ガス密隔壁の英語

導通路１に面してガスの換気を行うように所定の大きさの開口が設けられた隔壁１１を備えた凹状の副室２の内部の、換気によるガスの流れが計測に対して実質的な影響を与えない位置に密度センサ３が設けられている。例文帳に追加

A density sensor 3 is attached to a position, which is located inside a recessed subchamber 2 fitted with a partition wall 11, having an opening of a specified size for performing gas ventilation which faces a flow passage 1, and does not influence measurement practically by the flow of gas by ventilation. - 特許庁

捕集器の隔壁内に排気微粒子が堆積する際の排出ガスの流速によって、隔壁内に堆積した排気微粒子の量や密度が変化し、それにより排気微粒子堆積量と圧力損失とを対応付ける堆積特性の傾向が変化してしまい、排気微粒子堆積量の推定精度が悪化する。例文帳に追加

The amount and the density of the exhaust gas particulates accumulated in a partition are changed by the flow velocity of the exhaust gas when the exhaust gas particulates are accumulated in the partition of a collector, thereby the tendency of the accumulation property corresponding to the exhaust gas particulates and the pressure loss is changed, and consequently the estimation accuracy of the amount of the accumulation of the exhaust gas particulates is deteriorated. - 特許庁

エンジンの排気ガス中に含まれる微粒子を捕集するために、隔壁４８ａ、４８ｂによって多数のセル４７ａ、４７ｂに区画されたフィルタ部材４４は、排気ガスの流れ方向に対して垂直な断面からみて外周部４５と内周部４６とにおいて単位面積当たりのセル密度が変更されるよう構成されている。例文帳に追加

For scavenging particulate contained in engine exhaust gas, a filter member 44 partitioned into two or more cells 47a, 47b by bulkheads 48a, 48b is designed that cell density per unit area can be changed in a periphery 45 and an inner periphery 46 when viewed from a perpendicular cross section to an exhaust gas flowing direction. - 特許庁

上部燃料熱交換器内に、缶体内の外周部に形成された燃料ガス及び水蒸気を周方向に旋回混合させつつ混合ガスにする第１のチャンバー６５と、缶体内の中央部に形成された第２のチャンバー６６とを連通口６１ａを有する隔壁部材６１によって気密的に区画した。例文帳に追加

In the upper part fuel heat exchanger, a first chamber 65 in which the fuel gas and steam formed at the outer peripheral part in the can body are mixed to form a mixed gas while being whirled in the circumferential direction, and a second chamber 66 formed at the center part in the can body are airtightly sectioned by a partition member 61 having a communication port 61a. - 特許庁

投影照射線に対して透明なガスで洗浄しなければならない容積を減少させるために、リソグラフ投影装置は、マスクホルダーおよび基板ホルダーの少なくとも１つを密接に取り囲んでいるが、照明システムあるいは投影システムのいずれかを取り囲んでいない少なくとも１つの隔壁を有している。例文帳に追加

A lithography projection system surrounds at least either of a masking holder or a base plate holder closely and comprises at least one of partitions, which do not surround either a illuminating system or a projection system in order for reduce a transparent gas volume, with which the system must be cleaned for projected radiation. - 特許庁