スクガラスの英語

ラスターミラースキャンを用いてマスクガラスからグレイスケールマスクを製造するとき、マスクガラスで発生する異常を抑制して精度の高い光学部品を製造することができるグレイスケールマスクの製造方法とその製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a gray scale mask and a manufacturing device therefor, by which an optical component with high accuracy can be manufactured while suppressing abnormality occurring in a mask glass upon manufacturing a gray scale mask from a mask glass by use of raster mirror scanning. - 特許庁

ハードディスクガラス基板の加工において、特に加工レート及び仕上げ面粗さの向上に有効な加工特性に優れた研磨スラリー並びに当該研磨スラリーを調製するための研磨用潤滑液組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing slurry having excellent processing properties particularly effective in improving processing rates and finished surface roughness in processing a hard disk glass substrate; and a lubricating fluid composition for polishing for preparing the polishing slurry. - 特許庁

半導体ウェハ及び半導体回路の絶縁膜付き又は金属配線付きウェハ、磁気ディスク、ガラス基板及びその他の板状の被加工物を高平滑に平面加工できる平面研磨装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plane polishing device capable of polishing the surface of a tabular work such as a semiconductor water, a wafer with an insulating film for a semiconductor circuit, or a wafer with a metallic wiring in a highly smooth manner. - 特許庁

フォトレジストやホログラフィに用いられる有機ドライフィルムを光ディスクガラス原盤に約１００ｎｍから５００ｎｍ塗布し、２５７ｎｍＡｒ倍波、２６６ｎｍＹＡＧ第四高調波、３５１ｎｍＡｒレーザ、４１３ｎｍＫｒレーザなどからのＣＷレーザを用いて光ディスク原盤を露光する。例文帳に追加

An organic dry film used for the photoresist or holography is applied at about 100 to 500 nm on an optical glass master disk and the optical glass master disk is exposed by using CW lasers, such as from 257 nmAr times waves, 266 nmYAG quaternary harmonics, 351 nmAr lasers and 413 nmKr lasers. - 特許庁

アルミハードディスク、ガラスハードディスク及びシリコンウエハ等を超精密にポリシングする工具、例えば、ポリシングパッド、不織布等の修正に要する時間を短縮し、被加工物のポリシングレイトの安定化と高品位な仕上げ面を得る。例文帳に追加

To shorten the time required for correcting tools for polishing an aluminum hard disc, a glass hard disc and a silicon wafer, etc., with super-high precision such as a polishing pad and nonwoven fabric, to stabilize a polishing rate of a workpiece, and to provide a high grade finished surface. - 特許庁