低温イオン照射の英語

本願発明においては、試料を低温に保ちながらイオン注入を行い、それに伴って生成される照射損傷をイオン注入と同時にレーザー光を照射することにより逐次連続的にアニールする方法を提供する。例文帳に追加

The irradiation damage generated with this is serially and continuously annealed by irradiating with laser beams simultaneously with ion injection. - 特許庁

高分子フィルム基材に高エネルギーイオンを照射し、該フィルム基材に活性種を生成するイオン照射工程と、該イオン照射工程の後に、機能性官能基を有するか又は後工程で機能性官能基を導入可能なモノマーであるＡ群から選択される１種以上のモノマーを加えて、該フィルム基材と該モノマーをグラフト重合させるグラフト重合工程とを含む機能性膜の製造方法において、該イオン照射工程の後該グラフト重合工程までの間、該フィルム基材を低温で保持する。例文帳に追加

During a period after the ion irradiating process to the graft polymerization process, the film base material kept at low temperature. - 特許庁

また、レーザ源７から放出されるレーザビームＬ１が高温プラズマ原料８に照射され、イオン密度が１０^17〜１０^20ｃｍ^-3程度の低温プラズマガスが、電極２ａ，２ｂ間に形成されている細い放電チャンネルに供給される。例文帳に追加

Furthermore, laser beams L1 emitted from a laser source 7 are irradiated to a high temperature plasma material 8, and a low temperature plasma gas of an ion density of 10^17-10^20 cm^-3 level is supplied to a narrow discharge channel formed between the electrodes 2a, 2b. - 特許庁

被処理物９が無加熱あるいは低温であると、低吸収かつ緻密で密着性の良い膜を得ることができないため、ターゲット４に高周波を印加するマグネトロンスパッタリングによって発生した中性粒子および負イオンをアシストとして成膜中の被処理物９に照射する。例文帳に追加

Since a dense film with low absorption and tight adhesion cannot be obtained in the case the object 9 to be treated lies under no-heating or low temperature, the object 9 to be treated in the process of the film deposition is irradiated with neutral grains and negative ions generated by magnetron sputtering in which high frequency is applied on a target 4 as assists. - 特許庁