device.
化学機械研磨工程において使用される研磨パッドを化学機械研磨装置に装着する前に、親水性の処理液に所定時間浸漬して、前処理することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁 - While deionized water is fed to a processing vessel 12 through a water feed pipe 14, chemical liquids are injected into the water feed pipe 14 through chemical-liquid feed pipes 20-22, that are connected to respective mixing valves 18.
給水管１４を通じて純水を処理槽１２に供給しつつミキシングバルブ１８に接合した薬液供給管２０〜２２を介して薬液を給水管１４に合流させるようにした。 - 特許庁 - A component of the operating gas in the initial stage of a compression process used for the chemical reaction SIM is read in from a chemical reaction DB 12 on the basis of a result of the CFD operation in the intake stroke (result processing *1).
吸気行程でのＣＦＤ演算の結果等に基づいて、化学反応ＤＢ１２から化学反応ＳＩＭに用いる圧縮過程初期の作動ガスの成分を読み込む（結果処理＊１）。 - 特許庁 - To provide removable adhesive tape for masking, which is highly chemical resistant, can show a masking effect in chemical processing, and leaves no adhesive residues on an object which has adhered the tape, after the removal of the tape.
耐薬品性に優れており、薬液処理に対するマスキング効果を発揮することができ、しかも剥離後の被着体への粘着剤の残渣のないマスキング用剥離性粘着テープを提供すること。 - 特許庁 - Hence, right after the end portion of the substrate W is made to rise to the temperature corresponding to the chemical liquid processing, the chemical liquid is supplied to the end portion of the substrate W which is heated and temperature-risen by the rotation of the substrate W.
このため、基板Ｗの端部が薬液処理に応じた温度に昇温された直後に基板Ｗの回転により加熱昇温された基板Ｗの端部に薬液が供給される。 - 特許庁 - Surface of a conductor metal layer is etched with chemical 3 by immersing a wiring board 1 having a surface provided with the conductor metal layer into chemical 3 in a processing tank 2 and then carrying the wiring board 1.
表面に導体金属層を設けた配線用板１を処理槽２内の薬液３に浸漬すると共に搬送することによって、導体金属層の表面を薬液３でエッチング処理する。 - 特許庁 - Then, by a chemical liquid processing and a pure water processing for removing a reactive product (residue) generated at the RIE, electrochemical reaction (battery effect) will not take place during the pure water processing, nor corrosion will occur at the metal wiring.
この後、ＲＩＥ時の反応生成物（残渣）を除去する薬液処理及び純水処理を行えば、純水処理中に、電気化学反応（電池効果）が発生することはなく、金属配線の腐蝕もなくなる。 - 特許庁 - The photographic processing system and the method for driving a photographic processing unit include monitoring of the average consumption of water, chemical substances, packaging material and energy per unit amount of the photographic film processed in the processing unit.
本発明による処理システムおよび写真処理器運転方法は、処理器で処理される写真フィルムの単位量当たりの水、化学物質、包装材料、およびエネルギの平均消費量を監視することを含む。 - 特許庁 - As the alignment processing, mechanical processing for giving directivity by forming a directional flaw matching the size of the supermolecular complex on the substrate surface and chemical processing for giving directivity to chemicals applied to the substrate surface are available.
配向処理は、超分子複合体の寸法に見合った方向性のあるキズを基板表面につけ方向性を与える機械処理、基板表面につけた化学薬品に方向性を与える化学処理がある。 - 特許庁 - This photographic system comprises a chemical photographic processing control system, having a chemical processing part for developing chemically processed photographic materials and a digital processing system, having a digital device implementing color management by a computer for managing the color operations of the digital device.
本発明に係る写真システムは、化学的に処理された写真材料を現像する化学処理部を備えた化学写真処理制御システムと、デジタル装置の色操作を管理する、コンピュータにより色管理を実行するデジタル装置を有するデジタル処理システムとから成る化学デジタル統合型写真システムである。 - 特許庁 - To provide cleaning processing method and apparatus capable of suppressing the amount of consumption of a chemical agent by efficiently supplying the chemical agent to a surface of a substrate, and a cleaning processing method capable of reducing cleaning marks (watermarks) generated in the surface of the substrate.
薬剤を効率的に基板表面に供給することでその消費量を抑制することができる洗浄処理方法および装置、ならびに基板の表面に発生する洗浄痕（ウォーターマーク）を低減することが可能な洗浄処理方法を提供すること。 - 特許庁 - The glass substrate is immersed in a chemical processing solution, which is replaced with a new chemical processing solution before its quality is degraded by the increase in the number of reaction products, and a part or the whole of the surface of the substrate is processed at a polishing velocity of 10 μm/min or less.
