「Chemical Processing」を含む例文一覧(726)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 次へ＞- To provide a polishing apparatus, capable of efficiently carrying out a mirror finish processing that needs to be kept from becoming wetted, even while performing cleaning and cooling for maintaining cleanness by removing chips produced during grinding (polishing) processing from the periphery of a work even in polishing processing by a mechano-chemical grinding means and for cooling to prevent frictional heat from accumulating and overheating.
メカノケミカル研削手段による鏡面仕上げ加工であっても、研削（研磨）加工に伴って発生する切粉等をワークの周辺から除去して清浄に維持し、かつ摩擦熱が蓄積して過熱しないように冷却する洗浄冷却しながらも、水濡れを嫌う性質の鏡面仕上げ加工を効率良くできるようにした鏡面仕上げ装置を提供する。 - 特許庁 - The electro-chemical deposition system generally includes: a mainframe having a mainframe wafer transfer robot; a loading station disposed so as to contact with the mainframe; one or more processing cells disposed so as to contact with the mainframe; and an electrolyte supply connected to the one or more processing cells with fluid.
電気化学堆積システムは、通常、メインフレーム・ウェーハ移送ロボットを有するメインフレームと、前記メインフレームに接するように配置されたローディング・ステーションと、前記メインフレームと接するように配置された一つ以上の処理セルと、および前記一つ以上の電気処理セルに流体で接続された電解液供給とを具備する。 - 特許庁 - To provide a development processing method of photosensitive planographic printing plate that improves development unevenness of a photosensitive planographic printing plate provided with a hydrophilic layer on a plastic film support, improves development unevenness even when a photosensitive layer capable of chemical-less processing is especially provided on the hydrophilic layer and achieves an excellent plate life.
プラスチックフィルム支持体上に親水性層を設けた感光性平版印刷版の現像ムラを改善し、特に該親水性層上にケミカルレス処理が可能な感光層を設けた場合においても、現像ムラが改善され、且つ優れた耐刷性が得られる感光性平版印刷版の現像処理方法を提供する。 - 特許庁 - The hydrofluoric acid is supplied from the chemical liquid nozzle 2 onto the surface of the wafer W in a rotating state with the spin chuck 1 to execute the processing using the hydrofluoric acid, and then, the dilute hydrochloric acid is supplied from the rinse liquid nozzle 3, thereby executing the rinse processing for washing away the hydrofluoric acid adhering on the surface of the wafer W.
スピンチャック１による回転状態のウエハＷの表面に対して、薬液ノズル２からふっ酸が供給されて、そのふっ酸による処理が施された後、リンス液ノズル３から希塩酸が供給されることにより、ウエハＷの表面に付着しているふっ酸を洗い流すためのリンス処理が行われる。 - 特許庁 - In a substrate processor 100, which has a chemical processing part 102, a rinsing part 103, a final rinsing part 104 and a drier part 105 and wherein transfer of a substrate 9 between these processing parts is carried out by a transfer robot, a transfer line extended from the final rise part 104 to the drier part 105 is made hermetically sealable with a cover 108.
薬液処理部１０２、リンス部１０３、最終リンス部１０４および乾燥部１０５を有し、搬送ロボット１０７がこれらの処理部間の基板９の搬送を行う基板処理装置１００において、最終リンス部１０４から乾燥部１０５に至る搬送経路をカバー１０８により密閉可能とする。 - 特許庁 - To provide a processing method for a lithographic printing plate having a hydrophilic layer and an image forming layer formed on a plastic film substrate, by which a non-image part is easily removed by use of a chemical-less processing liquid to which an alkaline agent is not added, and printing contamination caused by insufficient removal is eliminated.
プラスチックフィルム支持体上に親水性層、画像形成層が設けられた平版印刷版の処理方法において、アルカリ剤の添加されていないケミカルレス処理液による非画像部の除去が容易で、除去が不十分な事による印刷汚れが発生しない平版印刷版の処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a piezoelectric element that realizes a stable ramen mode vibration by processing an LQ2T-cut crystal substrate having a crystal azimuth, which have had difficulty of processing such as punching by a chemical etching method, to have a prescribed shape with high accuracy in a short time and to provide a manufacturing method for the piezoelectric element.
