エキシマレーザー照射の英語

そこで、ある一定期間が経過した後に多層膜反射鏡１０２やマスク１０４の表面に、KrＦエキシマレーザー光１０６、１０７の照射を行う。例文帳に追加

After a certain period elapses, irradiation with beams of KrF excimer laser light 106, 107 is performed. - 特許庁

ＡrＦエキシマレーザー発振機５から水平方向に発生されたエキシマレーザー光６は、集光レンズ７を通過した後、ミラー８により下方に反射され、レンズ９、シャッター１０、窓３を介して試料１の表面に照射される。例文帳に追加

An excimer laser light 6 generated horizontally from an ArF excimer laser oscillator 5 is reflected downward by a mirror 8 after passing a condenser lens 7, and shed onto the surface of the sample 1 through a lens 9, a shutter 10 and the window 3. - 特許庁

反射光防止効果が高く、フォトレジストとのインターミキシングを起こさない、ＡｒＦエキシマレーザー及びＦ２エキシマレーザー等の照射光を用いたリソグラフィープロセスにおいて使用できる反射防止膜、及び反射防止膜を形成するための組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide an antireflection film having high reflected light absorbing effects, not causing intermixing with a photoresist, and usable in a lithographic process which uses irradiated light of ArF excimer laser, an F_2 excimer laser or the like, and to provide a composition for forming the antireflection film. - 特許庁

フィルム状樹脂によってカバーシートを形成する前に、紫外線の照射、プラズマの照射、エキシマレーザー照射などの方法により、ケースの内側に対して表面改質処理を行なう。例文帳に追加

Before forming the cover sheet with a film-shaped resin, a surface modifying treatment is carried out on the inner side of a plane of the case by a method such as irradiation with ultraviolet light, irradiation with plasma, irradiation by an excimer laser or the like. - 特許庁

反射光防止効果が高く、フォトレジストとのインターミキシングを起こさず、下部に大きなすそ引き形状を有さないフォトレジストパターンを形成することができ、ＡｒＦエキシマレーザー及びＦ２エキシマレーザー等の照射光を用いたリソグラフィープロセスにおいて使用できる反射防止膜、及び該反射防止膜を形成するための反射防止膜形成組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide an antireflection film which has a high antireflection effect, with which a photoresist pattern having no large footing in the lower part can be formed without causing to intermix with a photoresist, and which can be used for lithographic processes using irradiation light such as an ArF excimer laser and a F2 excimer laser, and to provide a composition for forming the antireflection film. - 特許庁

オリフィスプレートの吐出口６は、エキシマレーザー４をオリフィスプレートの裏面側から照射して、樹脂基板フィルム１および無電解メッキ層を貫通させることによって形成されている。例文帳に追加

Ejection opening 6 of the orifice plate is formed by irradiating the orifice plate with excimer laser 4 from the rear side and making a hole through the resin substrate film 1 and the electroless plating layer. - 特許庁

揮発性ガスを含有した薄膜にそのパルス幅が６０ナノ秒以上のエキシマレーザーのレーザー光５を照射して該薄膜内の水素などの揮発性ガスを脱ガスする。例文帳に追加

A thin film containing volatile gas is irradiated with excimer laser light 5 having pulse width of 60 nS or longer thus degassing the thin film. - 特許庁

あるいは、揮発性ガスを２原子％以上含有した薄膜にパルス幅が６０ナノ秒以上のエキシマレーザーを照射し、薄膜内の揮発性ガスを脱ガスすると同時に薄膜を結晶化する。例文帳に追加

Alternatively, a thin film containing 2 atm.% or more of volatile gas is irradiated with excimer laser having pulse width of 60 nS or longer thus degassing the thin film while crystallizing. - 特許庁