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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 英和対訳 > エッチレートの英語・英訳 

エッチレートの英語

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英訳・英語 etch rate


Weblio英和対訳辞書での「エッチレート」の英訳

エッチレート

Weblio英和対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「エッチレート」を含む例文一覧

該当件数 : 22



例文

洗浄液のエッチレート及びエッチレートの比が所望の範囲内であるか否かを判定する方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for determining the etching rates of cleaning liquid and whether the ratio between the etching rates is within a desired range. - 特許庁

安定したエッチレートを確保できるエッチング方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide an etching method and an etching apparatus which ensure stable etch rate. - 特許庁

フォーカスリングから酸素を放出させることによって、エッチレートの均一性を改善する。例文帳に追加

To improve the uniformity in an etch rate by discharging oxygen from a focus ring. - 特許庁

次に、エッチング条件として、絶縁膜2より上部電極3のエッチレートが大きい条件を選択する。例文帳に追加

As etching conditions, an etching rate of the upper electrode 3 is larger than that of the insulating film 2. - 特許庁

ドライエッチレートがポリメチルメタクリレートより大きいことを特徴とする半導体装置用平坦化組成物。例文帳に追加

The flattening composition for the semiconductor device is larger in dry etching rate than methylmethacrelate. - 特許庁

エッチレートの違いを利用して少なくとも一部の有機基が除去された部分22のみを選択的にエッチバック除去する。例文帳に追加

At least only a part 22 from which the organic group is removed is selectively etched back using the difference in the etching rate. - 特許庁

例文

溝72のワード線平行方向断面における深さ方向エッチレートR1よりも横方向エッチレートR2が大きい(R1/R2が1より小さい)エッチングガスを用いて、半導体バリ74をドライエッチングにより除去することを特徴とする半導体装置の製造方法。例文帳に追加

The method of manufacturing a semiconductor device removes semiconductor burr 74 by dry etching using an etching gas having a longitudinal direction etching rate R2 larger than a depth direction etching rate R1 (namely, R1/R2 is smaller than 1) in a word line parallel direction cross section of a groove 72. - 特許庁

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「エッチレート」を含む例文一覧

該当件数 : 22



例文

本発明の微細加工処理剤は、フッ化水素と、少なくとも2成分からなり、各成分のアクセプター数が35以下、比誘電率が40以下の溶媒とを含み、高誘電率膜に対する25℃でのエッチレートがシリコン酸化膜に対する25℃でのエッチレートの2倍以上であることを特徴とする。例文帳に追加

The microfabrication processing agent consisting of hydrogen fluoride, at least two components, and a solvent with acceptor number of each component of 35 or less and specific inductive capacity of 40 or less, and etching rate to the high permittivity film at 25°C twice or more than that to the silicone oxide film at 25°C. - 特許庁

石英基板1上に2層のホトレジスト膜2a,2bを形成し、エッチレートが大きく異なるドライエッチング条件を用いることにより、大きなテーパ角の溝10を形成する。例文帳に追加

Two photoresist films 2a, 2b are formed on a quartz substrate 1 and a groove 10 having a large taper angle is formed by using dry etching conditions vastly different from each other in etching rate. - 特許庁

そのドライエッチング処理におけるエッチング終点時間またはエッチレートを測定し、その値に応じて変更された条件でエッチング装置1のエージングを行う。例文帳に追加

An etching completion time or an etching rate is measured in the dry etching treatment to age the etching device 1 in a condition modified in response to the value. - 特許庁

該凹所の壁を画定する物質と相対的に該凹所を充填する物質のエッチレートの選択性が片持ち梁型ビームの自由端部の長さを正確に制御することを可能とさせる。例文帳に追加

The selectivity of the etch rates of the material within the cavity relative to the material defining the walls of the cavity permits accurate control of the length of a free end of the cantilevered beam. - 特許庁

広義の亜臨界状態かつ液体状態の水の,シリコン窒化膜に対するエッチレートが特に大きいことを利用して、窒化膜のみを選択的に除去する工程全般に利用することができる。例文帳に追加

This method can be used entirely for processes of removing nitride films only selectively by utilizing particularly large etch rate for the nitride film of water of a quasi-critical state, in a wide sense besides a liquid state. - 特許庁

沃素ガスをバルブ13を介して装置内に導入できるようにし、沃素ガス雰囲気下で、イオンビーム2の照射条件を加工領域の透過率が高く、エッチレートも低くくなる条件を選ぶ。例文帳に追加

The introduction of gaseous iodine into the device through a valve 13 is made possible, and the conditions under which the transmittance of a processing region is high, and an etching rate is low are selected for the irradiation conditions of an ion beam 2 under a gaseous iodine atmosphere. - 特許庁

エッチレートを確保しつつPFCガスの排出量を削減することができ、しかも生産性の高い半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a semiconductor device with high productivity by reducing the discharged amounts of per fluorocarbon(PFC) gas while maintaining high etching rate. - 特許庁

例文

塗布絶縁膜と、当該塗布型絶縁膜とエッチレートを異にする膜との積層を、従来よりも短時間かつ安価に行うことができる半導体装置及びその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a semiconductor device for inexpensively performing lamination of an application insulating film and a film differing in the etching rate from the application insulating film in a short time, as compared with the conventional cases, and to provide its manufacturing method. - 特許庁

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「エッチレート」の英訳に関連した単語・英語表現

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