クロロ酢酸エチルの英語

上記ホウセンカ抽出物は含水メタノール、含水エタノール、メタノール、エタノール、ブタノール、アセトン、酢酸エチル、クロロホルムの中かる選ばれる１種以上を抽出溶媒として得られる。例文帳に追加

The above balsam extract is obtained by using ≥1 kind selected from water- containing methanol, water-containing ethanol, methanol, ethanol, butanol, acetone, ethyl acetate and chloroform as an extracting solvent. - 特許庁

医薬として有用な［３−［（２Ｒ）−［［（２Ｒ）−（３−クロロフェニル）−２−ヒドロキシエチル］アミノ］プロピル］−１Ｈ−インドール−７−イルオキシ］酢酸の優れた工業的製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an excellent industrial method for preparing [3-[(2R)-[[(2R)-(3-chlorophenyl)-2-hydroxyethyl]amino]propyl]-1H-indol-7-yloxy]acetic acid useful as a drug. - 特許庁

例えば、９，１０−ビス〔３，５−ビス（４−ヒドロキシビフェニル）−１−フェニル〕アントラセンを酢酸エチルに溶解させ、クロロホルムを加えて得られる多孔質有機結晶構造を有するアントラセン系有機ゼオライト。例文帳に追加

The anthracene-based organic zeolite has a porous organic crystal structure obtained by dissolving, for example, 9,10-bis[3,5-bis(4-hydroxybiphenyl)-1-phenyl]anthracene in ethyl acetate, and adding chloroform to the resultant solution. - 特許庁

［３−［（２Ｒ）−［［（２Ｒ）−（３−クロロフェニル）−２−ヒドロキシエチル］アミノ］プロピル］−１Ｈ−インドール−７−イルオキシ］酢酸の薬効を発現するに足る量を持続的に投与することができる貼付製剤の提供。例文帳に追加

To provide an adhesive preparation capable of sustainably administering [3-[(2R)-[[(2R)-(3-chlorophenyl)-2-hydroxyethyl]amino]propyl]-1H- indol-7-yloxy]acetic acid in an amount capable of exhibiting the efficacy thereof. - 特許庁

阜康阿魏（学名 Ferula fukanensis K M shen）の根から有機溶媒（例えばメタノール、クロロホルム、酢酸エチル）により抽出することができ、得られた化合物を出発原料として自体公知の方法に従って製造することができる。例文帳に追加

The compound can be prepared through a known process using as a starting material a compound obtained by the extraction of the root of Ferula fukanensis K M shen with an organic solvent (e.g. methanol, chloroform or ethyl acetate). - 特許庁

該有機溶剤としては、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、トルエン、及びアセトンよりなる群から選択されるものであることが好ましい。例文帳に追加

As the organic solvent, one selected from the group consisting of ethyl acetate, acetonitrile, tetrahydrofuran, dichloromethane, toluene and acetone is desirable. - 特許庁

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, and a solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A and made of n-amyl acetate, or ethyl acetate or the admixture thereof. - 特許庁

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, an alcohol solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A, and a solvent C made of n-amyl acetate or ethyl acetate or the admixture thereof. - 特許庁