化学的エッチング方法では打ち抜き等の加工が困難とされていた水晶の結晶方位を有するＬＱ２Ｔカット水晶基板に対して、短時間に精度よく所定形状に加工することにより、安定したラーメモード振動を実現する圧電素子及びこの圧電素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - In the method of measuring the lifetime of a silicon wafer by a microwave light electric conductive vibration decay method, the electric charge charged on the silicon wafer surface is maintained in the fixed state by performing chemical passivation processing so as to control surface recombination.
シリコンウェーハをマイクロ波光導電減衰法によりライフタイムを測定する方法において、表面再結合を抑制するためにケミカルパシベーション処理し、シリコンウェーハ表面に帯電した電荷を一定状態に維持する。 - 特許庁 - To provide an inexpensive chromate-free coating plated steel sheet, which does not contain hexavalent chromium high in environment load property and is remarkably excellent in designability (tinting and hiding power including a processing section), moisture resistance, corrosion resistance, processabilities, scratch resistance, chemical resistance, etc.
環境負荷性の高い６価クロムを含まず、意匠性（加工部を含む着色性、隠蔽性）、耐湿性、耐食性、加工性、耐傷付き性、耐薬品性等に極めて優れた安価なクロメートフリー塗装めっき鋼板を提供する。 - 特許庁 - To provide a wet processor which prevents a re-adhesion due to a fact that a chemical liquid or a waterdrop adhered to a cup is dropped to a wafer by an air flow caused by a high-speed rotation in drying, and carries out a good wafer processing.
乾燥の際の高速回転による空気流れによってもカップに付着した薬液や水滴が、ウエハに滴下して再付着することを防止した、良好なウエハの処理を行うことのできるウエット処理装置を提供すること。 - 特許庁 - On these unit arrangement portions 31 to 34, two or more kinds of processing units chosen from a chemical treatment unit MP, a scrub cleaning unit SS, a polymer removing unit SR, a bevel cleaning unit CB, and a gas phase cleaning unit VP can be arranged.
このユニット配置部３１〜３４には、薬液処理ユニットＭＰ、スクラブ洗浄ユニットＳＳ、ポリマー除去ユニットＳＲ、ベベル洗浄ユニットＣＢおよび気相洗浄ユニットＶＰから選択した２種以上の処理ユニットを配置できる。 - 特許庁 - To solve problems of not meeting future requirements of edge shape and nano-topography and not suited for processing of a wafer of 450 mm in substrate diameter of a double-sided polishing method known in this technical field and performed before a finish CMP (Chemical Mechanical Polishing) polishing.
当該技術分野で公知の仕上げのＣＭＰ研磨の前の両面研磨法は、エッジ形状およびナノトポグラフィーの将来的な要求を満たさず、且つ基板直径４５０ｍｍを有するウェハの加工に適していない。 - 特許庁 - Chemical substances can be efficiently decomposed into nontoxic substance under much milder conditions (at 400 to 600°C) than those of conventional processing techniques without discharging any harmful compounds into the environment during the process.
従来の処理技術よりももっと穏やかな条件（４００〜６００℃）の下で、しかも処理の過程で有害な化合物を一切環境中に排出することなしに、化学物質を無毒な物質にまで効率的に分解することができる。 - 特許庁 - This method for producing the rice cracker comprises including in rice cracker modified starch obtained by using together for tapioca starch a chemical processing treatment by crosslinking and a treatment of sodium hypochlorite with effective chlorinity of 300-1,000 ppm.
米菓の製造に際し、タピオカ澱粉に架橋による化工処理と３００〜１０００ｐｐｍの有効塩素量の次亜塩素酸ソーダ処理とを併用処理することにより得られた化工澱粉を米菓に含有させる方法。 - 特許庁 - In addition, since the ridge structure is self-assembled and self-aligned, a lesser number of processing steps are required to create the optical device in comparison to the known approach that uses wet chemical etching techniques to form the ridge structure.
