スパッタレートの英語

シリコン基板の深掘り加工プロセスにおいて、生産性を低下させることなく安定したスパッタレートを維持することができるプラズマ処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing method which can keep a stable sputtering rate, without having to reduce productivity in the deep digging processes of a silicon substrate. - 特許庁

このスキャン成膜中に、スパッタガスとしてスパッタレートの異なる２種類のガスを用いて、２つのガスのガス流量を第１、第２のマスフローコントローラ４ａ、４ｂによってそれぞれ制御する。例文帳に追加

During the scan film deposition, using two kinds of gases with different sputtering rates as sputtering gases, the gas flow rates of the two gases are controlled by first and second mass flow controllers 4a, 4b, respectively. - 特許庁

高いＰＴＦが得られてスパッタレートの向上を図ることができ、原料粉末の取り扱い時の危険性も排除できる磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a sputtering target for forming a magnetic recording medium film which can obtain high PTF to improve a sputter rate, and can also eliminate the risk when handling the raw material powder, and to provide a method for manufacturing the sputtering target. - 特許庁

これにより、ターゲット３２の表面に対するエッチング反応物の付着量を低減し、安定したスパッタレートを速やかに確保して、保護膜を効率良く形成することが可能となり、生産性の向上が図れるようになる。例文帳に追加

As a result, it is possible to reduce the deposit of an etching reactant on the surface of the target 32, quickly obtain the stable sputtering rate, and efficiently form a protective film, and the productivity is improve. - 特許庁

異常放電を防止してスパッタレートを安定させ、異常放電によるパーティクルの発生を抑制し、安定した金属酸化物の薄膜からメタル膜への遷移を防止すること。例文帳に追加

To stabilize a sputtering rate by preventing abnormal discharge, to suppress the formation of particles caused by abnormal discharge, and to prevent the transition of stable thin films of metal oxide into metal films. - 特許庁

被処理基板Ｓに、Ｌｉ等を含有する高揮発性膜を形成する場合に、当該膜へのダメージを防止しつつ、高いスパッタレートが得られ、高い量産性が達成できるスパッタリング方法を提供する。例文帳に追加

To provide a sputtering method which can provide a high sputtering rate and achieve high mass-productivity when forming a film containing a highly volatile substance such as Li on a substrate S to be treated, while preventing the film from being damaged. - 特許庁

この構成により、試料４に対するイオンビームの入射角は一定となるので、スパッタ領域全域にわたってスパッタレートが一定となり、もってスパッタ領域全域にわたって試料表面からの深さ方向における高精度な組成分析を行うことが可能となる。例文帳に追加

By this constitution, the angle of incidence of the ion beam with reference to the sample 4 becomes constant, a sputtering rate becomes constant over the whole sputtering region, and the composition in the depth direction from the surface of the sample can be analyzed with high accuracy over the whole sputtering region. - 特許庁

保護膜に必要な（ａ）イオン衝突に強いこと（＝低スパッタレート）、（ｂ）二次電子放出度が高いこと（＝低電圧特性であること）、（ｃ）電荷を蓄積できる十分な絶縁性があること（＝位相差の特性が良好なこと）、を具備するプラズマディスプレイパネル用保護膜を提供する。例文帳に追加

To provide a protective film for a plasma display panel, having such characteristics required for a protective film that (a) the film is strong against ion collisions (=a low sputter rate), (b) the film has a high secondary electron emission rate (=low voltage characteristics), and (c) the film has sufficient insulation properties to store charges (=excellent phase difference characteristics). - 特許庁