不均一半導体の英語

これにより、表面の平滑性及び表面不純物濃度の均一性及び深さの均一性に優れたｎ型半導体領域１６が得られる。例文帳に追加

Thus, it becomes possible to obtain an n-type semiconductor region 16 that is superior in smoothness on the surface and uniformity of surface impurity concentration and depth. - 特許庁

複数の半導体ウエハ間において、不純物の拡散の進行度合が均一化された半導体装置を製造することができる半導体装置の製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing apparatus of a semiconductor device which manufactures the semiconductor device where the advancing degree of dispersion of impurity is equalized among a plurality of semiconductor wafers. - 特許庁

半導体素子の抵抗率の分布の不均一を解消し、半導体素子の耐久性の向上および破損の防止を可能とする半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device which eliminates the nonuniformity of the distribution of resistivity in a semiconductor device to improve the durability, and to prevent the breakage of the semiconductor device. - 特許庁

半導体基板の上に形成された構造体の配置密度や大きさに不均一性があっても、半導体基板を保護しながら所望の構造体を選択的にエッチングすることができる半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of selectively etching the predetermined structure by protecting a semiconductor substrate even though an arrangement density and a size of the structure formed on the semiconductor substrate are nonuniform. - 特許庁

多層配線構造の半導体装置において、はんだバンプの高さや形状が不均一になるのを防ぐことができる半導体装置、およびその製造方法、ならびにこの半導体装置を用いた電子機器を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device of multilayer wiring structure in which the height or shape of solder bumps can be prevented from becoming uneven, and to provide its manufacturing process and an electronic apparatus employing it. - 特許庁

応力の不均一による半導体チップの変形を防止することができ、かつ、両半導体チップ間に封止のための樹脂をスムーズに注入することができる半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device capable of preventing deformation of semiconductor chips due to unevenness of a stress, and smoothly injecting a resin for sealing between both the semiconductor chips. - 特許庁

半導体装置の大容量化を図る場合に、複数半導体素子の並列接続時におけるスイッチング動作を安定化し、かつ、半導体素子内部での不均一動作を抑える。例文帳に追加

To stabilize switching operation at parallel connection of a plurality of semiconductor elements while uneven operation inside the semiconductor element is suppressed, for the larger capacity of a semiconductor device. - 特許庁

不揮発性メモリー装置の製造方法であって、特に半導体パターン厚さの均一性が向上される３次元半導体装置の製造方法、及び当該製造方法によって製造された３次元半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a nonvolatile memory device, especially a method of manufacturing a three-dimensional semiconductor device capable of improving uniformity of a thickness of a semiconductor pattern, and to provide the three-dimensional semiconductor device manufactured by the method. - 特許庁