更に、このリッジ構造は自己集合・自己整合型であるので、リッジ構造を形成するために湿式化学エッチング技法を使用する公知のアプローチと比較して光デバイスを作り出すために必要とされる処理ステップの数は少ない。 - 特許庁 - Thus, the tops and bottoms of the gel pieces 4 are contained in the space between a top surface 16 with grid-like holes and a bottom surface 26, and the following chemical processing operations are done in the condition where the gel pieces 4 are held in the space.
これにより、ゲル小片４は上下を格子状の穴のあいた頂面１６と底面２６の間の空間に閉じ込められるので、後の化学処理の工程はゲル小片４をこの空間に保持した状態で行なう。 - 特許庁 - The surface of an embedded implement is applied with a hydrophilic treatment by using a chemical processing such as electrical discharge machining such as plasma treatment, corona discharge, light radiation such as ultraviolet ray or the like, oxidation decomposition by an oxidizing agent, coating by hydrophilic material or the like.
プラズマ処理やコロナ放電などの放電加工，紫外線等の光照射，酸化剤による酸化分解などの薬剤処理，親水性物質でのコーティング等を利用して埋設器具の表面を親水性処理する。 - 特許庁 - To provide a chemical processing apparatus for negative spread corona discharge plasma which efficiently treats the large amount of gas by sharply making a corona discharge space vast through improving the structure or the like of negative discharging electrode of negative spread corona.
負極性負スプレッドコロナ放電極の構造などを改善してコロナ放電空間を大幅に広大化して大流量のガスを高効率で処理する負極性スプレッドコロナ放電プラズマ化学処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device that prevents the occurrence of chemical contamination in each space without increasing the size of an air supplying means at the time of supplying chemically-controlled air to a plurality of spaces provided in the substrate treating device.
基板処理装置内の複数の空間にケミカル制御されたエアーを供給する際に、エアー供給手段のサイズを増大させることなく、各空間でのケミカル汚染を防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To easily provide a decorative sheet having flexibility more excellent than that of a conventional polypropylene decorative sheet while having abrasion resistance, scratch resistance, weatherability, chemical resistance and the like, hard to cause whitening or cracking at bending processing and excellent in design properties.
耐磨耗性、耐傷性、耐候性、耐薬品性等を有しつつ、従来のポリプロピレン化粧シートより優れた柔軟性を有し、折り曲げ加工時に白化や割れが生じにくく、かつ意匠性の優れた化粧シートを容易に提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a floor material having a cork layer as an upper layer and the composite floor material obtained thereby and to form a protective film on the surface of the cork layer at the time of molding processing to enhance the chemical resistance and gloss of the cork layer at the same time.
上層の表面にコルク層を有する床材の製造方法とそれによって得られる複合床材であって、成形加工時、コルク層の表面に保護膜を形成して耐薬品性と光沢とを同時に向上させる。 - 特許庁 - Since chemical is directly discharged on a wafer W from a container 15, it is not necessary to arrange the units such as a pump, a filter and an air operation valve at every type of processing liquid, and the number of the units can be reduced.
容器１５から直接ウェハＷ上にその薬液を吐出させるようにしているので、ポンプ、フィルタ、エアオペバルブ等の機器類を処理液の種類ごとに備える必要がなくなり機器点数を削減することができる。 - 特許庁 - The substrate processing equipment is provided with the etching equipment in which a semiconductor substrate is held by a maintenance portion and a semiconductor layer of the substrate is etched with chemical, and a film thickness measuring apparatus for measuring film thickness of the semiconductor layer of the substrate.
半導体基板が保持部に保持され、化学薬液によってこの半導体基板の半導体層をエッチングするエッチング装置と、この半導体基板の半導体層の膜厚を測定する膜厚測定装置と、を備える。 - 特許庁 - The system comprises a plate imaging bed 2 for irradiating a printing plate with radiation light, the bed being provided with an input section for receiving a printing plate and an output section for transferring the printing plate to a chemical processing unit.
