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Sputtering Rateとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 スパッタ率
「Sputtering Rate」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 146件
STANDARD SAMPLE FOR SPUTTERING RATE CORRECTION, AND METHOD OF CALCULATING SPUTTERING RATE RATIO BY USING THE SAME例文帳に追加
スパッタ率補正用標準試料およびその試料を用いたスパッタ率比の算出方法 - 特許庁
To provide a method for controlling ion density and sputtering rate in a sputtering system.例文帳に追加
スパッタリングシステムにおいてイオン密度とスパッタ率を制御する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a sputtering target having excellent target strength, and a high sputtering rate.例文帳に追加
ターゲット強度に優れ、スパッタ速度が速いスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁
To provide an ECR sputtering system enhanced in sputtering efficiency and high in film deposition rate.例文帳に追加
スパッタ効率を高め、成膜レートが大きいＥＣＲスパッタリング装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a sputtering apparatus capable of constantly controlling the film deposition rate without controlling the sputtering power, the sputtering gas partial pressure, the sputtering gas flow rate or the like.例文帳に追加
スパッタ電力、スパッタガス分圧、スパッタガス流量等の制御を行うことなく成膜速度を一定に制御することを可能にしたスパッタ装置を提供する。 - 特許庁
To provide sputtering device and method high in productivity and working rate.例文帳に追加
生産性が高く、稼働率の高いスパッタ装置及び方法を提供する。 - 特許庁
On sputtering, the preliminarily heated target material 5 is further heated by plasma, so that the sputtering efficiency improves, and the film deposition rate improves.例文帳に追加
スパッタリング時には、予備加熱されたターゲット材料５がプラズマによって、さらに加熱され、スパッタ効率が向上し、成膜レートが向上する。 - 特許庁
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「Sputtering Rate」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 146件
To provide a facing target sputtering apparatus and a facing target sputtering method in each of which a film deposition rate is improved.例文帳に追加
成膜速度を向上させた対向ターゲット式スパッタ装置及び対向ターゲット式スパッタ方法を提供する。 - 特許庁
To improve the utilizing efficiency of a target, the sputtering rate and the precision of film deposition thickness in a sputtering system.例文帳に追加
スパッタリング装置における、ターゲット利用効率及びスパッタ速度と、成膜厚の精度を向上する。 - 特許庁
Further, the respective sputtering surfaces of the adjacent tiles are connected, and the thickness of the tiles in a position where sputtering rate is high is increased.例文帳に追加
さらに、隣接するタイルのスパッタリング面は連続し、スパッタリングされる速度が速い位置のタイルの厚みを厚くする。 - 特許庁
To improve a film deposition rate and productivity and further to stabilize quality in sputtering.例文帳に追加
スパッタリングにおける成膜レートおよび生産性を向上すると共に、品質の安定化を図る。 - 特許庁
As the film deposition in this method is carried out by sputtering, the film deposition rate is higher than that of a vapor deposition method.例文帳に追加
しかも、成膜はスパッタによるものであるため蒸着法に比べると成膜レートが早い。 - 特許庁
The sputtering apparatus 10 is operated in a transition area mode for performing the sputtering at high speed in an atmosphere containing gaseous oxygen by changing the introduction ratio of a sputtering gas to the gaseous oxygen by a flow rate controller 13.例文帳に追加
スパッタリング装置１０は、流量コントローラ１３でスパッタガスと酸素ガスの導入比率を変化させることにより、酸素ガスを含む雰囲気で高速にスパッタリングを行う遷移領域モードで動作させる。 - 特許庁
To provide a sputtering system which can secure a satisfactory film deposition rate in a reactive sputtering system where sputtering particles are fed from the oblique direction of a substrate.例文帳に追加
基板の斜め方向からスパッタリング粒子が供給される反応性のスパッタリング装置において、良好な成膜レートを確保できるスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁
To provide a sputtering apparatus capable of preventing degradation of the film deposition rate even when a target is continuously used, a PDP (plasma display panel) manufacturing device using the sputtering apparatus, a sputtering method, and a method for manufacturing a plasma display panel.例文帳に追加
ターゲットを継続して使用しても、成膜速度が低下することがないスパッタリング装置、このスパッタリング装置を利用したＰＤＰの製造装置、スパッタリング方法及びＰＤＰの製造方法を提供する。 - 特許庁
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