sputtering techniqueとは 意味・読み方・使い方

To provide a sputtering target which can be used for forming a multilayer film having no mutual diffusion or a mutual reaction in an interface between films formed from two different materials through an ion beam sputtering or magnetron sputtering technique.例文帳に追加

イオンビームスパッタやマグネトロンスパッタ法で形成された、異なる２種類の膜材料界面で相互拡散や相互反応のない多層膜が形成可能なスパッタリングターゲットの提供。 - 特許庁

To establish a technique which is capable of turning cobalt or the like to silicide or salicide at mass production level, through high-temperature sputtering method.例文帳に追加

高温スパッタリング法を用いたコバルト等のシリサイド化あるいはサリサイド化技術の量産レベルでの確立を図る。 - 特許庁

To provide a method for forming a transparent thin-film superior in electroconductivity on a glass substrate with a plasma sputtering vapor-deposition technique.例文帳に追加

プラズマスパッタ蒸着による、ガラス基板上への透明なかつ導電性に優れた薄膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To reduce damage of the surface to be deposited, which is caused by a collision of charged particles produced when a film is formed by a magnetron sputtering technique.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング法により成膜を行った場合に荷電粒子の衝突に起因して被堆積面が受けるダメージを小さくする。 - 特許庁

To provide a film-forming method which can efficiently form a film on many substrates by using a gas-flow sputtering technique, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

ガスフロースパッタリング法によって多数の基材に効率よく成膜することができる成膜方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The sputtering apparatus is directed at forming a film on a substrate (W) by using a reactive sputtering technique after having introduced a sputtering gas (Ar) and a reactive gas (O_2) into a decompressed film-forming chamber 10.例文帳に追加

減圧した成膜室１０にスパッタリングガス（Ａｒ）および反応性ガス（Ｏ_2 ）を導入し、反応性スパッタリングによって基板Ｗに成膜を行うスパッタ装置において、まず、スパッタリングガスのみを用いたメタルモード放電を行う。 - 特許庁

To provide a technique which can suppress the generation of particles including Ni-Mo due to an increase in sputtering time in sputtering using an Ni-Mo based alloy target plate.例文帳に追加

Ｎｉ−Ｍｏ系合金ターゲット板を用いたスパッタリングにおいて、スパッタリング時間の増加に伴うＮｉ−Ｍｏを含んだパーティクルの発生を抑制することができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide an indium-oxide-based sputtering target with which a transparent electroconductive oxide film having low resistance and a high refractive index can be industrially produced by a direct-current sputtering technique.例文帳に追加

低抵抗かつ高屈折率の透明導電酸化物膜を直流スパッタリング法により工業的に生産可能な酸化インジウムスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