システムは、印刷版に放射光を照射するための刷版画像形成ベッドを備え、ベッドは、印刷版を受け取るための入力領域および印刷版を化学的処理ユニットへ搬送するための出力領域を備える。 - 特許庁 - To provide a method and device for eliminating the conventional drawback of a chemical vapor deposition that a vaporized metal film is deposited on an insulating member in a processing chamber to degrade insulation to reduce instability of the plasma.
化学蒸着において、処理室内部の絶縁部材に蒸着金属のフィルムが蒸着して絶縁性を悪化し、プラズマのあって性を低下させるという従来の欠点を解消する方法および装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a decorative sheet which has appropriate flexibility, wear resistance, scuff resistance and chemical resistance, and at the same time, exhibits heat resistance of ≥90°C and excellent after-processing characteristics, and furthermore, excellent design properties by using a material except polyvinyl chloride resin.
塩化ビニル樹脂以外の材料を用いて、適度な柔軟性、耐磨耗性、耐傷性、耐薬品性を有しつつ、９０℃以上の耐熱性と曲げ等の後加工性に優れ、なおかつ意匠性にも優れた化粧シートを提供する。 - 特許庁 - To obtain an imaging optical device in which flare-cut processing by chemical etching is not required on the peripheral face of a graded index rod lens, thereby, the lens diameter can be made uniform and decrease in resolution due to flare light can be prevented.
屈折率分布型ロッドレンズの外周面に、化学エッチングによるフレアカット加工処理を施す必要がなく、そのためレンズ径の均一化を図ることができるし、フレア光による解像度低下も防止できるようにする。 - 特許庁 - To provide a regenerating process system for a color filter substrate, capable of increasing facility efficiency, reducing an amount of chemical liquid required for a regenerating process by a processing device exclusive for regeneration, and preventing cracks or the like in a substrate during a process exclusive for regeneration.
設備効率を上げ、再生専用処理装置による再生処理に要する薬液の削減と再生専用処理時の基板の割れ等の発生を防ぐことを可能とするカラーフィルタ用基板の再生処理システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for producing deinked pulp of printed wastepaper, which has a cleaning process in a post-processing of an ink-release process, significantly reduces the used amount of an alkaline chemical and has slight unreleased ink.
インキ剥離工程の後工程に洗浄工程を有する、印刷古紙の脱インキパルプの製造方法において、アルカリ性薬品の使用量を大幅に削減した上で、未剥離インキの少ない脱インキパルプ製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and method capable of preventing the occurrence of downtime in replacing chemicals in a reservoir tank, and maintaining the temperature of a chemical to be supplied to a substrate at a constant exact time.
貯留槽内の薬液の交換時におけるダウンタイムの発生が防止され、かつ基板に供給される薬液の温度を正確に一定に保つことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁 - This golf club shaft formed by laminating a plurality of carbon fiber reinforced resin layers includes at least one metal sheet layer, and the metal sheet layer is composed of a metal sheet performed with chemical etch processing.
炭素繊維強化樹脂層を複数積層してなるゴルフクラブシャフトであって、金属シート層を少なくとも１層含んでなり、金属シート層はケミカルエッチング処理された金属シートにより構成されていることを含む、ゴルフクラブシャフト。 - 特許庁 - DATA PROCESSING METHOD AND DEVICE FOR CALCULATING CHEMICAL SUBSTANCE DISCHARGING QUANTITY OR THE LIKE AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM WITH ITS PROGRAM RECORDED
化学物質排出量等算出計算のためのデータ処理方法、化学物質排出量等算出計算するプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体、および化学物質排出量等の算出計算処理装置 - 特許庁 - To provide a chemical mechanical polishing (CMP) device which can reduce a Cu dishing quantity while ensuring a high polishing rate, by maintaining a high temperature at an initial stage of CMP processing, and then intentionally lowering a wafer temperature immediately before the completion of polishing.
ＣＭＰプロセス初期においては高温を維持し、研磨終了直前にウエハ温度を意図的に下げることで、高い研磨レートを維持したままＣｕのディッシング量を低減することができるＣＭＰ研磨装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a coated steel plate superior in bending processability, press processability, coating adhesion properties after processing, solvent resistance, chemical resistant, stain resistance, weather resistance, electrical conductivity and corrosion resistance, and having good surface appearance and sufficient coating hardness.
