プラズマCVD法の英語

A method for forming an insulation film, having high mechanical strength and low dielectric constant by a plasma CVD method is provided.例文帳に追加

プラズマCVD法により高い機械的強度及び低誘電率を有する絶縁膜を形成するための方法が与えられる。 - 特許庁

To speed up film formation for obtaining good film quality at manufacturing a silicon group thin-film photoelectric transfer layer comprising crystalline on a low-cost substrate at a low temperature by means of plasma CVD method.例文帳に追加

安価な基板上に結晶質を含むシリコン系薄膜光電変換層をプラズマCVD法によって低温で製造する際に成膜速度を向上させ、良好な膜質を得ることを目的とする。 - 特許庁

A method for manufacturing a single crystal diamond by a plasma CVD process in which the pressure in a synthesis chamber is not lower than 80 Torr is disclosed, wherein a raw material gas with helium added thereto is used.例文帳に追加

合成室内の圧力を80torr以上とするプラズマCVD法による単結晶ダイヤモンドの製造方法において、ヘリウムガスを添加した原料ガスを用いることを特徴とする方法。 - 特許庁

In a process for controlling a transmittance of the glass material prepared through a plasma CVD method and comprising, by mol%, 1≤GeO_2≤70, 1≤B_2O_3≤15 and 30≤SiO_2≤98, the transmittance is modified by applying the external energy to the glass material.例文帳に追加

プラズマCVD法により作製され、GeO_2、B_2O_3およびSiO_2からなり、各成分の組成比(モル％比)が、1≦GeO_2≦70、1≦B_2O_3≦15および30≦SiO_2≦98であるガラス材料に外部エネルギーを付与することにより透過率を変化させるガラス材料の透過率制御方法。 - 特許庁

In the plasma CVD method for holding a coating film forming member on a flat surface of a supporter and depositing a protective film on a non-holding surface of the member, the coating film forming member by the flat surface is held by using an adhesive layer deposited on the flat surface.例文帳に追加

支持体上の平坦面に被膜形成部材を保持して該部材の非保持面に保護膜を形成するプラズマCVD法において、前記平坦面による前記被膜形成部材の保持を、前記平坦面表面に形成された粘着層を用いて行うこととする。 - 特許庁