high temperature depositionとは 意味・読み方・使い方

A low cost H_2 with high thermal conductivity is introduced into a deposition chamber, and a temperature rises.例文帳に追加

製膜室に安価で熱伝導率の高いＨ_２を導入して昇温する。 - 特許庁

The coloring matter has a high decomposition temperature, which is advantageous in various kinds of baking processes and vapor deposition processes.例文帳に追加

また分解温度が高いため、各種ベークプロセスや真空蒸着プロセスにおいて有利である。 - 特許庁

In this regard, the wafer is not carried in under high temperature conditions at the time of film deposition but carried in under conditions where the temperature is lowered by 35-45% as compared with high temperature conditions at the time of film deposition.例文帳に追加

その際、成膜時の高温状況下での搬入はせずに、成膜時の高温状態に比較して３５〜４５％温度を下げた状態でのウェハの搬入が行われる。 - 特許庁

To obtain a film quality equivalent to that when the process temperature is high even when the process temperature is low while allowing high speed and low temperature in a film deposition process, in the ALD deposition process utilizing plasma.例文帳に追加

プラズマを利用して行うＡＬＤ成膜処理につき、成膜プロセスの高速化と低温化とを両立させつつ、プロセス温度が低温の場合でも高温の場合と同等の膜質が得られるようにする。 - 特許庁

To provide heat treatment equipment which can perform temperature control with high precision and high control performance regardless of the temperature region corresponding to each film deposition processing, when a plurality of types of film deposition processing are performed in one heat treatment equipment.例文帳に追加

１つの熱処理装置において複数種類の成膜処理を行う場合に、各成膜処理に対応する温度領域に関わらず、高精度でかつ制御性能が高い温度制御を行うことができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a means capable of attaining low temperature film deposition and high speed film deposition in magnetron sputtering of a dual form for making low temperature film deposition and high speed film deposition compatible, and thereby to obtain various inorganic crystal films being highly functional materials, on organic films at a low temperature and at high speed.例文帳に追加

低温成膜、高速成膜を両立させることができるデュアル形式のマグネトロンスパッタリングにおいて、低温成膜と、高速成膜を達成しうる手段を提供し、これによって有機フィルムの上に高機能性材料である例えば各種無機結晶膜を低温、高速で得ようというものである。 - 特許庁

To provide a film deposition method that uses an AD method to enable a film to be deposited at a relatively high temperature and the formation of a high precision pattern.例文帳に追加

ＡＤ法を用いることにより、比較的高い温度で成膜することができ、且つ、精度の高いパターンを形成できる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To perform deposition with a high gas dissociation efficiency by realizing a high quality film even at a low temperature of a substrate to be processed.例文帳に追加

低い被処理基板温度においても、高品質膜を実現し、高いガス解離効率にて成膜する。 - 特許庁