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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > JST科学技術用語日英対訳辞書 > スパッタリング現象の英語・英訳 

スパッタリング現象の英語

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英訳・英語 phenomenon of sputtering


JST科学技術用語日英対訳辞書での「スパッタリング現象」の英訳

スパッタリング現象


「スパッタリング現象」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 12



例文

スパッタリング時にスパッタリングターゲット部のクラック不良や割れ不良およびスパッタリングターゲット部の膨張によって回転時にスパッタリングターゲット部が空転する現象を防ぐことができる回転式ターゲットアセンブリを提供する。例文帳に追加

To provide a rotary target assembly capable of improving the defective cracking property of a sputtering target part during the sputtering, and preventing a phenomenon that the sputtering target part runs idle during the rotation by the inflation of the sputtering target part. - 特許庁

パーティクルや異常放電現象の原因となる不純物を低減させると同時に、ハイパワースパッタリング(高速スパッタリング)時においても亀裂や割れの発生がなく、スパッタリング特性を安定させ、成膜時のパーティクルの発生を効果的に抑えることのできる高品質のスパッタリング用チタンターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a titanium target for sputtering having high quality capable of reducing the amount of impurities causing particles or abnormal discharge phenomenon, preventing occurrence of any crack even during the high-power sputtering (the high-speed sputtering), stabilizing the sputtering characteristic, and effectively suppressing generation of particles during the film deposition. - 特許庁

高圧印加式除電器の除電電極である放電電極のスパッタリング現象防止、オゾン発生防止、並びに発光作用防止又真空層内の帯電除去等装置及びその製造方法。例文帳に追加

PREVENTION OF SPUTTERING PHENOMENON OZONE GENERATION, AND LIGHT EMISSION OF DISCHARGE ELECTRODE OR ELECTRICITY REMOVAL ELECTRODE FOR HIGH VOLTAGE APPLYING ELECTRICITY REMOVAL DEVICE OR ELECTRIFICATION REMOVAL DEVICE IN VACUUM LAYER AND ITS MANUFACTURE - 特許庁

この冷陰極では発光中に発生する酸素及び水素の吸着能が向上し、酸化物の生成及びHイオンの発生が抑制されため、仕事関数も上昇することなく、スパッタリング現象も抑制される。例文帳に追加

In this cold cathode, because adsorption ability of oxygen and hydrogen generated during light emission is improved and formation of oxide and generation of H ions are suppressed, work function is not elevated and a sputtering phenomenon is suppressed. - 特許庁

薄膜を構成する物質の相互拡散に起因する汚染物質の抑制及びパーティクルや異常放電現象が生じないスパッタリングターゲット等に有効であるコバルト粉末とその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a cobalt powder effective for a sputtering target which restrains pollutants caused by interdiffusion of substances constituting thin films and does not cause particles or abnormal discharge phenomenon, or the like, and to provide a method for producing the cobalt powder. - 特許庁

従って、中空電極のスパッタリングを防止して平板蛍光ランプの寿命を増加させ、電極部の黒化現象を減少させて発光特性を向上させることができる。例文帳に追加

Thereby, by preventing sputtering of the hollow electrode, and increasing lifetime of the flat plate fluorescent lamp, and reducing a blackening phenomenon of the electrode parts, light emitting characteristics can be improved. - 特許庁

例文

標準試料は、例えばスパッタリングにおける再付着現象を利用して既知の濃度の金属汚染を生じさせることにより作製することができる。例文帳に追加

The standard sample can be prepared by generating metal contamination having a known concentration, for example, by utilizing re-adhering phenomenon in sputtering. - 特許庁

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「スパッタリング現象」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 12



例文

安定化処理段階でのスパッタリングの発生を極力抑止し、もって商品出荷前の放電管内面の黒点・黒化現象を可能な限り避け、放電管寿命を延ばし、商品価値を高めることにある。例文帳に追加

To enhance the commodity value of a cold cathode discharge tube by deterring occurrence of sputtering in the processing stage for stabilizing the cold cathode discharge tube to the utmost and, as a result, by avoiding the black spot and a blackening phenomenon on the inner surface of a discharge tube before the shipping of commodity as much as possible and by lengthening the life of the discharge tube. - 特許庁

積層薄膜を構成する物質の相互拡散に起因する汚染物質の抑制、及びスパッタリングによる成膜に際しては、異常放電現象やパーテイクルを極力制限することができるターゲット等に使用できる高純度チタン及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To produce high purity titanium used for a target or the like capable of suppressing contaminated materials caused by the mutual diffusion of materials composing a laminated thin film, and of limiting an abnormal discharging phenomenon and particles as much as possible in the case of film formation by sputtering and to provide a method for producing it. - 特許庁

基材に印加する高電圧パルスの電圧の立ち下がりが、基材の負荷インピーダンスのために減衰する現象を回避して、基材にスパッタリングなどの損傷が生ずるのを防止し、プラズマイオンの的確な注入と、多様なプラズマ種への対応を図る。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for plasma ion implantation which avoids a phenomenon in that the fall of the voltage of the high voltage pulse applied to a base material is damped by the load impedance of the base material, and in which generation of damages such as sputtering on the base material is prevented, the plasma ion is correctly implanted, and the diversified kinds of plasma are applied to. - 特許庁

半導体基板の裏面研削後にスパッタリング法を含む方法で導電膜を形成する際に、研削時に半導体基板を支持体に固定する接着剤の基板外周部のはみ出した部分から放電現象の発生を防止する。例文帳に追加

To prevent a discharge phenomenon from occurring in grinding at a part where an adhesive agent for fixing a semiconductor substrate onto a supporting body lies off the outer periphery of the substrate, when a conductive film is formed by a method including the sputtering method after grinding a rear face of the substrate. - 特許庁

例文

スパッタリング現象を用いて基板に薄膜、特に絶縁膜を形成する装置において、プラズマ放電の安定維持の実現、およびプラズマ放電の安定性が崩れることによって引き起こされる放電空間内に配置された構成物のエッチングによる不純物の膜中への混入を防止する。例文帳に追加

To realize the stable maintenance of plasma discharge, and to prevent the inclusion of the impurity into the film due to etching of the constituent disposed within the discharge space induced by the collapse of the stability of the plasma discharge, in an apparatus for forming a thin film, in particular an insulated film, on a substrate, using sputtering phenomenon. - 特許庁

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