sputtering processとは 意味・読み方・使い方

To provide a sputtering target capable of improving the using efficiency of a conductive target at a sputtering process, a sputtering chamber including the sputtering target and a sputtering method.例文帳に追加

スパッタ工程において導電性ターゲットの使用効率を向上できるスパッタリング用ターゲットとこれを含むスパッタチャンバー及びスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁

TARGET FOR SPUTTERING CHAMBER AND PROCESS KIT COMPONENT例文帳に追加

スパッタリングチャンバのためのターゲット及びプロセスキット部品 - 特許庁

PLASMA SPUTTERING PROCESS FOR FORMING THIN FILM AND FILM-FORMING APPARATUS例文帳に追加

プラズマスパッタリング薄膜形成方法及び成膜装置 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM DEPOSITION PROCESS USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング装置及びそれを用いた薄膜形成方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR FILM TYPE ANTENNA USING SPUTTERING PROCESS例文帳に追加

スパッタリング工程を利用するフィルム型アンテナの製造方法 - 特許庁

Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET AND PROCESS FOR MANUFACTURING THEREOF例文帳に追加

Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

FePt-C-BASED SPUTTERING TARGET AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

ＦｅＰｔ−Ｃ系スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

The argon may moreover be fed in the process of low pressure sputtering.例文帳に追加

該アルゴンは低圧スパッタリング中にさらに供給されてもよい。 - 特許庁