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布磨機の英語
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「布磨機」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 119件
研磨布用ガイドウェイト、揚送研磨機及び揚送研磨機への研磨布の装着方法例文帳に追加
GUIDEWEIGHT FOR POLISHING CLOTH, LIFTING TYPE POLISHING MACHINE AND INSTALLATION METHOD OF POLISHING CLOTH TO LIFTING TYPE POLISHING MACHINE - 特許庁
化学的機械的研磨用研磨布およびそれを用いた化学的機械的研磨装置例文帳に追加
POLISHING CLOTH FOR CHEMIMECHANICAL POLISHING AND CHEMIMECHANICAL POLISHER USING SAME - 特許庁
研磨スラリーの分布を調整するための化学的機械研磨パッド例文帳に追加
CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD FOR ADJUSTING DISTRIBUTION OF POLISHING SLURRY - 特許庁
圧力分布調整機能を有する研磨装置および研磨方法例文帳に追加
POLISHING DEVICE AND METHOD WITH PRESSURE DISTRIBUTION CONTROL FUNCTION - 特許庁
化学的機械研磨の研磨布のドレッシングの際、研磨布が面内で均一な摩耗量分布を示すドレッシング方法を提供する。例文帳に追加
To provide a dressing method to indicate uniform wear amount distribution in a surface during dressing of the polishing cloth of a chemical mechanical polishing. - 特許庁
研磨装置が、研磨剤の塗布を研磨布へ行う場合に、スプレーノズル或いはスリットノズル５４を用いて直接塗布する機構を具備している。例文帳に追加
When a polishing device applies the polishing agent to the polishing cloth, it has a direct applying mechanism using a spray nozzle or a slit nozzle 54. - 特許庁
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「布磨機」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 119件
スラリー分布制御可能な化学機械研磨装置例文帳に追加
CHEMICAL MACHINE POLISHING DEVICE CAPABLE OF CONTROLLING SLURRY DISTRIBUTION - 特許庁
研磨布上にスラリーを供給する工程と、研磨ヘッドに保持され、有機膜を有する半導体基板を前記研磨布に当接させる工程と、研磨布および研磨ヘッドを回転させる工程と、研磨布および研磨ヘッドを停止させる工程とを含み、前記研磨布および研磨ヘッドの回転および停止を繰り返して前記有機膜を化学的機械的に研磨することを特徴とする。例文帳に追加
The organic film is chemically mechanically polished by repeating the rotation and stoppage of the polishing cloth and the polishing head. - 特許庁
ベルト式揚送研磨機の研磨布を引き出して容易に緊張状態に保持する研磨布の保持装置を安価に提供する。例文帳に追加
To inexpensively provide an abrading cloth holding device for drawing out an abrading cloth of a belt-type elevating and carrying abrading machine and easily holding it under a stretched condition. - 特許庁
揚送研磨機の研磨布保持装置による研磨布の保持を確実かつ容易に行うことができるようにする。例文帳に追加
To surely and easily retain a polishing cloth by a polishing cloth retainer of a lift polishing machine. - 特許庁
研磨布洗浄装置１３は、研磨布洗浄機構９、ドライアイス粒子噴射機構１４、及び、揺動機構１５を備えている。例文帳に追加
The abrasive cloth cleaning device 13 is furnished with an abrasive cloth cleaning mechanism 9, a dry ice particle spouting mechanism 14 and an oscillating mechanism 15. - 特許庁
化学的機械的研磨を行う前に、ステップＳ１０で研磨対象における膜厚分布を測定する。例文帳に追加
Before chemical-mechanical polishing, the distribution of film thickness of the workpiece is measured in Step S10. - 特許庁
ベルト式揚送研磨機における研磨布の装着作業の容易化を図る。例文帳に追加
To facilitate installation work of a polishing cloth in a belt lifting type polishing machine. - 特許庁
遊技球循環経路に研磨布を設け、遊技球を機内で自動的に研磨可能とした。例文帳に追加
A game ball circulation path is provided with a polishing fabric thereby enabling the automatic polishing of the game balls within the machine. - 特許庁
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