不均質薄膜の英語

緻密で且つ不純物が少なく、更には基板の面内において膜厚及び膜質が均質な薄膜を形成すること。例文帳に追加

To form a thin film which is compact with less impurities, and has homogenous film thickness and film quality within a plane of a substrate. - 特許庁

導電性、磁性等を必要とする物品に使用するのに適している、金属等の所定膜厚さの厚膜不透明薄膜積層体であって、その膜厚さが幅方向においても、長さ方向においても均質な厚膜不透明薄膜積層体を提供する。例文帳に追加

To provide an opaque membrane laminate, which is a thick film opaque membrane laminate with a predetermined film thickness comprising a metal or the like and suitable for use in an article requiring conductivity, magnetism or the like and homogenous in its film thickness in both of width and length directions thereof. - 特許庁

光変調素子等の光学素子に適用可能で、欠陥、不純物が少なく、緻密且つ均質で結晶性の良好な光学結晶薄膜を比較的低温で製造することができる光学結晶薄膜の製造方法及び光変調素子を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing an optical crystal thin film by which a dense and homogeneous optical crystal thin film having little defect or impurities but preferable crystal properties and applicable for an optical element such as an optical modulation device can be manufactured at comparatively low temperature, and to provide a light modulating element. - 特許庁

品質劣化や新たな追加投資を招くことなく、所望の不純物濃度に制御されたシリコン薄膜を均一、かつ、均質に形成してドープトポリシリコンからなる配線層を形成する。例文帳に追加

To uniformly and homogeneously form a silicon thin film at an optionally controlled impurity concentration without inducing the degradation of quality or newly added investment, and to form a wiring layer made of doped polysilicon. - 特許庁

基材の表面に、金属酸化物の薄膜からなる均質性に優れた微細なパターンを形成する際に高温加熱が不要な方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for eliminating the need for high-temperature heating when forming a fine pattern with improved uniformity being made of the thin film of a metal oxide on the surface of a base. - 特許庁

このように、反応不活性領域４８から反応不活性領域４８に向かって成膜性ガスが移動することにより、反応不活性領域４８において成膜性ガス密度の均一化が促進され、反応活性領域４４において、膜厚、膜質が均質な薄膜は成長する。例文帳に追加

The film depositable gas moves from the reaction inactive region 48 toward the reaction active region 44 in this way, the uniformization in the density of the film depositable gas is promoted in the reaction inactive region 48, and a thin film whose film thickness and film quality are homogeneous grows in the reaction active region 44. - 特許庁