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パターン対の英語
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「パターン対」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12813件
対称構造パターン・マッチング例文帳に追加
パターン蓄積部12は、画像に含まれるパターン情報をパターン番号ごとに分類し、パターン番号と、同一のパターン番号の出現回数と、パターン番号に対応するパターン位置に関する情報とを蓄積する。例文帳に追加
The pattern storage unit 12 classifies pattern information included in an image by pattern numbers, and accumulates the pattern numbers, the number of times of appearance of the same pattern number, and information associated with pattern positions corresponding to the pattern numbers. - 特許庁
評価対象パターン決定装置、評価対象パターン決定方法、評価対象パターン決定プログラムおよびパターン評価システム例文帳に追加
DEVICE, METHOD AND PROGRAM FOR DETERMINING PATTERN TO BE EVALUATED AND PATTERN EVALUATION SYSTEM - 特許庁
変異パターンと初期パターンとからなる群から一対のパターンを選んでパターン対中の行列を入れ替える交叉工程S23を行なう。例文帳に追加
A crossing over step S23 to select a pair of patterns from a group consisting of the mutation patterns and the initial pattern and to replace matrices in the pair of patterns is carried out. - 特許庁
レイアウトパターンデータに対してレイアウトパターン検証を行なう(S2)。例文帳に追加
With respect to layout pattern data, a layout pattern is verified (S2). - 特許庁
パターン検査装置、パターン検査方法、及び検査対象試料例文帳に追加
PATTERN INSPECTION DEVICE, PATTERN INSPECTION METHOD, AND TEST PIECE FOR INSPECTION - 特許庁
前記斜入射効果測定用パターンは、回転対称なパターンとしておく。例文帳に追加
The oblique incidence effect measuring pattern is a rotational symmetric pattern. - 特許庁
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「パターン対」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12813件
下地パターンに対して描画パターンを高精度に重ねて描画する。例文帳に追加
To draw a drawing pattern on a base pattern with high precision. - 特許庁
パターン検査装置、パターン検査方法、及び検査対象試料例文帳に追加
PATTERN INSPECTION DEVICE AND METHOD, AND INSPECTION OBJECT SAMPLE - 特許庁
光パターンに対応する主位相パターンに、所定の波面歪みを補正する副位相パターンを足し合わせて位相パターンを作成する。例文帳に追加
A phase pattern is formed by adding a sub-phase pattern correcting specified wavefront distortion to a main phase pattern corresponding to the optical pattern. - 特許庁
どのような縫製ラインを有する裁断パターンに対しても、パターンシーマー用パターンパットのパターンラインを簡単に形成し得るようにする。例文帳に追加
To simply form a pattern line of a pattern pat for a pattern seamer for any cutting pattern having any sewing line. - 特許庁
まず、第1のパターンに対する第2のパターンの重ね合わせ誤差を、第1のパターン及び第2のパターンの少なくとも一方に、反映する(S50)。例文帳に追加
First, a superposition error of the second pattern to the first pattern is reflected in at least one of the first pattern and the second pattern (S50). - 特許庁
メモリパターン等のあるパターンに対する補助パターンと、それ以外のパターンに対する補助パターンを、互いに異なったタイプの補助パターンとする。例文帳に追加
An auxiliary pattern corresponding to a certain pattern such as a memory pattern is formed in a different type of an auxiliary pattern from auxiliary patterns for other patterns. - 特許庁
ダミーパターン追加手段12は、未使用テスタピンに対するダミーパターンを有するダミーパターンデータを、品種テストパターン3が付加された個別テストパターン7に対して追加し、ダミーパターン追加テストパターン8を作成する。例文帳に追加
A dummy pattern adding means 12 adds dummy pattern data having a dummy pattern in regard to an unused tester pin to the individual test pattern 7 added a variety test pattern 3 for preparing a dummy pattern added test pattern 8. - 特許庁
置換パターン検出部53は、RLL変換パターン処理部51により変換された符号パターンから、第2のテーブルにおいて第2の符号パターンに対応付けられている第2のデータパターンを個別に符号パターンに変換して生成される個別変換符号パターンを検出する。例文帳に追加
A replacement pattern detecting part 53 detects an individual conversion code pattern generated by converting a second data pattern made to corresponded to a second code pattern in a second table to code patterns individually from a code pattern converted by the RLL conversion pattern processing part 51. - 特許庁
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