ガラス基板を化学加工液に浸漬し、反応生成物の増加により品質が劣化する前の化学加工液を新たな化学加工液に交換すると共に、ガラス基板表面の一部または全部を１０μｍ／分以下の研磨加工速度で加工する。 - 特許庁 - The substrate processing apparatus is provided with a spin chuck 1 for rotating a wafer W by holding it almost in the horizontal state, a first chemical liquid as the processing liquid for the front surface of the wafer W held with this spin chuck 1, and a moving nozzle 2 for supplying a second chemical liquid and the pure water.
ウエハＷをほぼ水平に保持して回転させるためのスピンチャック１と、このスピンチャック１に保持されたウエハＷの表面に処理液としての第１薬液、第２薬液および純水を供給するための移動ノズル２とが備えられている。 - 特許庁 - To provide a method and a device by which toxic chemical substance or a waste material containing the chemical substances or contaminated with the chemical substances can be decomposed into nontoxic substance under milder conditions than those of conventional processing techniques without discharging any harmful compounds into the environment during processing.
毒性を有する化学物質、この化学物質を含むか又はこの化学物質により汚染された廃棄物を、従来の処理技術よりももっと穏やかな条件の下で、しかも処理の過程で有害な化合物を一切環境中に排出することなしに、無毒な物質にまで分解することのできる方法、及び装置の提供すること。 - 特許庁 - In the liquid processing method, the chemical and rinse liquid are supplied to a workpiece and processing is performed through the multiple valve 10 provided with a chemical supply valve 11a, a rinse liquid supply valve 12a and a discharge valve 11b and a washing liquid supply pipe 5 for guiding the chemical C and the rinse liquid R through the multiple valve 10 to the workpiece W.
液処理方法は、薬液供給バルブ１１ａと、リンス液供給バルブ１２ａと、排出バルブ１１ｂを有する多連バルブ１０と、多連バルブ１０を経た薬液Ｃおよびリンス液Ｒを被処理体Ｗに向かって案内する洗浄液供給管５を介して、被処理体に薬液およびリンス液を供給して処理する。 - 特許庁 - The processing method for a chemical-less negative lithographic printing plate is characterized in that a chemical-less negative lithographic printing plate including a hydrophilic layer, an image forming layer containing a photosensitive polymer, and an over layer, at least in this order on a plastic film substrate is subjected to a developing process with a chemical-less processing liquid in the presence of a chelating agent.
プラスチックフィルム支持体上に、親水性層と、感光性ポリマーを含有する画像形成層、更にオーバー層を少なくともこの順に有するケミカルレスネガ型平版印刷版の処理方法において、ケミカルレス処理液による現像処理をキレート剤の存在下で行うことを特徴とするケミカルレス平版印刷版の処理方法。 - 特許庁 - In the rustproof-processing method of a heat exchanger, the heat exchanger which is flux-brazed by the Nocolock (R) brazing method is subjected to surface treatment with lithium treatment liquid of ≥pH7 containing lithium, subjected to cerium chemical conversion treatment with solution of cerium chemical conversion treatment of pH1.5-3 containing cerium, and thereafter, subjected to zirconium chemical conversion with solution of zirconium chemical conversion treatment of pH3-5 containing zirconium.
ノコロックろう付け法によりフラックスろう付けした熱交換器を、リチウムを含有するｐＨ７以上のリチウム処理液で表面処理した後、セリウムを含有するｐＨ１．５〜３のセリウム化成処理液でセリウム化成処理し、その後、ジルコニウムを含有するｐＨ３〜５のジルコニウム化成処理液でジルコニウム化成処理する熱交換器の防錆処理方法である。 - 特許庁 - A substrate wet cleaning apparatus 100 comprises a chemical bath consisting of an inner chemical bath 101 in which chemicals for substrate processing are contained and an outer chemical bath 102, a heating part installed within the inner chemical bath 101 and comprising a heating body 155 and a housing 150 that houses the heating body 155, and an inactive gas filled in the housing 150.
基板湿式洗浄装置１００は、基板処理用ケミカルが収容される内部薬液槽１０１と外部薬液槽１０２からなる薬液槽と、内部薬液槽１０１内に設置され、加熱体１５５及び該加熱体１５５を収容するハウジング１５０を備える加熱部と、ハウジング１５０内に充填された不活性ガスとを備える。 - 特許庁 - The liquid processing apparatus includes a supporting portion 50 to support the body portion 91 of the substrate 90, a chemical liquid supply mechanism 1 to supply a chemical liquid to the substrate 90 supported by the supporting portion 50, and a rinsing liquid supply mechanism 10 to supply a rinsing liquid R to the substrate 90 to which the chemical liquid has been supplied by the chemical liquid supply mechanism 1.
