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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 専門用語対訳辞書 > めっき液添加剤の英語・英訳 

めっき液添加剤の英語

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Weblio専門用語対訳辞書での「めっき液添加剤」の英訳

めっき液添加剤

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「めっき液添加剤」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 92



例文

めっき液添加剤のカチオン除去装置、及びめっき液添加剤の処理方法例文帳に追加

APPARATUS FOR REMOVING CATION OF PLATING LIQUID ADDITIVE AND METHOD FOR TREATING THE PLATING LIQUID ADDITIVE - 特許庁

めっき添加及びその銅めっき添加を用いた銅めっき並びにその銅めっきを用いた電気銅めっき方法例文帳に追加

ADDITIVE FOR COPPER PLATING, COPPER PLATING LIQUID USING THE ADDITIVE FOR COPPER PLATING AND COPPER ELECTROPLATING METHOD USING THE COPPER PLATING LIQUID - 特許庁

無電解銅めっき添加及びそれを用いた無電解銅めっき例文帳に追加

ADDITIVE FOR ELECTROLESS COPPER PLATING LIQUID, AND ELECTROLESS COPPER PLATING LIQUID USING THE SAME - 特許庁

中の添加濃度が、電解めっき中の添加濃度と同濃度であること。例文帳に追加

The concentration of the additive in the liquid is equal to that of the additive in an electrolytic plating solution. - 特許庁

硫酸銅めっきの有機添加濃度の測定方法及び測定装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING CONCENTRATION OF ORGANIC ADDITIVE IN COPPER SULFATE PLATING LIQUID - 特許庁

PRパルス電解銅めっき添加及びPRパルス電解めっき用銅めっき例文帳に追加

ADDITIVE FOR PR PULSE ELECTROLYTIC COPPER PLATING, AND COPPER PLATING LIQUID FOR PERIODIC REVERSE PULSE ELECTROLYTIC PLATING - 特許庁

例文

好ましくはメッキにカソード分極する添加を加える。例文帳に追加

Preferably, a cathode-polarizing additive is added to the plating liquid. - 特許庁

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「めっき液添加剤」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 92



例文

下記一般式で示される化合物を無電解銅めっき添加として用いる。例文帳に追加

The electroless copper plating liquid uses a compound expressed by general formula (1) as an additive of the electroless plating liquid. - 特許庁

簡易な方法で還元添加時期を知ることができる金めっきを提供する。例文帳に追加

To provide a gold plating liquid in which the adding time of a reducing agent can be known by a simple method. - 特許庁

有機酸塩又は無機酸塩の水溶からなるめっき液添加剤からナトリウムやカリウム等の不要なカチオン成分を除去可能なめっき液添加剤からカチオンを除去する装置を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus for removing cations from a plating liquid additive, with which unnecessary cation components such as sodium ions or potassium ions can be removed from the plating liquid additive comprising an aqueous solution of an organic acid salt or an inorganic acid salt. - 特許庁

基板Wと該基板Wに対して略平行に近接配置されたアノード98で構成されるめっき空間99に金属イオンおよび添加を含有するめっきを満たし、めっき処理中の該めっき空間99内のめっき液添加剤濃度を変化させる。例文帳に追加

A space 99 formed of the substrate W and an anode 98 disposed close to and substantially parallel to the substrate W is filled with plating solution containing metal ion and additives, and the concentration of the additive in the plating solution in the plating space 99 is changed during the plating operation. - 特許庁

めっきに加える添加を薬として供給する場合、気体を巻き込みやすい薬であっても、精確な量の供給ができる添加供給装置の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide an additive feeding device capable of feeding a precise amount of liquid even when the additive to a plating soln. is added in the form of a solution which entraps air easily. - 特許庁

銅を電解めっきする場合は、硫酸銅水溶に消泡として非イオン系界面活性添加した電解を用いる。例文帳に追加

When copper is electroplated, an electrolyte prepared by adding a nonionic surfactant to an aq. copper sulfate soln. as an antifoaming agent is used. - 特許庁

添加及びパーティクル等の不純物を除去した後、メッキの各成分の濃度を測定してメッキ中の不足成分を添加してメッキを再調製する。例文帳に追加

After the impurities such as the additive and the particles are removed, the concentration of each component of the plating liquid is measured and insufficient components in the plating liquid are added to readjust the plating liquid. - 特許庁

例文

消泡として非イオン系界面活性を0.01〜5%添加した電解を用いて電解めっきなどの電解処理を行う。例文帳に追加

An electrolyte admixed with 0.01-5% nonionic surfactant as an antifoaming agent is used to conduct such electrolysis as electroplating. - 特許庁

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「めっき液添加剤」の英訳に関連した単語・英語表現

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