特に、曲げ加工性、プレス加工性、加工後塗膜密着性、耐溶剤性、耐薬品性、耐汚染性、耐候性、導電性および耐食性に優れ、良好な表面外観と十分な塗膜硬度をもつ塗装鋼板を提供する。 - 特許庁 - When a decision is made that the concentration of chemical contaminants measured by the contaminant concentration sensor 17 exceeds the specified level, the controller 21 supplies clean air stored in the clean air storage tank 19 to the wafer processing chamber 11.
また、制御装置２１は、汚染物質濃度センサ１７が測定した化学汚染物質の濃度が所定値を超えていると判定すると、清浄空気貯留タンク１９に貯留されている清浄な空気をウェハ処理室１１に供給する。 - 特許庁 - To provide an electro-chemical deposition system which is designed with a flexible architecture expandable to accommodate future designs and gap fill requirements and to provide satisfactory throughput to meet the demands of other processing systems.
本発明は、将来の設計および隙間を埋める必要性に対応するために拡張可能である、柔軟な構造で設計された電気化学堆積システムを供給し、および他の処理システムの要求に見合うための、十分な処理量を供給する。 - 特許庁 - To provide a tempered glass which has, when manufacturing a glass plate, the surface strengthened to such an extent that the processing efficiency after glass formation is not affected and the glass surface before chemical strengthening is not easily scratched, and to provide a method for manufacturing the tempered glass.
ガラス板の製造の際に、ガラス成形後の加工処理の効率に悪影響を与えず、化学強化する前のガラス表面に傷が付き難い程度にガラス表面が強化された強化ガラスと、この強化ガラスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The rosin-originated curing agent may be a product formed of a turpentine oil extracted by using a pine resin as a raw material, or a rosin (natural resin) consisting essentially of abietic acid, for example, a product obtained by subjecting the rosin to processing (hydrogenation or chemical modification).
このロジン由来硬化剤としては、松脂を原料として抽出されるテレビン油やアビエチン酸を主体とするロジン（天然樹脂）から成るものが挙げられ、例えばロジンに加工（水素添加や化学変性）を施して得られるものが適用できる。 - 特許庁 - The chemical processing solution contains hydrofluoric acid and at least one inorganic acid selected from among hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, and nitric acid and/or a reattachment prevention agent to prevent the reattachment of the reaction products on the surface of the glass substrates.
化学加工液は、フッ酸、並びに塩酸、硫酸、リン酸および硝酸から選ばれる１種以上の無機酸、及び／又は、ガラス基板表面に反応生成物が再付着することを防止する再付着防止剤を含有する液が使用される。 - 特許庁 - To obtain an electro-chemical deposition system which is designed with a flexible structure which is expandable so as to meet future design rules and gap filling requirements and which provides satisfactory throughput to meet the needs of other processing systems.
将来の設計上の規則やギャップを充填する要求に適合するように拡張することが出来る柔軟性ある構造で設計され、また他の処理システムの要求に合う満足なスループットを供給する電気化学堆積システム。 - 特許庁 - To provide a triarylamine polymeric compound excellent in durability against mechanical and chemical actions in repeated processes of electric charge, exposure, development, transfer and cleaning in the electrophotographic processing, and a highly durable photoreceptor using the polymeric compound.
電子写真プロセスにおいて、帯電、露光、現像、転写、クリーニングの反復過程における機械的・化学的作用に対する耐久性に優れるトリアリールアミン高分子化合物、該高分子化合物を用いた高耐久な感光体を提供する。 - 特許庁 - Also, the physical phenomenon or the chemical phenomenon to be a detection object is the potential of each part of the biological sample, and at least one or more amplifier circuits and signal processing circuits 3 are formed on the semiconductor substrate 1.
また、前記検出対象となる物理現象または化学現象が、前記生体試料各部の電位であるとともに、前記半導体基板１に、少なくとも１以上の増幅回路／および信号処理回路３を形成することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a multilayer wiring substrate and its manufacturing method, and a laser drill device for removing dross generated in a hole opening end for via hole formation by means of laser drill processing, without having to use special processes such as physical polishing and chemical polishing.
