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プラズマCVDの英語
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英訳・英語 plasma CVD; plasma enhanced CVD; plasma assisted CVD; plasma deposition; plasma activated CVD; PECVD
「プラズマCVD」を含む例文一覧
該当件数 : 31件
A system comprises: a plasma CVD reactor 2; a remote plasma chamber 11 which is positioned outside the plasma CVD reactor 2 and is used for providing active species to the inside of the plasma CVD reactor 2; and an electromagnetic wave generator 10, which is positioned outside the plasma CVD reactor 2 and the remote plasma chamber 11 and is used for emitting electromagnetic waves to the inside of the plasma CVD reactor 2.例文帳に追加
プラズマCVDリアクタ２と、プラズマCVDリアクタ２の内部に活性種を与えるための、プラズマCVDリアクタ２の外部に配置された遠隔プラズマチャンバ11と、プラズマCVDリアクタ２の内部に電磁波を放射するための、プラズマCVDリアクタ２及び遠隔プラズマチャンバ１１の外部に配置された電磁波ジェネレータ１０とを含む。 - 特許庁
To provide a film deposition apparatus that is a plasma CVD apparatus in which generation of impurities during film deposition is suppressed.例文帳に追加
プラズマCVD装置において、製膜時の不純物の発生を抑えた製膜装置を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma CVD apparatus having a remote plasma discharging chamber which gives no ion impact and whose cleaning speed is not lowered.例文帳に追加
イオン衝撃が無く、クリーニング速度が低下しない、遠隔プラズマ放電室を有するプラズマCVD装置を与える。 - 特許庁
Provided is a method of forming a hydrocarbon-containing polymer film on a semiconductor substrate by a capacitively-coupled plasma CVD apparatus.例文帳に追加
容量結合型プラズマCVD装置により半導体基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する方法が与えられる。 - 特許庁
To provide a compact plasma CVD apparatus capable of protecting a semiconductor wafer against contamination, and independently of controlling the dissociation of a plurality of processing gases.例文帳に追加
半導体ウエハの汚染を防止し、複数の処理ガスの解離を独立に制御することが可能で、コンパクトなプラズマCVD装置を与える。 - 特許庁
A method for forming an insulation film, having high mechanical strength and low dielectric constant by a plasma CVD method is provided.例文帳に追加
プラズマCVD法により高い機械的強度及び低誘電率を有する絶縁膜を形成するための方法が与えられる。 - 特許庁
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Weblio英和対訳辞書での「プラズマCVD」の英訳 |
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「プラズマCVD」を含む例文一覧
該当件数 : 31件
To provide plasma CVD device and method equipped with on-site plasma cleaning, which removes impurity contamination and improves productivity.例文帳に追加
不純物汚染を無くし、生産性を向上させる現場プラズマクリーニングを備えたプラズマCVD装置及び方法を与える。 - 特許庁
Unwanted reaction products adhering to the inner surface of the plasma CVD reactor 2 absorb electromagnetic waves and are removed at a high speed.例文帳に追加
プラズマCVDリアクタ２の内壁面に付着した不所望な反応生成物は電磁波を吸収し高速で除去される。 - 特許庁
To provide plasma CVD equipment and method of forming a film uniform in thickness and quality by uniforming a temperature distribution of wafer.例文帳に追加
ウエハの温度分布を均一にし、かつ、膜厚及び品質が均一の膜を形成するためのプラズマCVD膜形成装置及び方法を与える。 - 特許庁
A method for forming a silicone polymer insulation film having a low dielectric constant, a high heat resistance, a high humidity resistance and a high oxygen plasma resistance on a semiconductor substrate 4 is applied to a plasma CVD apparatus.例文帳に追加
半導体基板上に，低い比誘電率，高い耐熱性，耐吸湿性及び高い酸素プラズマ抵抗を有するシリコン重合体絶縁膜を形成するための方法がプラズマCVD装置に適用される。 - 特許庁
The plasma CVD film forming equipment comprises a reaction chamber, a shower plate arranged in the reaction chamber, and a susceptor arranged in substantially parallel with and by facing to the shower plate for installing the wafer.例文帳に追加
プラズマCVD膜形成装置は、反応チェンバーと、反応チェンバー内に設置されたシャワープレートと、シャワープレートと実質的に平行に対向して設置された、ウエハを載置するためのサセプタとを含む。 - 特許庁
The method for forming a silicone polymer insulation film having a low relative dielectric constant, a high heat resistance and a moisture absorption resistance is applied to a plasma CVD apparatus.例文帳に追加
低い比誘電率，高い耐熱性及び耐吸湿性を有するシリコン重合体絶縁膜を形成するための方法がプラズマCVD装置に適用される。 - 特許庁
The method for forming a silicon-polymer dielectric film having a low dielectric-constant, high heat-resistance, and superior adsorption-proof, is applied to a plasma CVD apparatus.例文帳に追加
半導体基板上に低比誘電率、高い耐熱性及び高い耐吸湿性を有するシリコン重合体絶縁膜を形成するための方法がプラズマCVD装置に適応される。 - 特許庁
A top clad layer is just to be formed after the heat treatment if required, and can be formed using a CVD method represented by plasma CVD or a PVD method such as a sputtering method.例文帳に追加
トップクラッド層は、必要ならば熱処理後に形成すれば良く、プラズマCVDで代表されるCVD法、あるいはスパッタ法などのPVD法等を用いて形成することができる。 - 特許庁
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