パターン幅の英語

被検査パターンのエッジ位置を高速に検出し、被検査パターンのパターン幅と参照データのパターン修正幅を正確に求める。例文帳に追加

To accurately find the pattern width of an inspected pattern and the pattern correction width of reference data by detecting an edge position of the inspected pattern fast. - 特許庁

第２のパターンは、第１のパターンよりも幅が狭く構成される。例文帳に追加

The width of the second pattern is narrower than the width of the first pattern. - 特許庁

パターンを有する基板パターンと、前記基板パターンの近傍に、前記導電パターンよりパターン幅およびパターン間隔が小さい検査パターンから、前記導電パターンよりパターン幅およびパターン間隔が大きい検査パターンまで、漸次変化させた検査用パターンユニットを形成したワークを用意する。例文帳に追加

A work is prepared in which a substrate pattern having a pattern is formed, and an inspection pattern unit changing gradually from an inspection pattern having a pattern width and a pattern interval smaller than those of a conductive pattern to an inspection pattern having a pattern width and a pattern interval larger than those of the conductive pattern is formed in the vicinity of the substrate pattern. - 特許庁

アンテナ素子パターン部１３が給電パターン部１１よりも幅広の導体パターンで形成されるとともに、短絡パターン部１４が給電パターン部１１と同等の幅狭の導体パターンによって形成される。例文帳に追加

The antenna element pattern 13 is formed of a conductor pattern wider than the feeding pattern 11 and the shorting pattern 14 is formed of a narrow conductor pattern equal to the feeding pattern 11. - 特許庁

樹脂パターン１０は、パターン密度が高い高密度領域と、パターン密度が低い低密度領域とを有するものであってもよく、パターン幅の広い広幅領域とパターン幅の狭い細幅領域とを有するものであってもよい。例文帳に追加

The resin pattern 10 may have a high density area of high pattern density and a low density area of low pattern density, and it may have a wide area of wide pattern width and a narrow area of narrow pattern width. - 特許庁

マスク寸法検査マーク３は、製品パターンの線幅と等しい線幅のラインパターン４と、このラインパターン４に隣接して配置されラインパターン４よりも幅が広い基準パターン５とを含んでいる。例文帳に追加

The mask size checking mark 3 includes a line pattern 4 having a line width equal to that of the product pattern and a reference pattern 5 disposed next to the line pattern 4 and having a larger width than the line pattern 4. - 特許庁

配線パターンＷ２の幅は配線パターンＷ１の幅よりも大きく設定される。例文帳に追加

The width of the wiring pattern W2 is set larger than the width of the wiring pattern W1. - 特許庁

パターン幅測長装置、パターン幅測長方法、及び電子ビーム露光装置例文帳に追加

PATTERN WIDTH MEASURING DEVICE, PATTERN WIDTH MEASURING METHOD, AND ELECTRON BEAM EXPOSING DEVICE - 特許庁