フォトレジストコーティングの英語

光酸不安定基を有する樹脂；光酸発生剤化合物；およびフォトレジストコーティング層の未露光領域への望まれない光発生酸拡散を低減させる様に機能しうるマルチアミド成分；を含むフォトレジスト組成物。例文帳に追加

The photoresist compositions comprise: a resin with photoacid-labile groups; a photoacid generator compound; and a multi-amide component that can function to decrease undesired photogenrated-acid diffusion to unexposed regions of a photoresist coating layer. - 特許庁

フォトレジストコーティング工程中、基板上に異物質が存在しても均一なフォトレジストを具現できるだけでなく、ノズルまたは基板の破損を防止することができる。例文帳に追加

To enable not only realization of uniform photoresist even if foreign objects exist on a substrate in a photoresist coating process, but also prevention of breakdown of a nozzle or the substrate. - 特許庁

本発明の好ましいコーティング組成物は、反射防止の目的、特に下層をなすフォトレジストコーティング層を伴う場合に有用であり、並びに液浸リソグラフィーにおけるバリア層に有用である。例文帳に追加

Preferred coating compositions of the invention are useful for antireflective purposes, particularly with an underlaying photoresist coating layer, as well as for a barrier layer in liquid immersion lithography. - 特許庁

標準オーバーレイターゲットの平面アレイからなるレクチルを、フォトリソグラフィスキャナを用いて、フォトレジストコーティングを施したシリコンウェーハ上に数回露光する。例文帳に追加

A reticle, consisting of the planar array of standard overlay targets, is transferred onto a silicon wafer coated with a photoresist several times through exposure by using a photolithographic scanner. - 特許庁

組成が単純で、作業者及び環境に有害な有機溶媒を含有せず、且つ、半導体集積回路又は液晶ディスプレイのフォトプロセスに使用されるフォトレジスト、或いはフォトレジストコーティング装置及び現像液配管系統のフォトレジスト残渣に対して優れた溶解能を有する水性フォトレジスト洗浄組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an aqueous alkali photoresist cleaning composition having a simple composition, not containing an organic solvent harmful to a worker and the environment, and having excellent solvent power to photoresist used in a photo process of a semiconductor integrated circuit or a liquid crystal display or photoresist residue in a photoresist coating device and a developer piping system. - 特許庁

本発明に係るフォトレジストコーティング装置は、基板にフォトレジストをコーティングするノズル１００と、ノズルの下端に一体に形成されフォトレジストを排出する先端吐出部１００ｂと、先端吐出部１００ｂの前方に位置し、基板上の異物質からノズル１００の先端吐出部１００ｂを保護する異物質防止段差１００ａとを含む。例文帳に追加

Photoresist coating equipment contains the nozzle 100 which performs coating of photoresist to the substrate, a tip spouting portion 100b which is collectively formed in a lower end of the nozzle and spouts photoresist, and a foreign matter preventing step-difference 100a which is positioned ahead of the tip spouting portion 100b and prevents the tip spouting portion 100b of the nozzle 100 from foreign matters on the substrate. - 特許庁