ビアホール形成用の孔開口端に発生するドロスの除去を物理研磨や化学研磨等の専用工程を用いることなくレーザードリル加工で行う多層配線基板及びその製造方法、並びにレーザードリル装置を提供する。 - 特許庁 - The processing method for the inner layer circuit board used for the multilayer printed board includes a process of roughing by blast the surface of a copper circuit formed on the inner layer circuit board, and consecutively roughing by immersion the surface of a copper circuit using a chemical roughing solution.
多層プリント配線板に用いられる内層回路基板の処理方法において、内層回路基板に形成された銅回路表面をブラスト粗化、続いて化学粗化液により浸漬粗化する工程を有する内層回路基板の処理方法。 - 特許庁 - To provide a thermoplastic polyamide elastomer flame retardant resin composition and its moldings having high flame retardancy and antistatic properties, and excellent in molding and processing properties such as mold release properties, hydrolysis resistance and chemical resistance such as solvent crack resistance, while maintaining mechanical properties.
機械的特性の低下なく、成形離型性の如き成形・加工性、成形物の耐水性、耐加水分解性、耐溶剤クラック性の如き耐薬品性に優れた熱可塑性ポリアミドエラストマー難燃性樹脂組成物及びその成形体を提供すること。 - 特許庁 - To provide a film laminated steel sheet having a difficulty in an interlaminar release in an interface between a film and the steel sheet, excellent interlaminar adhesive properties and excellent chemical resistance in the case of secondarily processing such as bending, curling or the like and a container made of this film laminated steel sheet.
曲げ、カーリング加工などの２次加工を行う際に、フィルムと鋼板との界面で層間剥離が起こり難く層間密着性に優れ、耐薬品性にも優れたフィルム積層鋼板、およびこのフィルム積層鋼板製の容器を提供すること。 - 特許庁 - A photoresist composition is especially useful for chemical amplification type photoresist compositions, and can suitably be used for wide uses such as fine processing of semiconductors, liquid crystals, the production of circuit boards for thermal heads and the like, and other photofabrication processes.
フォトレジスト組成物は、特に、化学増幅型フォトレジスト組成物に有用であり、半導体の微細加工、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程等、広範な用途に好適に利用することができる。 - 特許庁 - Processing gas is exhausted from a CVD(chemical vapor deposition) reactor through a pumping gap 12, where the pumping gap 12 is so structured that its part near an exhaust pump 17 that communicates with a pumping path 13 is set smaller in cross sectional area than that of its other part located on the opposite side.
ＣＶＤリアクタの処理ガスを排出する経路であるポンピングギャップ部１２は、ポンピング流路１３が連通する排気ポンプ１７に近い側とその反対側とでは、断面積が排気ポンプ１７側の方を小さく設定する。 - 特許庁 - To provide a chemical processing method for forming a trivalent chromium chemically processed coating film having excellent heat corrosion-resistance similar to the initial make-up of an electrolytic bath even when metal ions of Zn and Fe or the like are dissolved in a trivalent chromium chemically processing liquid in a step of forming the trivalent chromium chemically processed coating film on zinc or zinc-alloy plating.
本発明は、亜鉛又は亜鉛合金めっき上に３価クロム化成処理皮膜を形成する工程中に、３価クロム化成処理液中にＺｎ及びＦｅ等の金属イオンが溶解した場合においても、建浴初期と同様に加熱耐食性が良い３価クロム化成処理皮膜を得るための化成処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus which supply a chemical to a treatment region of a periphery region of a surface of a substrate and carry out etching removal of disused substances of the treatment region, wherein there is formed a favorable interface of the treatment region and a non-treatment region, formed in the periphery region of the surface by the etching removal.
基板の表面周縁領域のうち処理領域に薬液を供給して当該処理領域の不要物をエッチング除去する基板処理方法および基板処理装置において、当該エッチング除去により表面周縁領域に形成される処理領域と非処理領域の界面を良好なものとする。 - 特許庁
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