スパッタリング特性の英語

製造と応用の観点から優れたスパッタリングターゲット特性を有する、多相のＣｏ−Ｃｒ−Ｂ−Ｐｔからなる貴金属磁気スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of fabricating a precious metal magnetic sputtering target comprising multiphase Co-Cr-B-Pt and having enhanced sputtering target characteristics from manufacturing and applications standpoints. - 特許庁

成膜速度が大きく、また、特性に優れた薄膜を形成することのできるマグネトロンスパッタリング装置およびマグネトロンスパッタリングによる薄膜形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a magnetron sputtering system and a method of thin film deposition by magnetron sputtering by which film deposition rate can be increased and a thin film having excellent characteristics can be deposited. - 特許庁

安定して良好な磁気特性分布を持った磁性膜を作製可能なガス導入装置、スパッタリング装置、およびスパッタリング方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a gas introducing apparatus, a sputtering apparatus and a sputtering method, capable of producing a magnetic film having the consistently excellent magnetic characteristic distribution. - 特許庁

ＤＣスパッタリングが可能で、かつデータ書換え時の特性劣化が小さい、高記録密度対応の光ディスクに好適な保護膜用スパッタリング・ターゲット及び光ディスク保護膜の提供。例文帳に追加

To provide a sputtering target for forming an optical disk protecting film, which can be used for DC sputtering, whose characteristics hardly deteriorate, when data are rewritten and which is suitable for an optical disk coping with high recording density, and to provide the optical disk protecting film formed by using the sputtering target. - 特許庁

ＩＺＯスパッタリングターゲットの製造において、ＩＺＯスパッタリングターゲットとしての特性を維持しつつ、工程を削減することにより生産性の向上及び製造コストの低減が可能となる製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of an IZO sputtering target which makes it possible to improve the productivity and reduce the cost by curtailing the processes while maintaining the characteristics as an IZO sputtering target. - 特許庁

ＩＧＺＯスパッタリングターゲットの有する特性を保持したまま、バルク抵抗が低く、密度が高く、粒径がより均一で微細化した組織を持ち、抗折強度が高いスパッタリングターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering target having low bulk resistance, high density, uniform particle size, fine structure, and high flexure strength while keeping the characteristics of an IGZO (InGaO_3 (ZnO)_m) sputtering target. - 特許庁

これにより、簡便なスパッタリング装置を用いながら、陰極のスパッタリングによる不純物混入を防止でき、電子放出特性に優れた陰極を製造できる。例文帳に追加

Thereby, impurity incorporation due to sputtering of the negative electrode can be prevented while using a simple sputtering device, and the negative electrode excelling in an electron emission characteristic can be manufactured. - 特許庁

梱包した状態で保管・運搬し、その後梱包から取り出してスパッタリングに用いても、スパッタリングでの使用開始時の安定性も長寿命特性も劣化していない梱包された高純度ターゲットを提供すること。例文帳に追加

To provide a packed high purity target in which neither stability nor long service life when starting the use in sputtering is degraded even when the target is stored and carried in a packed condition and taken out of the pack and used in sputtering. - 特許庁