クロロぎ酸エチルの英語

医薬として有用な［３−［（２Ｒ）−［［（２Ｒ）−（３−クロロフェニル）−２−ヒドロキシエチル］アミノ］プロピル］−１Ｈ−インドール−７−イルオキシ］酢酸の優れた工業的製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an excellent industrial method for preparing [3-[(2R)-[[(2R)-(3-chlorophenyl)-2-hydroxyethyl]amino]propyl]-1H-indol-7-yloxy]acetic acid useful as a drug. - 特許庁

製造方法は、例えば、（−）−（２Ｒ，４Ｓ）−４−（３，５−ビス−トリフルオロメチル−ベンジルアミノ）−２−エチル−６−トリフルオロメチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−キノリン−１−カルボン酸エチルエステル、４−トルエンスルホン酸塩、炭酸ナトリウム、及びクロロギ酸メチルを、テトラヒドロフラン中で、約２０℃〜約２５℃の温度で結合させる。例文帳に追加

The method for producing the same, characterized by, for example, condensing ethyl (-)-(2R,4S)-4-(3,5-bis-trifluoromethyl- benzylamino)-2-ethyl-6-trifluoromethyl-3,4-dihydro-2H-quinoline-1-carboxylate, sodium carbonate, and methyl chloroformate in tetrahydrofuran at a temperature of about 20°C to about 25°C. - 特許庁

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes an alcohol solvent A, and a solvent B made of n-amyl acetate or ethyl acetate or the admixture thereof. - 特許庁

エチル ５−クロロ−３（１Ｈ）−インダゾリルアセテート、インドール酪酸、クロキシホナック、４−ＣＰＡ，ジクロルプロップ、ジベレリン、ダミノジッド、トリネキサパックエチル及びベンジルアミノプリン並びにそれらの塩からなる群から選ばれた１種以上の植物ホルモンを有効成分として含有することを特徴とする、杉及び／又は桧の花芽分化抑制用組成物。例文帳に追加

A composition for suppressing the differentiation of the flower buds of Japanese cedar and/or cypress is provided, containing as active ingredient(s) one or more phytohormones selected from the group consisting of ethyl 5-chloro-3(1H)-indazolyl acetate, indolebutyric acid, cloxyfonac, 4-CPA, dichlorprop, gibberellin, daminozide, trinexapac-ethyl, benzylaminopurine, and salts thereof. - 特許庁

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, and a solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A and made of n-amyl acetate, or ethyl acetate or the admixture thereof. - 特許庁

次式（３）［式中、Ｒ^１はアルキル基、クロロエチル基を表し、Ｒ^２はアルキル基を表す］の化合物のニトロ基を還元することによってアミノ基に変換した後、さらにリン酸エステルおよびカルボン酸エステルを加水分解して脱保護することを含んでなる、D，L−２−アミノ−４−（ヒドロキシメチルホスフィニル）−ブタン酸の製造方法。例文帳に追加

The manufacturing method of D, L-2-amino-4-(hydroxymethylphosphinyl)-butanoic acid comprises reducing a nitro group of a compound represented by formula (3) [wherein R^1 is an alkyl group or a chloroethyl group; and R^2 is an alkyl group] to convert it into an amino group followed by deprotection by hydrolysis of a phosphoric ester and a carboxylic ester. - 特許庁

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, an alcohol solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A, and a solvent C made of n-amyl acetate or ethyl acetate or the admixture thereof. - 特許庁