メチレンホスホン酸の英語

半導体基板をジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、もしくはその塩、またはジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）の酸化体、もしくはその塩を０．１〜５０００ｐｐｍ含有する塩基性過酸化水素洗浄液で洗浄する。例文帳に追加

The semiconductor substrate is cleaned in a basic hydrogen peroxide cleaning-liquid containing diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid) or its salt, or containing an oxide of diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid) or its salt at 0.1-5,000 ppm. - 特許庁

ニトリロトリス（メチレン）ホスホン酸金属塩、ニトリロトリス（メチレン）ホスホン酸メラミン塩、１−ヒドロキシエチリデン−１，１′−ジホスホン酸金属塩及び１−ヒドロキシエチリデン−１，１′−ジホスホン酸メラミン塩から得らばれた１種又は２種以上のホスホン酸塩と、メラミンおよびメラミン誘導体から選ばれた少なくとも１種の化合物を含有する難燃剤組成物。例文帳に追加

This flame retardant composition contains at least one phosphonate selected from among metal nitrilotris(methylene)phosphonates, melamine nitrilotris(methylene)phosphonates, metal 1-hydroxyethylidene-1,1'- diphosphonates, and melamine 1-hydroxyethylidene-1,1'-diphosphonates and at least one compound selected from among melamine and melamine derivatives. - 特許庁

ポリエステル系樹脂と、ニトリロトリス（メチレン）ホスホン酸金属塩、ニトリロトリス（メチレン）ホスホン酸メラミン塩、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸金属塩及び１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸メラミン塩から得らばれた１種又は２種以上のホスホン酸塩を含有することを特徴とする難燃性接着剤組成物。例文帳に追加

This flame-retardant adhesive composition is characterized by including a polyester-based resin and one or two or more kinds of phosphonates selected from nitrilotris(methylene) phosphonic acid metal salt, nitrilotris(methylene) phosphonic acid melamine salt and 1-hydroxyethylidene-1,1,- diphosphonic acid melamine salt. - 特許庁

エポキシ樹脂と、ニトリロトリス（メチレン）ホスホン酸金属塩、ニトリロトリス（メチレン）ホスホン酸メラミン塩、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸金属塩及び１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸メラミン塩から得らばれた１種又は２種以上のホスホン酸塩を含有することを特徴とする難燃性接着剤組成物。例文帳に追加

This flame-retardant adhesive composition is characterized by comprising an epoxy resin and one or more kinds of phosphonates selected from a nitrilotris(methylene)phosphonate metal salt, a nitrilotris(methylene) phosphonate melamine salt, 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonate metal salt and 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonate melamine salt. - 特許庁

アミノトリ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ-メチレンホスホン酸、これらの水溶性金属塩より選ばれる１種以上の有機リン酸類と、アクリル酸と２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸および／あるいはこれらの水溶性金属塩を必須構成単位として含む共重合体を逆浸透膜の原水に添加することを特徴とする逆浸透膜表面のスケール抑制方法。例文帳に追加

This scale suppression method for the reverse osmosis membrane surface consists in adding a copolymer containing ≥1 kind of organic phosphoric acids selected from aminotri (methylene sulfonic acid), diethylene triaminepenta- methylene sulfonic acid and their water-soluble metal salts and acrylic acid and 2-acrylamide-2-methylpropane sulfonic acid and/or their water-soluble metal salts as indispensable constitution units to the raw water of the reverse osmosis membrane. - 特許庁

ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸及び／又はその塩を含有し、過酸化物濃度が１．２〜５．０ｍｏｌ／Ｌ、かつｐＨが２〜５の水溶液であることを特徴とする安定性に優れる過酢酸水溶液。例文帳に追加

This peracetic acid aqueous solution excellent in stability is characterized by containing diethylenetriamine pentamethylene phosphonic acid and/or a salt thereof, having peroxide concentration of 1.2 to 5.0 mol/L, and being an aqueous solution having pH 2 to 5. - 特許庁

多くの金属に配位するキレート化剤および過酸化物の分解防止安定剤等の多種多様な用途に用いられる高純度アミノメチレンホスホン酸の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a high purity aminomethylene phosphonic acid which is used in various applications such as chelating agents coordinating to many metals and decomposition preventive stabilizers for peroxides. - 特許庁

シリコンウエハの洗浄液として用いられている過酸化水素水、アンモニア水等へ添加して、その機能を向上するために用いられる高純度のアミノメチレンホスホン酸を提供する。例文帳に追加

To provide a high-purity aminomethylenephosphonic acid usable for improving functions of a cleaning liquid of a silicon wafer by being added to hydrogen peroxide solution, ammonia water or the like used as the cleaning liquid. - 特許庁