液処理装置は、被処理体９０の本体部９１を支持する支持部５０と、支持部５０によって支持された被処理体９０に薬液を供給する薬液供給機構１と、薬液供給機構１によって薬液が供給された後の被処理体９０に、リンス液Ｒを供給するリンス液供給機構１０と、を備えている。 - 特許庁 - If accidental mixing of first, second and third chemical liquids may be caused in a processing chamber 2 in such a case that the supply of the first chemical liquid to the substrate is followed by the supply of the second chemical liquid, the valve is prohibited from being newly opened.
そして、基板に対する第１薬液の供給に引き続いて、基板に第２薬液が供給されることになる場合など、処理室２内などで第１薬液、第２薬液および第３薬液の相互間の混触を生じることになる場合には、そのバルブの新規開成が禁止される。 - 特許庁 - The molded article 17 of the chemical heat storage material is produced by a method for producing the molded article 17 of the chemical heat storage material comprising a preparation step for preparing a mixed material by mixing the particles 15 of the chemical heat storage material with the resin and a heat processing step for forming the porous material 14 of the resin by heating the mixed material.
化学蓄熱材粒子１５と樹脂とを混合して混合材料を調製する調製工程と、前記混合材料を加熱して前記樹脂の多孔質体１４を形成する熱処理工程と、を有する化学蓄熱材成形体１７の製造方法により製造される。 - 特許庁 - To provide a chemical treatment device comprising a processing- chemical nozzle, without increasing dispersion of air convolution, flowing down position, and range, and reducing the intensity of an impact shock impact against an object to be processed by relaxing flow rate of the treat chemical which flows down.
本発明の目的は、空気の巻込みや流下位置及び範囲のばらつきを増加させることなく、流下される処理液の流速を緩和し処理液が被処理物に当たるときの衝撃の強さを軽減させる処理液ノズルを備えた薬液処理装置を提供することである。 - 特許庁 - A retrieval processing part 34 retrieves the agricultural chemical/pest database data 41 through a data read/write processing part 32 based on selection data or retrieval conditions to be inputted from an input processing part 33, and outputs a retrieval result to a picture data generation processing part 35.
検索処理部３４は、入力処理部３３から入力される選択データや検索条件等を基に、データリード／ライト処理部３２を介して、農薬・病害虫データベースデータ４１を検索し、検索結果を画面データ生成処理部３５に出力する。 - 特許庁 - To provide a liquid separating device having a high processing ability in terms of quantity capable of separating a machining lubricant oil from a water soluble lubricant oil without resorting to any particular chemical/electrical processing.
特別な化学的・電気的処理を施すことなく、切削用潤滑油と水溶性潤滑油の分離について量的処理能力の高い液体分離装置を提供する。 - 特許庁 - To successively perform different processings, such as chemical processing and rinsing processing accompanying it, by one device (one bath) and to collect and effectively reuse chemicals, etc.
例えば薬液処理とそれに伴うリンス処理等の異なる処理を１つの装置（１バス）で連続して行うことができ、しかも薬液等を回収してより有効に再使用できるようにする。 - 特許庁 - To provide a method and an equipment for processing a substrate which enable to suppress the decline in productivity by shortening the time required for processing with a chemical, and also enable to remove particles efficiently.
薬液による処理時間を短縮し生産性の低下を抑制しつつパーティクルを効率的に除去することが可能な基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - Operator terminals are disposed in work sites of a chemical plant, and a central processing part for administering each work site is installed in a center.
化学プラントの作業現場に担当者用端末を、中央に各作業現場を統括する中央処理部が設けられている。 - 特許庁 - A mounting means is so constituted that a cartridge is mounted freely detachably at the negative processing chemical supplying machine by the mounting means.
カートリッジが取付手段によって原板処理薬品供給機に着脱自在に取り付けられるように、取付手段が構成される。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method and apparatus, which sufficiently processes a substrate surface while a usage of chemical is suppressed.
薬液の使用量を抑えつつ基板表面を良好に処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - For the chemical processing, two types which are a wet and a dry type are available and the glass substrate 4 is washed and directionally dried with an air knife by the wet type.
化学処理は、湿式と乾式の２方式があり、湿式はガラス基板４を洗浄し、エアナイフで方向性をつけて乾かす。 - 特許庁 - To make an operation interactive and to get results of chemical processing calculation, weight calculation and estimation connected.
作業を対話形式で進めることができ、かつ、化工計算、重量の算出、見積り等の結果を連動させることができるようにする。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
