すず含量計の英語

スズ系及び／又はアミン系触媒の含有割合は、合計して塗料組成物中０．０５〜０．２重量％であることが好ましい。例文帳に追加

The content of the tin-based and/or amine-based catalyst is in total preferably 0.05-0.2 wt.% based on the amount of coating composition. - 特許庁

この負極活物質は、構成元素として、スズとコバルトとニッケルおよびクロムのうちの少なくとも一方と炭素とを含み、炭素の含有量が９．９質量％以上２９．７質量％以下、ニッケルおよびクロムの含有量が０．１質量％以上３．０質量％以下であり、かつスズとコバルトとの合計に対するコバルトの割合が３０質量％以上７０質量％以下である。例文帳に追加

The negative electrode active material contains at least one of tin, cobalt, nickel, and chromium, and carbon as constituting elements. - 特許庁

この負極活物質は、構成元素としてスズとコバルトと炭素とリンとを少なくとも含み、炭素の含有量は９．９質量％以上２９．７質量％以下、リンの含有量は０．１質量％以上２．２質量％以下、スズとコバルトとの合計に対するコバルトの割合は２４質量％以上７０質量％以下である。例文帳に追加

The negative electrode active material contains at least tin, cobalt, carbon and phosphorus as constituent elements, and the content of carbon is made 9.9-29.7 mass%, that of phosphorus is made 0.1-2.2 mass%, the ratio of cobalt to the sum of tin and cobalt is made 24-70 mass%. - 特許庁

無鉛青銅合金を、主成分として銅を８３〜８９重量％、錫を３〜７重量％、亜鉛を４〜１２重量％含有するものとし、さらに０．２重量％以下の鉛を含むその他の成分を合計１重量％以下の不純物として含有するようにした。例文帳に追加

This lead-free bronze alloy contains, as the main components, by weight, 83 to 89% copper, 3 to 7% tin and 4 to 12%-zinc, and further, the other components inclusive of ≤0.2% lead are contained as impurities of ≤1 wt.% in total. - 特許庁

スズを５０質量％以上８５質量％以下、ビスマスを１５質量％以上５０％以下、銅を０質量％を超え１．０質量％以下、リンを０質量％を超え０．１質量％以下の範囲で、但し総ての組成の合計が１００質量％となるように含有することが好ましい。例文帳に追加

The solder preferably contains, by mass, ≥50% and ≤85% tin, ≥15% and ≤50% bismuth, >0% and ≤1.0% copper, and >0% and ≤0.1% phosphorous so that the total of each composition becomes 100%. - 特許庁

スズ含有量が９３原子％以下（０原子％を含まず）のスズ−ガリウム合金に、標準電極電位がガリウムより低い金属元素（例えば、アルミニウム、マグネシウム、シリコン、亜鉛）からなる群から選ばれた少なくとも１種の金属元素を、前記スズ−ガリウム合金基準にて合計量で０．１質量％以上添加してなる水素発生用合金。例文帳に追加

The hydrogen generating alloy comprises a tin-gallium alloy containing 93 atom% or less tin (not inclusive of 0 atom%), and at least one kind of a metallic element selected from a group of metallic elements having lower standard electrode potential than gallium (for example, aluminum, magnesium, silicon, and zinc) in an amount of 0.1 mass% or more with respect to the total volume of the tin-gallium alloy. - 特許庁

アルカリ含有ガラス基板１の表面に、酸化スズを主成分とする下地膜２と絶縁膜３とをこの順に形成したガラス基板であって、酸化スズを主成分とする下地膜２の塩素及びフッ素の含有量が合計で５０ｐｐｍ以下であるディスプレイ用ガラス基板。例文帳に追加

The glass substrate forms an underlayer film 2 based on tin oxide and an insulation film 3 in a given order on the surface of alkali- containing glass substrate 1, and the sum of contents of chlorine and fluorine in the underlayer film 2 based on tin oxide is 50 ppm or less. - 特許庁

有機錫化合物の蒸気と酸素と水蒸気とを含み、有機錫化合物に含まれる錫原子１モルに対し、酸素および水蒸気の合計量が１４モル以上の範囲にある混合ガスを熱分解して、ガラス板上またはガラスリボン上に、酸化錫を主成分とする膜厚４００ｎｍ以上の導電膜を成膜する。例文帳に追加

A conductive film 53 containing, as a main component, tin oxide and having a thickness of ≥400 nm is formed on a glass plate 55 or a glass ribbon by thermally decomposing a gaseous mixture containing the vapor of an organic tin compound, oxygen and steam, wherein the molar ratio of the total moles of oxygen and steam to tin atom contained in the organic tin compound is in the range of ≥14. - 特許庁