局所酸化の英語

この方法は、半導体性酸化鉄の薄層（９）の一部の鉄原子の酸化の程度を変更するために半導体性酸化鉄の薄層（９）の局所還元及び／又は酸化の工程を少なくとも含む。例文帳に追加

This method includes at least a local reduction and/or oxidation of the thin layer (9) of semiconductive ferrous oxide to change the degree of oxidation of iron atoms of a part of the thin layer (9) of semiconductive ferrous oxide. - 特許庁

被酸化試料１０にオゾンガスを暴露することにより、当該試料の表面に酸化膜を形成するにあたり、被酸化領域を局所加熱する。例文帳に追加

When forming an oxide film on the surface of the sample 10 to be oxidized by exposing the sample 10 to an ozone gas, a target oxidation region is locally heated. - 特許庁

酸化源を含む高圧溶液を基板表面に噴出することにより、基板表面層に局所的に酸化膜を形成する酸化膜形成方法である。例文帳に追加

In the oxide film forming method, the oxide film is locally formed on a substrate surface layer by jetting a high-pressure solution comprising an oxidation source on a substrate surface. - 特許庁

金属亜鉛ナノ構造体１に対して局所的な電界２を印加して生じた電界放射電流によって、金属亜鉛ナノ構造体１中の局所部分５を結晶化酸化亜鉛に変化させる。例文帳に追加

In this method, a local part 5 in a metal zinc nanostructure 1 is converted to a crystallized zinc oxide, by field-emission current generated by applying a local electric field 2 to the metal zinc nanostructure 1. - 特許庁

チタンシリサイド電極構造を有する半導体デバイスにおいて、ゲート酸化膜の局所削れや、チタンシリサイド層の局所的な削れが生じないデバイス構造及びその製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To realize a device structure which does not cause partial shaving of a gate oxide film or partial shaving of a titanium silicide layer, in a semiconductor device which has titanium silicide electrode structure, and its manufacturing method. - 特許庁

局所配線層を形成した半導体基板を酸素を含む雰囲気中で熱処理した場合に、この局所配線層の酸化を防止できるようにした半導体装置及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device in which, when a semiconductor substrate formed with a local wiring layer is heat treated in an atmosphere containing an oxygen, an oxidation of this local wiring layer can be prevented; and to provide a method for manufacturing the same. - 特許庁

スペーサ層６を形成する金属膜に局所的にＡｒイオンビームを照射し、そののちに当該金属膜を酸化処理する。例文帳に追加

After irradiating locally a metal film forming a spacer layer 6 with an Ar ion beam, the metal film is subjected to an oxidation processing. - 特許庁

クロモグリク酸ナトリウム、抗ヒスタミン剤、抗酸化剤及び水を含有することを特徴とする抗アレルギー用局所投与液剤である。例文帳に追加

This topical administration solution for antiallergy is characterized by including sodium cromoglycate, antihistamic agent, antioxidant and water. - 特許庁