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加熱パターンの英語
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「加熱パターン」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 798件
加熱装置、レジストパターンの形成装置及びレジストパターン形成方法例文帳に追加
HEATING DEVICE, APPARATUS AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁
パターン記憶部9には、サーマルヘッド7による加熱パターンとして、加熱部の占有面積が異なる複数の均一パターンを記憶させる。例文帳に追加
Plural uniform patterns different by occupation area of a heating part are stored in a pattern storage part 9 as heating patterns of a thermal head 7. - 特許庁
加熱処理装置及びパターン形成方法例文帳に追加
HEATING EQUIPMENT AND METHOD FOR PATTERN FORMATION - 特許庁
基板処理方法、加熱処理装置、パターン形成方法例文帳に追加
SUBSTRATE TREATMENT METHOD, HEATING TREATMENT APPARATUS, AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁
抵抗加熱素子用電極パターン及び基板処理装置例文帳に追加
ELECTRODE PATTERN FOR OHMIC-RESISTANCE HEATING ELEMENTS, AND SUBSTRATE TREATING DEVICE - 特許庁
三角加熱の加熱パターン及び加熱経路の生成システム並びにその方法例文帳に追加
HEATING PATTERN OF TRIANGULAR HEATING, PRODUCTION SYSTEM OF HEATING PASSAGE AND ITS METHOD - 特許庁
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「加熱パターン」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 798件
導電膜パターンを加圧してもパターン形状を維持できる硬度が得られるまで加熱する。例文帳に追加
Heating is performed until hardness capable of maintaining the pattern form is obtained when the pattern is pressed. - 特許庁
転写した導電パターン前駆体を露光手段3を用いて加熱し、導電パターンを形成する。例文帳に追加
The transferred conductor pattern precursor is heated using an exposure means 3 to form a conductor pattern. - 特許庁
各磁気抵抗パターンR1〜R4の内の温度上昇の少ない磁気抵抗パターンR1,R4近傍に、磁気抵抗パターンR1,R4を加熱する加熱用抵抗パターンU1,U2を設ける。例文帳に追加
Heating resistance patterns U1, U2 for heating the magnetoresistance patterns R1, R4 are arranged in the vicinity of the magnetoresistance patterns R1, R4 small in a temperature rise in the respective magnetoresistance patterns R1 to R4. - 特許庁
加熱前のフォトレジストパターンの疎密にかかわらずに加熱後に精密な微細配線パターンを得る。例文帳に追加
To obtain a precise fine wiring pattern after heating, regardless of whether a photoresist pattern prior to the heating is fine or coarse. - 特許庁
調理器具を加熱する加熱手段と、予熱時の温度変化パターンである予熱パターンの使用の有無を選択する選択手段とを備える。例文帳に追加
This heating cooker comprises a heating means for heating the cooking utensil, and a selecting means for selecting the use or non-use of a preheating pattern as a temperature change pattern in preheating. - 特許庁
ここで、配線パターン12および錫めっき層34に加熱処理を施す。例文帳に追加
Here, the wiring pattern 12 and the tin plating layer 34 are heated. - 特許庁
パターン形成方法、加熱装置、半導体装置およびその製造方法例文帳に追加
PATTERN FORMING METHOD, HEATER, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF - 特許庁
加熱装置の評価方法とパターン形成方法及び加熱装置の制御方法例文帳に追加
ESTIMATING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD OF HEATING APPARATUS, AND CONTROL METHOD OF HEATING APPARATUS - 特許庁
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