sputtering rateとは 意味・読み方・使い方

To provide sputtering device and method high in productivity and working rate.例文帳に追加

生産性が高く、稼働率の高いスパッタ装置及び方法を提供する。 - 特許庁

Further, the respective sputtering surfaces of the adjacent tiles are connected, and the thickness of the tiles in a position where sputtering rate is high is increased.例文帳に追加

さらに、隣接するタイルのスパッタリング面は連続し、スパッタリングされる速度が速い位置のタイルの厚みを厚くする。 - 特許庁

To provide a sputtering system which can secure a satisfactory film deposition rate in a reactive sputtering system where sputtering particles are fed from the oblique direction of a substrate.例文帳に追加

基板の斜め方向からスパッタリング粒子が供給される反応性のスパッタリング装置において、良好な成膜レートを確保できるスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide an Al-based alloy sputtering target capable of increasing a deposition rate (sputter rate) when a sputtering target is used, and preferably capable of preventing the occurrence of splashes.例文帳に追加

スパッタリングターゲットを用いたときの成膜速度（スパッタレート）が高められ、好ましくはスプラッシュの発生を防止できるＡｌ基合金スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering device improved in the film forming rate and the uniformity of the film forming rate and excellent in mass-producibility in a sputtering device provided with plural cylindrical targets.例文帳に追加

複数の円筒形ターゲットを備えたスパッタリング装置において、成膜速度および成膜速度均一性を向上させ、量産性に優れたスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

In that case, deposition of an Al layer 143 is attained in a short time by sputtering power which gave priority to sputtering rate over coverage of the hole 13 (fig (a)).例文帳に追加

ここではＡｌ層１４３の成膜は、ホール１３のカバレッジよりもスパッタレートを優先したスパッタパワーで短時間に達成する（図１（ａ））。 - 特許庁

On sputtering, the preliminarily heated target material 5 is further heated by plasma, so that the sputtering efficiency improves, and the film deposition rate improves.例文帳に追加

スパッタリング時には、予備加熱されたターゲット材料５がプラズマによって、さらに加熱され、スパッタ効率が向上し、成膜レートが向上する。 - 特許庁

To improve a film deposition rate and productivity and further to stabilize quality in sputtering.例文帳に追加

スパッタリングにおける成膜レートおよび生産性を向上すると共に、品質の安定化を図る。 - 特許庁