スパッタリング蒸着法の英語

真空プロセスは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等である。例文帳に追加

The vacuum process is performed by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method or the like. - 特許庁

レプリカ基板上に、真空蒸着法やスパッタリング法により情報信号部を形成する。例文帳に追加

The information signal part is formed on a replica substrate by a vacuum deposition method or a sputtering method. - 特許庁

アモルファス強磁性合金は、例えば蒸着法或いはスパッタリング法を用いて形成可能である。例文帳に追加

The amorphous ferromagnetic alloy can be deposited by a vapor deposition method or sputtering, for example. - 特許庁

また、ガラス薄膜１０を蒸着法またはスパッタリング法により成膜する。例文帳に追加

Moreover, the glass thin film 10 is formed by using an evaporation method or a sputtering method. - 特許庁

Ｍｇ含有ＩＴＯスパッタリングターゲットおよびＭｇ含有ＩＴＯ蒸着材の製造方法例文帳に追加

MANUFACTURE OF Mg-CONTAINING ITO SPUTTERING TARGET AND Mg-CONTAINING ITO EVAPORATION MATERIAL - 特許庁

両端部が開口されているカーボンナノチューブに、金属をスパッタリング法によって蒸着する。例文帳に追加

A metal is vapor-deposited on a carbon nanotube whose both end parts are opened by a spurring method. - 特許庁

前記多層膜３，４，６，７は、真空蒸着、イオンプレーティング、イオンアシスト蒸着、スパッタリング法で成膜される。例文帳に追加

The multilayer films 3, 4, 6, 7 are deposited with vacuum deposition, ion plating, ion assisted deposition and sputtering method. - 特許庁

スパッタリング法やPLD法はSiO2またはSiOに蛍光体が混ざり合った物質を使用してスパッタリング工程などのターゲットを作って蛍光膜を蒸着するのに使用する。例文帳に追加

The sputtering method and the PLD method are used to deposit the fluorescent film fabricating a target of such as a sputtering process using a substance in which a fluorescent material is mixed with SiO2 or SiO. - 特許庁