Native Metalとは 意味・読み方・使い方

The processing unit is a wet etching unit 14 using a chemical liquid capable of dissolving the native oxide of the metal or a dry etching unit 206 using a gas capable of reducing or etching the native oxide of the metal.例文帳に追加

処理ユニットは、金属の自然酸化膜を溶解可能な薬液を用いたウェットエッチングユニット１４、あるいは、金属の自然酸化膜を還元可能またはエッチング可能なガスを用いたドライエッチングユニット２０６とする。 - 特許庁

The electronic component mounting substrate includes a native substrate 2 in which a wiring pattern 21 formed of a metal thin film is provided on an insulating substrate 22.例文帳に追加

原基板２は、絶縁性基板２２に金属薄膜で形成された配線パターン２１が設けられた電子部品実装基板である。 - 特許庁

Relating to the cellulose catalyst in which the metal catalyst nanoparticle is supported on the surface of the native cellulose fiber and the method of manufacturing the same, the surface area of the surface of the native cellulose fiber is improved through a specified pretreatment, and after forming of defects, the metal catalyst nanoparticle is supported on the surface of the native cellulose fiber.例文帳に追加

天然セルロース繊維の表面に金属触媒ナノ粒子が担持されたセルロース触媒およびその製造方法に関し、特定の前処理を通じて天然セルロース繊維の表面の表面積を向上させ、欠陥を形成した後、前記天然セルロース繊維の表面に金属触媒ナノ粒子が担持する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus includes a processing unit for removing a native oxide of a metal that is formed on the surface of the metal film on a wafer W and polishing units 16 and 17 for performing chemical mechanical polishing of the metal film of the wafer W.例文帳に追加

基板処理装置は、ウェハＷ上の金属被膜の表面に形成された該金属の自然酸化膜を除去する処理ユニットと、ウェハＷの金属被膜を化学機械的研磨する研磨ユニット１６，１７とを備えている。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and apparatus capable of polishing the metal film of a substrate in such a state that a native oxide on the metal film formed on the substrate is removed , and of realizing the uniform planarization of the substrate.例文帳に追加

基板に形成された金属被膜上の自然酸化膜を除去した状態で基板の金属被膜を研磨し、基板の均一な平坦化を実現することができる基板処理方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cellulose catalyst in which a metal catalyst nanoparticle is supported on the surface of a native cellulose fiber, which shows an excellent catalytic reaction activity and enables the production at low costs, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

優れた触媒反応活性を示し、低コストで生産できる、天然セルロース繊維の表面に金属触媒ナノ粒子が担持されたセルロース触媒およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning apparatus that cleans a native oxide film from a metal-containing conductor without changing a (k) value of a circumferential low-k dielectric material on a substrate.例文帳に追加

基板上の周囲の低ｋ誘電材料のｋ値を変化させることなく金属含有導体から未変性酸化物膜を洗浄する基板洗浄装置の提供。 - 特許庁